【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及例如可以用于通过光刻技术制造器件的方法和设备，并且涉及使用光刻技术制造器件的方法。本专利技术更具体地涉及用于这样的器件的失效检测。
技术介绍
1、光刻设备是将期望的图案施加至衬底上（通常施加至衬底的目标部分上）的机器。光刻设备可以用于例如集成电路（ic）的制造中。在那种情况下，图案形成装置（其替代地称作掩模或掩模版）可以用于产生待形成在ic的单层上的电路图案。这种图案可以转印至衬底（例如，硅晶片）上的目标部分（例如包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯）上。通常经由成像至被设置在衬底上的辐射敏感材料（抗蚀剂）层上来进行图案的转印。通常，单个衬底将包括被连续地图案化的相邻目标部分的网络。这些目标部分通常被称为“场”。
2、在复杂器件的制造中，典型地执行许多光刻图案化步骤，由此在衬底上的连续层中形成功能性特征。因此，光刻设备的性能的关键方面能够相对于置于先前层中（通过相同设备或不同光刻设备）的特征恰当且准确地放置所涂覆图案。为此目的，衬底设置有一组或更多组对准标记。每个标记为稍后可以使用位置传感器（通常是光学位置传感器）测量其位置的结构。光刻设备包括一个或更多个对准传感器，可以通过所述传感器准确地测量衬底上的标记的位置。不同类型的标记和不同类型的对准传感器从不同制造商和同一制造商的不同产品是众所周知的。
3、在其它应用中，量测传感器用于测量衬底上的暴露结构（或在抗蚀剂中和/或在蚀刻之后）。快速且非侵入的形式的专用检查工具为散射仪，其中，将辐射束引导至衬底的表面上的目标上，并且测量散射束或反射束的性质
4、当光刻系统出现失效时，尽可能快地识别失效的原因是重要的。目前，这是通过尝试重现所述问题来实现。失效检测的触发基于时域信号。
5、将会期望改善这样的失效事件检测方法。
技术实现思路
1、在第一方面中，本专利技术提供一种用于确定光刻系统上的失效事件的方法，所述方法包括：将在所述光刻系统内产生的至少一个信号分解成多个分量信号，每个分量信号与不同的相应的频率范围相关；相对于名义光刻系统行为评估所述分量信号中的至少一个分量信号；以及将所述分量信号中的至少一个分量信号偏离于所述名义光刻系统行为的任何偏差识别为失效事件。
2、在第二方面中，本专利技术提供一种能够操作以确定光刻系统上的失效事件的信号偏差检测模块，包括：一个或更多个滤波器，所述一个或更多个滤波器能够操作以将在所述光刻系统内产生的至少一个信号分解成多个分量信号，每个分量信号与不同的相应的频率范围相关；和处理器，所述处理器能够操作以相对于名义光刻系统行为评估所述分量信号中的至少一个分量信号，并且将所述分量信号中的至少一个分量信号偏离于所述名义光刻系统行为的任何偏差识别为失效事件。
3、也披露一种能够操作以执行所述第一方面的方法的计算机程序。
4、本专利技术的以上和其它方面将从以下所描述的示例的考虑因素来理解。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于确定光刻系统上的失效事件的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述评估步骤包括相对于名义光刻系统行为评估所述分量信号中的每个分量信号。
3.根据任一前述权利要求所述的方法，包括：组合与每个分量信号相关的所述评估和识别步骤的输出，以基于对所述分量信号中的至少一个分量信号的任何偏差的所述识别而产生用于所述至少一个信号的失效事件触发信号。
4.根据权利要求3所述的方法，包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述多个信号包括由所述光刻系统组件产生的可测量信号的子集。
6.根据权利要求5所述的方法，包括基于以下各项中的一个或两者来选择可测量信号的所述子集：所述光刻系统的系统状态、和领域知识。
7.根据权利要求4、5或6所述的方法，包括：
8.根据权利要求4至7中的任一项所述的方法，其中，在所述组合步骤中的一个或更多个组合步骤中，使用一个或更多个逻辑算子组合所述输出。
9.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，所述分解步骤包括将一个或更多个高通滤波器、低通滤
10.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，所述分解步骤包括将至少一个Goertzel算法或带通滤波器应用于所述至少一个信号以便产生处于特定频率或特定频率范围的信号分量。
11.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，评估所述分量信号的所述步骤包括评估所述分量信号的信号能量。
12.一种能够操作以确定光刻系统上的失效事件的信号偏差检测模块，包括：
13.根据权利要求12所述的信号偏差检测模块，其中，所述处理器能够操作以相对于名义光刻系统行为评估所述分量信号中的每个分量信号。
14.根据权利要求12或13所述的信号偏差检测模块，包括一个或更多个逻辑算子，所述一个或更多个逻辑算子能够操作以组合与每个分量信号相关的所述评估和识别步骤的输出，以基于对所述分量信号中的至少一个分量信号的任何偏差的所述识别而产生用于所述信号的失效事件触发信号。
15.根据权利要求12至14中的任一项所述的信号偏差检测模块，包括能够操作以产生处于特定频率或特定频率范围的信号分量的Goertzel算法或经调谐的带通滤波器。
16.根据权利要求12至15中的任一项所述的信号偏差检测模块，其中，所述处理器能够操作以评估所述分量信号的信号能量。
17.一种能够操作以确定光刻系统上的失效事件的失效检测组件，包括：
18.一种能够操作以确定光刻系统上的失效事件的失效检测系统，包括：
19.一种计算机程序，包括能够操作以当在合适的设备上运行时执行根据权利要求1至11中的任一项所述的方法的程序指令。
20.一种非暂时性计算机程序载体，包括根据权利要求19所述的计算机程序。
21.一种处理布置，包括：
22.一种光刻系统，包括根据权利要求18所述的失效检测系统。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于确定光刻系统上的失效事件的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述评估步骤包括相对于名义光刻系统行为评估所述分量信号中的每个分量信号。
3.根据任一前述权利要求所述的方法，包括：组合与每个分量信号相关的所述评估和识别步骤的输出，以基于对所述分量信号中的至少一个分量信号的任何偏差的所述识别而产生用于所述至少一个信号的失效事件触发信号。
4.根据权利要求3所述的方法，包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述多个信号包括由所述光刻系统组件产生的可测量信号的子集。
6.根据权利要求5所述的方法，包括基于以下各项中的一个或两者来选择可测量信号的所述子集：所述光刻系统的系统状态、和领域知识。
7.根据权利要求4、5或6所述的方法，包括：
8.根据权利要求4至7中的任一项所述的方法，其中，在所述组合步骤中的一个或更多个组合步骤中，使用一个或更多个逻辑算子组合所述输出。
9.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，所述分解步骤包括将一个或更多个高通滤波器、低通滤波器和/或带通滤波器应用于所述至少一个信号。
10.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，所述分解步骤包括将至少一个goertzel算法或带通滤波器应用于所述至少一个信号以便产生处于特定频率或特定频率范围的信号分量。
11.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，评估所述分量信号的所述步骤包括评估所...
【专利技术属性】
技术研发人员：A·A·卡拉特，P·J·G·梅耶斯，M·W·J·E·威吉克曼斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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