【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及多晶硅，具体涉及一种多晶硅还原炉电极打磨装置。
技术介绍
1、改良西门子法是国际上生产多晶硅的主流技术，其核心设备为还原炉，还原炉的工作原理是通过通电高温硅芯将三氯氢硅与氢气的混和气体反应生成多晶硅并沉积在硅芯上。还原炉的反应物料从底盘进入还原炉内，炉内的反应是以1050℃左右的硅芯为载体，在表面发生化学气相沉积，生成多晶硅棒。在此过程中，同时会在电极和还原炉底盘局部形成坚硬的垢层；垢层会对还原炉的绝缘性能产生严重影响；同时，还原炉反射面的反射效率降低，影响其能耗指标，而且会对产品质量产生严重影响。所以垢层必须及时清理。
2、目前产生的垢层主要依靠操作人员采取砂纸打磨或者手持打磨工具等进行人工作业。人工作业会造成还原炉的电极、磁环及炉底等表面打磨及抛光的处理精度不可控。打磨精度的不够会导致倒炉的情况。在人工打磨的过程中，粉尘以及有毒物质会对操作人员造成伤害，而且人工操作效率低。综上所述，目前的清理方式效率低，效果不好，且易对作业人员造成健康威胁，且影响产品质量。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是克服上述现有技术的缺陷，提供一种打磨效率高、精度高、清理效果好、操作方便、安全环保的一种多晶硅还原炉电极打磨装置。
2、为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案为：
3、一种多晶硅还原炉电极打磨装置，所述的装置包括：底盘1、旋转座2、打磨座9、锥齿轮箱91、驱动轴92、打磨锥筒93和电机10；
4、所述的底部带凸缘的环形底盘1
5、打磨座9底部设置电机10，电机10与驱动轴92连接，驱动轴92上设置若干锥齿轮箱91，锥齿轮箱91的底部与打磨座9连接，另一端设置打磨锥筒93。
6、进一步的，所述的底盘1的顶端外周设置环形齿条i5；
7、旋转座2上设置驱动电机11，驱动电机11上的齿轮i16与齿条i5啮合。
8、进一步的，所述的旋转座2靠打磨座9一侧设置竖向齿条ii6，打磨座9两端分别设置的升降电机12带动的齿轮ii17与齿条ii6啮合。
9、进一步的，所述的齿条ii6的底端设置低限位器7，其顶端设置高限位器8。
10、进一步的，所述的打磨座9底部设置若干吸尘管94，吸尘管94通过管道与抽气管13相连。
11、进一步的，所述的旋转座2靠打磨座9一侧设置榫条14，打磨座9两端分别设置的卯槽15与榫条14间隙配合。
12、进一步的，所述的底盘1底部设置三个以上的水平脚19；水平脚19上设置水平尺i3；
13、打磨座9上设置水平尺ii4。
14、进一步的，所述的打磨锥筒93内可拆卸设置打磨层96。
15、进一步的，所述的底部带凸缘的环形底盘1的凸缘上设置若干固定块18；
16、底部带凸缘的环形底盘1的凸缘上设置若干螺孔20。
17、进一步的，所述的装置还包括控制器；
18、所述的控制器与电机10、驱动电机11和升降电机12连接。
19、本专利技术提供的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，将打磨轮和吸尘管设置在打磨座底部，打磨座通过卯槽与旋转座上的榫条间隙配合与旋转座连接，旋转座可活动的设置在底盘上，底盘通过与其上的螺孔配合的螺栓与还原炉底盘连接。打磨座上的卯槽与榫条间隙配合，打磨座可以在榫条上活动。打磨座的两端分别设置的升降电机，升降电机上的齿轮与旋转座上的竖向齿条啮合，升降电机驱动打磨座在两个旋转座之间升降。低限位器和高限位器限制升降电机的最低和最高位置。
20、本专利技术提供的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，旋转座上设置驱动电机，驱动电机上的齿轮与底盘的顶端外周设置的环形齿条啮合，该驱动电机驱动旋转座在底盘上运动，从而带动打磨座在底盘内旋转。
21、打磨座底部的一端设置电机，电机与驱动轴连接，驱动轴上设置若干锥齿轮箱，锥齿轮箱的底部与打磨座连接，锥齿轮箱的另一端设置打磨锥筒。锥齿轮箱箱内的锥齿轮组将驱动轴的动力传到打磨锥筒，从而驱动打磨锥筒转动。
22、本专利技术提供的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，吸尘管设置在打磨座底部，吸尘管通过管道与抽气管相连，抽气管连接吸尘装置(如吸尘器)，将打磨下来的粉尘收集。
23、本专利技术提供的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，底盘底部设置三个以上的水平脚，水平脚上设置水平尺，打磨座也可以设置水平尺。使用时，调整水平角，以保证整个装置在还原炉底盘上水平安装，保证打磨精度。
24、底部带凸缘的环形底盘的凸缘上的若干固定块可以加强底盘的强度。
25、升降电机、驱动电机和打磨座上的电机与控制器连接，由控制器控制升降电机、驱动电机和打磨座上的电机，以实现打磨清理的自动化和精细化控制。
26、与现有技术相比，本专利技术提供的一种多晶硅还原炉电极打磨装置的优点：
27、(1)打磨效率高、精度高。
28、(2)清理效果好。
29、(3)操作方便。
30、(4)安全环保。
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1.一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于，所述的装置包括：底盘(1)、旋转座(2)、打磨座(9)、锥齿轮箱(91)、驱动轴(92)、打磨锥筒(93)和电机(10)；
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的底盘(1)的顶端外周设置环形齿条I(5)；
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的旋转座(2)靠打磨座(9)一侧设置竖向齿条II(6)，打磨座(9)两端分别设置的升降电机(12)带动的齿轮II(17)与齿条II(6)啮合。
4.根据权利要求3所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的齿条II(6)的底端设置低限位器(7)，其顶端设置高限位器(8)。
5.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的打磨座(9)底部设置若干吸尘管(94)，吸尘管(94)通过管道与抽气管(13)相连。
6.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的旋转座(2)靠打磨座(9)一侧设置榫条(14)，打磨座(9)两端
7.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的底盘(1)底部设置三个以上的水平脚(19)；水平脚(19)上设置水平尺I(3)；
8.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的打磨锥筒(93)内可拆卸设置打磨层(96)。
9.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的底部带凸缘的环形底盘(1)的凸缘上设置若干固定块(18)；
10.根据权利要求3所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的装置还包括控制器；
...【技术特征摘要】
1.一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于，所述的装置包括：底盘(1)、旋转座(2)、打磨座(9)、锥齿轮箱(91)、驱动轴(92)、打磨锥筒(93)和电机(10)；
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的底盘(1)的顶端外周设置环形齿条i(5)；
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的旋转座(2)靠打磨座(9)一侧设置竖向齿条ii(6)，打磨座(9)两端分别设置的升降电机(12)带动的齿轮ii(17)与齿条ii(6)啮合。
4.根据权利要求3所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的齿条ii(6)的底端设置低限位器(7)，其顶端设置高限位器(8)。
5.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉电极打磨装置，其特征在于：所述的打磨座(9)底部设置若干吸尘管(9...
【专利技术属性】
技术研发人员：张军文，高志明，赵以宏，魏致凯，
申请(专利权)人：青海亚洲硅业多晶硅有限公司，
类型：发明
国别省市：
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