【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学薄膜，具体涉及一种抗冲击加硬膜及其制备方法。
技术介绍
1、随着辅助驾驶或自动驾驶的发展，车载影像也赋予了更高的要求。车载摄像头的g1镜片通常为裸露在最外面的镜片，在户外使用或恶劣环境等情况下，如受到风沙、尘石等冲击时，传统镜片表面会出现磨损、划痕或破裂，造成清晰度不够或鬼像加重，严重影响车载摄像头的使用寿命和车载辅助驾驶安全。因此，提出一种具有高硬度、良好光学特性、耐摩擦的加硬膜成为当前市场的迫切需求。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于针对上述问题，提出一种抗冲击加硬膜及其制备方法，不仅具有较高的硬度有效防止磨损、划痕或破裂的问题，同时有助于保证良好的光学性能及表面的疏水性。
2、为实现上述目的，本专利技术所采取的技术方案为：
3、本专利技术提出的一种抗冲击加硬膜，包括交替层叠的若干个第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层为高折射率膜层，第二膜层和第三膜层均为折射率小于高折射率膜层的低折射率膜层，且抗冲击加硬膜的最外层分别为第一膜层和第三膜层，次外层均为第二膜层，抗冲击加硬膜的总厚度为500nm～1000nm。
4、优选地，第一膜层的厚度为12nm～200nm，第二膜层的厚度为12nm～150nm，第三膜层的厚度为5nm～20nm。
5、优选地，第一膜层的折射率为1.95～2.10，第二膜层和第三膜层的折射率均为1.45～1.50。
6、优选地，第一膜层、第二膜层和第三膜层的总层数为10～50层。
7、优选地，第一膜层为氮化硅层，第二膜层为氮氧化硅层，第三膜层为疏水膜。
8、优选地，第一膜层占抗冲击加硬膜的厚度比例为20％-80％。
9、优选地，抗冲击加硬膜还包括基片，基片贴附于最外侧的第一膜层上并与第三膜层相对设置。
10、优选地，基片为玻璃基片或塑料基片，且基片的第一面为凸面，玻璃基片为冕牌光学玻璃基片或镧系光学玻璃基片或钡系光学玻璃基片，塑料基片为pmma基片或pc基片。
11、一种抗冲击加硬膜制备方法，包括如下步骤：
12、s1、将光学基板进行预处理后安装在真空镀膜装置的样品架上；
13、s2、将纯度4n或纯度5n的硅靶安装于真空镀膜装置的靶座上；
14、s3、将真空镀膜装置的真空室抽真空至4.0e-4pa～8.0e-4pa并维持温度为120℃～320℃；
15、s4、将真空镀膜装置的真空室中充入反应气体，在光学基板的第一面上交替层叠镀抗冲击加硬膜中的第一膜层和第二膜层，反应气体为氧气、氮气、氩气其中一种或多种且通过氩气进行硅靶溅射，氧气的充入流量为200～300sccm，氮气的充入流量为0～50sccm，氩气的充入流量为40～120sccm，第一膜层和第二膜层的溅射功率均为2～10kw；
16、s5、将真空镀膜装置的真空室进行放气，取出半成品；
17、s6、在半成品上远离光学基板的第一面的最外侧膜层上沉积第三膜层，获得抗冲击加硬膜。
18、优选地，预处理为依次进行超声波清洗和等离子体清洗；在光学基板的第一面上交替层叠镀抗冲击加硬膜中的第一膜层和第二膜层，在镀第一膜层时，充入的反应气体为氮气和氩气，镀第二膜层时，充入的反应气体为氧气、氮气和氩气。
19、与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：
20、本申请在可见光区透过率高，能够有效抵抗碎石冲击和划痕，具有高硬度、良好的疏水性和优异的抗划痕性能，使用寿命长；且在镀膜过程中，通过控制反应气体的充入流量和靶材溅射功率来增加膜层的硬度和应力，在保持硬度的同时兼具较小的应力，防止随时间放置后出现膜裂现象，同时能够保证膜层的疏水性以及在可见光区良好的增透性能，在车载、移动设备屏幕防护领域具有广泛的应用前景。
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1.一种抗冲击加硬膜，其特征在于：所述抗冲击加硬膜包括交替层叠的若干个第一膜层(1)、第二膜层(2)和第三膜层(3)，所述第一膜层(1)为高折射率膜层，所述第二膜层(2)和第三膜层(3)均为折射率小于所述高折射率膜层的低折射率膜层，且所述抗冲击加硬膜的最外层分别为所述第一膜层(1)和第三膜层(3)，次外层均为所述第二膜层(2)，所述抗冲击加硬膜的总厚度为500nm～1000nm。
2.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)的厚度为12nm～200nm，所述第二膜层(2)的厚度为12nm～150nm，所述第三膜层(3)的厚度为5nm～20nm。
3.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)的折射率为1.95～2.10，所述第二膜层(2)和第三膜层(3)的折射率均为1.45～1.50。
4.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)、第二膜层(2)和第三膜层(3)的总层数为10～50层。
5.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)为氮化硅层，所述第
6.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)占所述抗冲击加硬膜的厚度比例为20％-80％。
7.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述抗冲击加硬膜还包括基片(4)，所述基片(4)贴附于最外侧的所述第一膜层(1)上并与所述第三膜层(3)相对设置。
8.如权利要求7所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述基片(4)为玻璃基片或塑料基片，且所述基片(4)的第一面为凸面，所述玻璃基片为冕牌光学玻璃基片或镧系光学玻璃基片或钡系光学玻璃基片，所述塑料基片为PMMA基片或PC基片。
9.一种抗冲击加硬膜制备方法，其特征在于：所述抗冲击加硬膜制备方法包括如下步骤：
10.如权利要求9所述的抗冲击加硬膜制备方法，其特征在于：所述预处理为依次进行超声波清洗和等离子体清洗；所述在光学基板的第一面上交替层叠镀如权利要求1～8任一所述的抗冲击加硬膜中的第一膜层(1)和第二膜层(2)，在镀第一膜层(1)时，充入的反应气体为氮气和氩气，镀第二膜层(2)时，充入的反应气体为氧气、氮气和氩气。
...【技术特征摘要】
1.一种抗冲击加硬膜，其特征在于：所述抗冲击加硬膜包括交替层叠的若干个第一膜层(1)、第二膜层(2)和第三膜层(3)，所述第一膜层(1)为高折射率膜层，所述第二膜层(2)和第三膜层(3)均为折射率小于所述高折射率膜层的低折射率膜层，且所述抗冲击加硬膜的最外层分别为所述第一膜层(1)和第三膜层(3)，次外层均为所述第二膜层(2)，所述抗冲击加硬膜的总厚度为500nm～1000nm。
2.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)的厚度为12nm～200nm，所述第二膜层(2)的厚度为12nm～150nm，所述第三膜层(3)的厚度为5nm～20nm。
3.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)的折射率为1.95～2.10，所述第二膜层(2)和第三膜层(3)的折射率均为1.45～1.50。
4.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)、第二膜层(2)和第三膜层(3)的总层数为10～50层。
5.如权利要求1所述的抗冲击加硬膜，其特征在于：所述第一膜层(1)为氮化硅层，所述第二膜层(2)...
【专利技术属性】
技术研发人员：李波，杨超，张硕，张清清，王芳敏，闫涛，钱锋，
申请(专利权)人：江西凤凰光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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