【技术实现步骤摘要】
本技术涉及陶瓷圈的，具体涉及一种石墨舟陶瓷圈。
技术介绍
1、在晶硅电池片生产流程中，涉及到膜层的制备，常用的有pecvd法或者lpcvd法，亦或是ald原位沉积法。一般pecvd/lpcvd沉积均需要使用石墨舟作为载体装载硅片，便于运输。石墨舟由石墨舟片、陶瓷圈、陶瓷杆、石墨杆、石墨隔块等石墨配件组成。石墨舟上固定有不同数量的石墨舟片,石墨舟片是用陶瓷杆穿套起来的,石墨舟片之间依靠同样穿套在陶瓷杆上的陶瓷圈控制距离。
2、在topcon电池制作过程中，背面氧化层的制备是该技术的重心，背面氧化层的制备一般使用到的气体有笑气，硅烷，磷烷，氢气。石墨舟在使用过程中各部分表面上会被镀上氧化硅以及掺磷的多晶硅，随着使用次数的增加，膜层逐渐增厚，两片舟页之间会导通，进而会影响硅片膜层的质量。现有的石墨舟的陶瓷圈主要有两种，一种是实心，表面无螺纹，一种表面有螺纹，内部有锯齿状的凹槽，便于气体流通，但该种结构还是难以改善石墨舟随着使用次数的增加舟页之间导通的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种石墨舟陶瓷圈，以克服现有技术中的上述缺陷。
2、一种石墨舟陶瓷圈,包括外环及内环，所述外环套设于内环上并与内环连为一体，沿内环圆周的上下对称设有横截面为梯形结构的内槽，所述外环上均布有若干环形槽。
3、优选地，所述内槽的内边与内环的夹角为70°。
4、优选地，所述内环的长度大于外环的长度。
5、优选地，每个环形环形槽的宽度为0.7mm
6、优选地，相邻两个环形槽之间的距离为0.3mm。
7、本技术具有如下优点：
8、本技术在使用时，通过外环外周表面的环形槽结构以及内环增加一梯形的内槽，从而能够减缓气体的流动，进而改善石墨舟随着使用次数的增加舟页之间导通导致沉积膜层质量下降的问题。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种石墨舟陶瓷圈,其特征在于：包括外环(1)及内环(2)，所述外环(1)套设于内环(2)上并与内环(2)连为一体，沿内环(2)圆周的上下对称设有横截面为梯形结构的内槽(3)，所述外环(1)上均布有若干环形槽(4)。
2.根据权利要求1所述的一种石墨舟陶瓷圈,其特征在于：所述内槽(3)的内边与内环(2)的夹角为70°。
3.根据权利要求1所述的一种石墨舟陶瓷圈,其特征在于：所述内环(2)的长度大于外环(1)的长度。
4.根据权利要求1所述的一种石墨舟陶瓷圈,其特征在于：每个环形环形槽(4)的宽度为0.7mm。
5.根据权利要求1所述的一种石墨舟陶瓷圈,其特征在于：相邻两个环形槽(4)之间的距离为0.3mm。
【技术特征摘要】
1.一种石墨舟陶瓷圈,其特征在于：包括外环(1)及内环(2)，所述外环(1)套设于内环(2)上并与内环(2)连为一体，沿内环(2)圆周的上下对称设有横截面为梯形结构的内槽(3)，所述外环(1)上均布有若干环形槽(4)。
2.根据权利要求1所述的一种石墨舟陶瓷圈,其特征在于：所述内槽(3)的内边与内环(2)的夹角为70°...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢申衡，吴群峰，胡成杰，
申请(专利权)人：合肥大恒智慧能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。