【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及等离子体医学领域，尤其涉及等离子体射流离子源、制备方法及应用。
技术介绍
1、等离子体医学是研究等离子体对生物体作用效应的一门新兴学科。由于大气压低温等离子体射流具有安全、无毒性、无残留、成本低廉等多种优势，在血液凝结、癌症治疗、病菌灭活等多个领域得到了广泛应用。大气压低温等离子体能有效诱导凋亡癌细胞，且对正常细胞的副作用极为有限，因此使用大气压低温等离子体射流治疗癌症也成为等离子体医学的研究热点。目前发现等离子体射流对癌症的治疗方式不仅有诱导凋亡癌细胞，同时还包括影响癌细胞的细胞周期、抑制癌细胞增殖、诱导凋亡干细胞等。与传统的抗癌方式相比，等离子体射流具有治疗周期短，生效速度快，对人体危害小等特点。
2、目前研究中的等离子体装置电极间距基本停留在几毫米以上，而针对更小电极间距对放电效果的影响的探索还较为有限，并且放电间距控制不准确。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的是提供一种等离子体射流离子源、制备方法及应用，以解决等离子体装置电极间距较大，放电间距控制不准确的技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了一种等离子体射流离子源，包括：
3、安装体，所述安装体为一体成型，所述安装体具有金属容纳腔、正极安装位、第一注入孔和载气流道。所述金属容纳腔为环状结构，位于所述安装体内形成负极安装位，与所述正极安装位相对设置，且二者之间具有预设间距。所述第一注入孔位自所述金属容纳腔远离所述正极安装位一侧，与金属容纳腔连通。所述载气流道贯
4、正电极，固定于所述正极安装位。
5、负电极，填充于金属容纳腔内，所述负电极的材料的熔点低于所述安装体的材料的熔点。
6、根据本申请的实施方式，所述第一注入孔的数量为2个以上，且均与所述金属容纳腔连通，并环绕所述金属容纳腔均匀分布。
7、根据本申请的实施方式，所述安装体包括第一安装本体和在所述第一安装本体的顶面上分布的封气部、支撑柱、支撑面和针头固定部。
8、所述金属容纳腔和所述第一注入孔位于所述第一安装本体。所述封气部位于所述第一安装本体的中心，二者具有贯穿的针孔，形成所述正极安装位，所述正电极为空心针管，针头固定在所述针头固定部内与所述支撑面相抵，针尖延伸至所述针孔位于所述第一安装本体的部分，所述空心针管的中心为所述载气流道。
9、根据本申请的实施方式，所述安装体包括第二安装本体和突出于在所述第二安装本体的顶面的环形腔室，所述环形腔室形成所述正极安装位。所述正电极为环形电极，填充于所述正极安装位内。所述载气流道位于所述正极安装位的中心。
10、根据本申请的实施方式，所述金属容纳腔数量为多个，并在所述第二安装本体上呈阵列式分布。所述多个金属容纳腔数量对应的负电极连接为一体。
11、所述环形腔室和所述载气通道的数量为均多个，均与所述金属容纳腔一对一设置。所述第二安装本体具有多个环绕并连通各所述环形腔室的第二注入孔。所述第二安装体还具有连通部分相邻的环形腔室之间的连通通道，使得所有正电极连为一体。
12、根据本申请的实施方式，各金属容纳腔外侧完全连通，形成板状腔体，各负电极连接形成板状结构，所述板状结构内具有多个与金属容纳腔内径对应的圆孔。
13、所述第二安装本体的外侧具有多个与所述板状腔体连通的侧开孔。
14、根据本申请的实施方式，所述等离子体射流离子源还包括气罩，所述气罩的上开口与外界的通气管连通，所述气罩的下开口与所述第二安装本体的外周面贴合，用于为各载气通道提供载气。
15、所述气罩的上开口位于所述气罩的中心，各载气通道的孔径沿所述第二安装本体向外逐渐增大。
16、本申请还公开了一种上述的等离子体射流离子源的制备方法，包括以下步骤：
17、通过3d打印制作上述的安装体。
18、将伍德合金放置于97～100℃的水中，待所述伍德合金融化后，将伍德合金金属液从第一注入孔和/或第二注入孔注入至所述安装体相应的腔室中，冷却后形成对应电极。
19、本申请还公开了一种上述的等离子体射流离子源在诱导胶质瘤细胞凋亡的中应用。
20、根据本申请的实施方式，所述预设间距为0.3～0.7mm，载气的流速为0.05～0.5l/min，外接的交流电压为3～5.5kv，电压频率为18.5khz。
21、上述的等离子体射流离子源中，由于安装体为一体成型的结构，金属容纳腔和正极安装位的预设间距，可以精确的控制在1mm以内。金属熔液从第一注入孔位注入金属容纳腔开始填充，因此负电极紧贴在金属容纳腔靠近正极安装位一侧的表面，而正电极固定在正极安装位上，因此负电极和正电极的电极间距即为预设间距，达到了精确控制电极间距，准确控制放电间距的目的。
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1.一种等离子体射流离子源，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述第一注入孔的数量为2个以上，且均与所述金属容纳腔连通，并环绕所述金属容纳腔均匀分布。
3.根据权利要求1所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述安装体包括第一安装本体和在所述第一安装本体的顶面上分布的封气部、支撑柱、支撑面和针头固定部；
4.根据权利要求1所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述安装体包括第二安装本体和突出于在所述第二安装本体的顶面的环形腔室，所述环形腔室形成所述正极安装位；所述正电极为环形电极，填充于所述正极安装位内；所述载气流道位于所述正极安装位的中心。
5.根据权利要求4所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述金属容纳腔数量为多个，并在所述第二安装本体上呈阵列式分布；所述多个金属容纳腔数量对应的负电极连接为一体；
6.根据权利要求5所述的等离子体射流离子源，其特征在于，各金属容纳腔外侧完全连通，形成板状腔体，各负电极连接形成板状结构，所述板状结构内具有多个与金属容纳腔内径对应的圆孔；p>
7.根据权利要求5所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述等离子体射流离子源还包括气罩，所述气罩的上开口与外界的通气管连通，所述气罩的下开口与所述第二安装本体的外周面贴合，用于为各载气通道提供载气；
8.一种权利要求1～7中任一项所述的等离子体射流离子源的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
9.一种权利要求1～9中任一项所述的等离子体射流离子源在诱导胶质瘤细胞凋亡的中应用。
10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，所述预设间距为0.3～0.7mm，载气的流速为0.05～0.5L/min，外接的交流电压为3～5.5kV，电压频率为18.5kHz。
...【技术特征摘要】
1.一种等离子体射流离子源，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述第一注入孔的数量为2个以上，且均与所述金属容纳腔连通，并环绕所述金属容纳腔均匀分布。
3.根据权利要求1所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述安装体包括第一安装本体和在所述第一安装本体的顶面上分布的封气部、支撑柱、支撑面和针头固定部；
4.根据权利要求1所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述安装体包括第二安装本体和突出于在所述第二安装本体的顶面的环形腔室，所述环形腔室形成所述正极安装位；所述正电极为环形电极，填充于所述正极安装位内；所述载气流道位于所述正极安装位的中心。
5.根据权利要求4所述的等离子体射流离子源，其特征在于，所述金属容纳腔数量为多个，并在所述第二安装本体上呈阵列式分布；所述多个金属容纳腔数量对应的负电极连接为一...
【专利技术属性】
技术研发人员：李华，蒙柳君，蒋雪萍，梁振保，王风云，杜晓霞，
申请(专利权)人：桂林电子科技大学，
类型：发明
国别省市：
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