【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及植物栽培，具体涉及一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法。
技术介绍
1、甜瓜，又名香瓜、哈密瓜、白兰瓜等，是葫芦科黄瓜属植物。甜瓜含有大量的碳水化合物及营养物质，口感多汁，能帮人们清暑热，解烦渴。甜瓜对光照、温度的要求很高，喜温暖、阳光充足的环境。目前，甜瓜的栽培主要采用露地、大棚和日光温室栽培；由于土地的不科学使用和生态环境恶化，常规栽培均出现了土壤污染、肥力下降、病虫害频发、土地流转成本高昂和劳动成本增加的问题。虽然与露地栽培相比，温室和大棚增温可以将育苗期提前，但是目前的温室和大棚建设标准低、不规范，大部分均为简易拱形塑料棚，棚体结构老化，增温、保温和抵御冰冻洪涝灾害的能力差，导致每年都有育坏瓜苗的现象发生，浪费大量人力物力，增加生产成本。
2、人工光型植物工厂具有高精度控制生产环境、自动化程度高且不受或很少受自然条件限制等优势，是目前植物栽培中较为先进的技术。将人工光型植物工厂用于甜瓜栽培，可缩短甜瓜生长周期，提高甜瓜品质，实现甜瓜的周年、连续、高效、绿色生产。
3、果实糖含量是甜瓜品质高低的评价指标之一，如何通过合理控制人工光型植物工厂的参数，使栽培的甜瓜具有更短的生长周期和更高的果实糖含量，具有良好的商业价值。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，以缩短甜瓜的生长周期和提高果实糖含量。
2、本专利技术通过下述技术方案实现：
3、一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，包括以
4、s1、育苗：将甜瓜种子采用清水浸种后进行避光催芽，催芽后的种子置于含有营养液的育苗盘中，进行第一次光照处理开始育苗，其中，第一次光照处理的光质条件为：远红光10-15%、红光25-30%、蓝光25-30%和白光25-30%，第一次光照处理的周期为24h/d；
5、s2、定植分栽：当甜瓜种苗的2-3片真叶完全展开后，将甜瓜种苗进行定植分栽，进行第二次光照处理、采用无土栽培开始栽培，直至甜瓜种苗长至开花授粉期；第二次光照处理的光质条件为：远红光18-22%、红光18-22%、蓝光18-22%和白光34-46%，第二次光照处理的周期为13-15h/d；
6、s3、开花授粉、收获：待开出第一朵花时，昼温和夜温交替所需时间为0.25-1h,其中，昼温为25-30℃，夜温为16-18℃；继续栽培至甜瓜收获。
7、本专利技术通过合理控制甜瓜不同生产阶段的光质条件（光质比）、光照处理的周期（光照周期）以及配合控制开花授粉-收获过程中的昼温和夜温交替所需时间，能够大大缩短甜瓜幼苗期的时间，进而缩短甜瓜的整体生长周期，且本专利技术调控开花授粉-收获过程中的昼温和夜温交替所需时间，增加甜瓜可溶性固形物含量、可溶性总糖含量、有机酸含量和糖酸比，提升甜瓜风味品质。
8、在一种优选方式中，步骤s1中，第一次光照处理的周期为22-24h/d。
9、本专利技术通过延长育苗阶段的光照周期，可明显缩短甜瓜幼苗期，进而实现进一步缩短甜瓜的总生育期（生产周期）。
10、在一种优选方式中，步骤s1中，第一次光照处理的光照强度为200-250μmol/m2s；温度为25-28℃。
11、在一种优选方式中，步骤s1中，第一次光照处理的co2浓度为700-900ppm，湿度为50-60%。
12、在一种优选方式中，步骤s2中，将甜瓜种苗定植分栽在带有基质的栽培槽内，再将栽培槽置于含有营养液的栽培架上。
13、本专利技术的上述栽培方式并未采用常规的直接利用营养液进行栽培，而是先将甜瓜种苗定植分栽在带有基质的栽培槽内，再将栽培槽置于含有营养液的栽培架上进行栽培，可明显缩短甜瓜的伸蔓期和果实膨大成熟期，进而缩短了甜瓜的总生育期。并且，能够进一步增加甜瓜可溶性固形物含量、可溶性总糖含量、有机酸含量和糖酸比，尤其是对甜瓜的可溶性总糖含量的增幅明显。
14、在一种优选方式中，步骤s2中，进行第二次光照处理的昼温为28-35℃，夜温为15-18℃。
15、在一种优选方式中，步骤s2中，第二次光照处理的光照强度为250-300μmol/m2s。
16、在一种优选方式中，步骤s1中，避光催芽的温度为28-30℃。
17、在一种优选方式中，营养液的ec值为1.2±0.2 ms/cm，ph值为6.0±0.5。
18、本专利技术与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
19、本专利技术在植物工厂内通过调控环境可以大大缩短甜瓜常规栽培的生长周期，再通过调控植物工厂内的光照周期、光质比和栽培方式进一步缩短生育期，提高经济效益。在品质上，本专利技术通过调控开花授粉-收获过程中的昼温和夜温交替所需时间，增加甜瓜可溶性固形物含量、可溶性总糖含量、有机酸含量和糖酸比，提升甜瓜风味品质。
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1.一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤S1中，所述第一次光照处理的周期为22-24h/d。
3.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤S1中，所述第一次光照处理的光照强度为220-250μmol/m2s；温度为25-28℃。
4.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤S1中，所述第一次光照处理的CO2浓度为700-900ppm，湿度为50-60%。
5.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤S2中，将所述甜瓜种苗定植分栽在带有基质的栽培槽内，再将栽培槽置于含有所述营养液的栽培架上。
6.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤S2中，进行第二次光照处理的昼温为28-35℃，夜温为15-18℃。
7.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤S2
8.根据权利要求1-7任一项所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤S1中，所述避光催芽的温度为28-30℃。
9.根据权利要求1-7任一项所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，所述营养液的EC值为1.2±0.2 mS/cm，pH值为6.0±0.5。
...【技术特征摘要】
1.一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤s1中，所述第一次光照处理的周期为22-24h/d。
3.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤s1中，所述第一次光照处理的光照强度为220-250μmol/m2s；温度为25-28℃。
4.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤s1中，所述第一次光照处理的co2浓度为700-900ppm，湿度为50-60%。
5.根据权利要求1所述的一种基于植物工厂的甜瓜无土栽培方法，其特征在于，步骤s2中，将所述甜瓜种苗定植分栽在带有...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭洁，杨晓，赵中莹，杨其长，胡娅晴，
申请(专利权)人：中国农业科学院都市农业研究所，
类型：发明
国别省市：
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