【技术实现步骤摘要】
本技术涉及升降机构相关，具体为一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构。
技术介绍
1、化学气相沉积设备是一种用于制备高质量金刚石薄膜和其他材料的重要技术，在这种设备中，样品沉积台是一个关键部件，用于支撑和定位待沉积的样品，沉积台的升降结构则负责精确地调整样品与等离子体源之间的距离，以优化沉积过程，沉积台通常具有升降功能，能够精确地调整样品与等离子体源之间的距离，这一功能对于优化沉积过程至关重要，因为距离的变化会直接影响等离子体密度、温度和成分分布，从而影响沉积速率、晶体结构和材料性能。
2、在现有的化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构中，没有对沉积台设置导向机构，容易偏离预定的路径，导致升降过程中的准确性欠缺，因此需要提出一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，包括支撑架，所述支撑架的上方两侧固定有滑轨，所述滑轨的外侧套设有滑块，所述支撑架的上方两侧均安装有液压缸，所述液压缸的上方安装有液压杆，所述液压杆的的外侧固定有连接盘，所述连接盘的一侧固定有导向杆，所述导向杆的上方一侧套设有限位套，所述液压杆的上方固定有升降台，所述升降台的上方固定有绝缘衬底。
3、优选的，所述升降台通过滑块与滑轨构成滑动结构，所述
4、优选的，所述升降台通过液压杆与液压缸构成升降结构，所述液压缸以支撑架的中轴线对称设置。
5、优选的，所述导向杆的外径与限位套的内径相吻合，所述连接盘与导向杆为焊接连接。
6、优选的，所述绝缘衬底采用氧化铝材料，所述绝缘衬底的下方与升降台的上方贴合抵触。
7、优选的，所述绝缘衬底的上方安装有固定板，所述固定板的上方两侧均贯穿有螺栓，所述固定板上方开设有样品槽。
8、优选的，所述固定板通过螺栓与绝缘衬底螺纹连接，所述螺栓以固定板的中轴线对称设置。
9、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
10、1.该一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，通过液压杆、连接盘、导向杆和限位套的配合使用，在该装置的使用过程中通过连接盘将导向杆安装到液压杆的一侧，导向杆可以在限位套内进行升降，导向杆为升降台的升降运动提供了明确且稳定的路径，在升降过程中，升降台沿着导向杆移动，有效的防止偏移了预定的路径，确保了升降运动的平稳性和准确性；
11、2.该一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，通过升降台和绝缘衬底的设置，在该装置的使用过程中通过将绝缘衬底固定在升降台的上方，绝缘衬底的材料为氧化铝，氧化铝提供了良好的绝缘性能，在化学气相沉积过程中，如果升降台具有导电性，可能会因为电荷积累或电流泄漏而导致设备损坏，绝缘衬底的使用可以有效避免这类电气安全问题，提高了化学气相沉积设备的稳定性；
12、3.该一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，通过绝缘衬底、固定板和螺栓的设置，在该装置的使用过程中通过螺栓将固定板固定在绝缘衬底的上方，将样品放在固定板上的样品槽中，以确保样品能够稳定地固定在升降台上，使得样品在化学气相沉积升降过程中保持固定，实现了精确的化学气相沉积操作。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种MPCVD化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，包括支撑架（1），其特征在于：所述支撑架（1）的上方两侧固定有滑轨（2），所述滑轨（2）的外侧套设有滑块（3），所述支撑架（1）的上方两侧均安装有液压缸（4），所述液压缸（4）的上方安装有液压杆（5），所述液压杆（5）的外侧固定有连接盘（6），所述连接盘（6）的一侧固定有导向杆（7），所述导向杆（7）的上方一侧套设有限位套（8），所述液压杆（5）的上方固定有升降台（9），所述升降台（9）的上方固定有绝缘衬底（10）。
2.根据权利要求1所述的一种MPCVD化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述升降台（9）通过滑块（3）与滑轨（2）构成滑动结构，所述滑轨（2）为“工”字型结构设置。
3.根据权利要求1所述的一种MPCVD化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述升降台（9）通过液压杆（5）与液压缸（4）构成升降结构，所述液压缸（4）以支撑架（1）的中轴线对称设置。
4.根据权利要求1所述的一种MPCVD化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述导向杆（
5.根据权利要求1所述的一种MPCVD化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述绝缘衬底（10）采用氧化铝材料，所述绝缘衬底（10）的下方与升降台（9）的上方贴合抵触。
6.根据权利要求1所述的一种MPCVD化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述绝缘衬底（10）的上方安装有固定板（11），所述固定板（11）的上方两侧均贯穿有螺栓（12），所述固定板（11）上方开设有样品槽（13）。
7.根据权利要求6所述的一种MPCVD化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述固定板（11）通过螺栓（12）与绝缘衬底（10）螺纹连接，所述螺栓（12）以固定板（11）的中轴线对称设置。
...【技术特征摘要】
1.一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，包括支撑架（1），其特征在于：所述支撑架（1）的上方两侧固定有滑轨（2），所述滑轨（2）的外侧套设有滑块（3），所述支撑架（1）的上方两侧均安装有液压缸（4），所述液压缸（4）的上方安装有液压杆（5），所述液压杆（5）的外侧固定有连接盘（6），所述连接盘（6）的一侧固定有导向杆（7），所述导向杆（7）的上方一侧套设有限位套（8），所述液压杆（5）的上方固定有升降台（9），所述升降台（9）的上方固定有绝缘衬底（10）。
2.根据权利要求1所述的一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述升降台（9）通过滑块（3）与滑轨（2）构成滑动结构，所述滑轨（2）为“工”字型结构设置。
3.根据权利要求1所述的一种mpcvd化学气相沉积设备的样品沉积台升降结构，其特征在于，所述升降台（9）通过液压杆（5）与液压缸（4）构成升降结构，所述液压缸（4）以支撑架（1）的...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁奇，汤磊，陈波，
申请(专利权)人：北京芯美达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。