【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容涉及一种用于衬底处理系统的自居中(self-centering)边缘环。
技术介绍
1、这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。在此
技术介绍
部分中描述的范围内的当前指定的专利技术人的工作以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。
2、衬底处理系统对诸如半导体晶片之类的衬底进行处理。衬底处理的示例包括沉积、灰化、蚀刻、清洁和/或其他工艺。工艺气体混合物可供应到处理室以处理衬底。等离子体可用于点燃气体以增强化学反应。
3、在处理期间将衬底布置在衬底支撑件上。包括环形体的边缘环被布置在衬底的径向外边缘周围并邻近衬底的径向外边缘。边缘环可用于使等离子体成形或聚焦到衬底上。
技术实现思路
1、一种用于衬底处理室的边缘环系统包含：中间环，其包含外环部分和内环部分；以及边缘环，其被配置成被支撑在所述中间环上且介于所述外环部分与所述内环部分之间。所述边缘环的下表面的外径具有第一倒角，所述第一倒角限定面朝下且朝外的倒角表面。所述外环部分的内径具有第二倒角，所述第二倒角限定面朝上且朝内的倒角表面。所述第一倒角和所述第二倒角中的至少一者被配置成将所述边缘环在所述中间环的所述外环部分与所述内环部分内对准。
2、在其他特征中，所述中间环还被配置成将所述边缘环与移动环对准，使得所述边缘环相对于在所述衬底处理室中进行处理的衬底居中。所述中间环的所述内环部分是大致“l”形的，且具有朝所述外环部分径向向外
3、在其他特征中，所述边缘环被完全支撑在所述中间环的内径与外径之内。所述中间环包含多个桥，所述桥将所述内环部分连接至所述外环部分。所述中间环包含六个所述桥。所述中间环包含被限定在所述多个桥之间的多个间隙。所述边缘环系统还包含移动环，其被配置成相对于所述中间环升高和降低。所述移动环被配置成经由所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。所述移动环包含凸起部分，其向上延伸穿过所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。所述移动环包含静环部分和位于所述静环部分的径向内侧的移动环部分，且其中所述移动环部分被配置成升高和降低。
4、在其他特征中，所述中间环的所述外环部分的下表面包含环形凹槽。所述边缘环系统还包含底部环，其中所述中间环被支撑在所述底部环上。所述底部环包含环形凸缘，其从所述底部环的上表面向上延伸进入所述环形凹槽。
5、一种用于衬底处理室的边缘环系统包含：中间环，其包含外环部分和内环部分；以及边缘环，其被支撑在所述中间环上且介于所述外环部分与所述内环部分之间。所述边缘环被完全支撑在所述中间环的内径与外径内，且所述外环部分和所述内环部分中的至少一者被配置成相对于所述中间环迫使所述边缘环处于居中的位置。移动环被设置在所述中间环下方。所述移动环被配置成被升高和降低，以接触以及选择性升高和降低所述边缘环。
6、在其他特征中，所述中间环包含：多个桥，所述桥将所述内环部分连接至所述外环部分；以及多个间隙，其被限定在所述多个桥之间。所述移动环被配置成穿过所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。所述移动环包含凸起部分，所述凸起部分向上延伸穿过所述多个间隙以接触所述边缘环的下表面。
7、一种用于衬底处理室的边缘环系统包含：中间环，其被配置成围绕衬底支撑件而设置，且包含：外环部分；内环部分；n个弧形开口，其被设置在所述外环部分与所述内环部分之间，其中n系大于1的整数；n个桥，其在所述n个弧形开口之间连接所述外环部分与所述内环部分；以及环形腔，其被设置在所述外环部分的径向内表面上。盖环被设置在所述环形腔中。顶部边缘环被设置在所述中间环上方并介于所述盖环与所述内环部分之间且在所述中间环的所述n个弧形开口与所述n个桥上方。
8、在其他特征中，移动环包含具有弧形形状的n个上部，所述n个上部被配置成与所述n个弧形开口对准且穿过所述n个弧形开口。所述顶部边缘环搁置在所述n个上部上。所述移动环的所述n个上部被配置成穿过所述中间环的所述n个弧形开口对所述顶部边缘环的底表面施加偏压，以相对于所述盖环提升所述顶部边缘环。
9、在其他特征中，第一升降销其被配置成相对于所述盖环和所述中间环而选择性向上提升所述移动环和所述顶部边缘环。第二升降销被配置成相对于所述移动环而选择性地向所述中间环、所述顶部边缘环和所述盖环施加偏压。
10、在其他特征中，所述顶部边缘环具有“c”形横剖面，所述“c”形横剖面限定向下延伸的内环形凸部和向下延伸的外环形凸部以及设置在所述内环形凸部与所述外环形凸部之间的腔。所述n个桥包含朝所述顶部边缘环的下表面向上延伸的凸部。所述盖环具有倒“l”形横剖面。
11、在其他特征中，所述盖环的径向内侧包含径向内表面和弧形表面。所述盖环的所述径向内表面被定位在所述移动环的上部的径向外表面的径向内侧。所述顶部边缘环的径向外表面被设置在所述盖环的所述径向内表面的下方径向外侧。所述顶部边缘环的上径向外边缘具有与所述盖环的所述弧形表面对应的弧形形状。
12、在其他特征中，所述中间环的所述n个桥中的至少一者包含凸部和腔中的一者，且所述顶部边缘环的所述外环形凸部的径向内边缘包含所述腔和所述凸部中的另一者。所述中间环的所述n个桥中的所述至少一者的所述凸部和所述腔中的所述一者被接收在所述顶部边缘环的所述外环形凸部的所述径向内边缘上的所述腔和所述凸部中的所述另一者中。静环被配置成在所述中间环下方围绕所述衬底支撑件设置。
13、在其他特征中，所述静环包含从所述静环的径向内表面的下部径向向内延伸的凸部，其中所述移动环被设置在所述静环的所述凸部上方且在所述静环的径向内侧。在其他特征中，所述移动环包含从所述移动环径向向外延伸的第一多个凸部。所述第一多个凸部的底表面包含凹槽，所述凹槽包含沿径向方向延伸的反向倾斜表面。
14、在其他特征中，所述移动环包含：第二多个凸部，其从所述移动环径向向外延伸；和孔，其沿轴向方向延伸穿过所述第二多个凸部。所述静环包含第一多个腔，其从所述静环的径向内表面沿径向向内方向延伸，且被配置成为所述移动环的第一多个凸部提供间隙。所述静环包含第二多个腔，其从所述静环的径向内表面沿径向向内方向延伸，且被配置成为所述移动环的第二多个凸部提供间隙。底部边缘环包括：从所述底部边缘环的径向内表面向内延伸的第一环形凸缘；和围绕所述静环设置的环形体。
15、在其他特征中，所述底部边缘环还包含从所述底部边缘环的上表面向上延伸的第二环形凸缘。所述中间环包含环形凹槽，其被配置成容纳所述底部边缘环的所述第二环形凸缘。间隙被限定在所述中间环本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于衬底处理室的边缘环系统，其包含：
2.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述中间环还被配置成将所述边缘环与移动环对准，使得所述边缘环相对于在所述衬底处理室中进行处理的衬底居中。
3.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述中间环的所述内环部分是大致“L”形的，且具有朝所述外环部分径向向外延伸的突出部分。
4.根据权利要求3所述的边缘环系统，其中所述边缘环被配置成至少部分地被支撑在所述内环部分的所述突出部分上。
5.根据权利要求4所述的边缘环系统，其中所述边缘环包含凸缘，所述凸缘从所述边缘环的内径处的所述下表面向下延伸，且其中所述凸缘被配置成被支撑在所述内环部分的所述突出部分上。
6.根据权利要求4所述的边缘环系统，其中所述内环部分被配置成相对于所述中间环迫使所述边缘环进入居中的位置。
7.根据权利要求4所述的边缘环系统，其中在所述边缘环与所述内环部分之间的接口限定蛇形路径。
8.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述边缘环被完全支撑在所述中间环的内径与外径之内。
9.根
10.根据权利要求9所述的边缘环系统，其中所述中间环包含六个所述桥。
11.根据权利要求9所述的边缘环系统，其中所述中间环包含被限定在所述多个桥之间的多个间隙。
12.根据权利要求11所述的边缘环系统，其还包含移动环，其被配置成相对于所述中间环升高和降低。
13.根据权利要求12所述的边缘环系统，其中所述移动环被配置成经由所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。
14.根据权利要求13所述的边缘环系统，其中所述移动环包含凸起部分，其向上延伸穿过所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。
15.根据权利要求14所述的边缘环系统，其中所述移动环包含静环部分和位于所述静环部分的径向内侧的移动环部分，且其中所述移动环部分被配置成升高和降低。
16.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述中间环的所述外环部分的下表面包含环形凹槽。
17.根据权利要求16所述的边缘环系统，其还包含底部环，其中所述中间环被支撑在所述底部环上。
18.根据权利要求17所述的边缘环系统，其中所述底部环包含环形凸缘，其从所述底部环的上表面向上延伸进入所述环形凹槽。
19.一种用于衬底处理室的边缘环系统，其包含：
20.根据权利要求19所述的边缘环系统，其中所述中间环包含：多个桥，所述桥将所述内环部分连接至所述外环部分；以及多个间隙，其被限定在所述多个桥之间，且其中所述移动环被配置成穿过所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。
21.根据权利要求20所述的边缘环系统，其中所述移动环包含凸起部分，所述凸起部分向上延伸穿过所述多个间隙以接触所述边缘环的下表面。
22.一种用于衬底处理室中的边缘环系统的边缘环，其包含：
23.一种用于衬底处理室中的边缘环系统的中间环，其包含：
24.一种用于衬底处理室的边缘环系统，其包含：
25.根据权利要求24所述的边缘环系统，其还包含：
26.根据权利要求25所述的边缘环系统，其还包含：
27.根据权利要求24所述的边缘环系统，其中所述顶部边缘环具有“C”形横剖面，所述“C”形横剖面限定向下延伸的内环形凸部和向下延伸的外环形凸部以及设置在所述内环形凸部与所述外环形凸部之间的腔。
28.根据权利要求24所述的边缘环系统，其中所述N个桥包含朝所述顶部边缘环的下表面向上延伸的凸部。
29.根据权利要求25所述的边缘环系统，其中所述盖环具有倒“L”形横剖面。
30.根据权利要求29所述的边缘环系统，其中所述盖环的径向内侧包含径向内表面和弧形表面。
31.根据权利要求30所述的边缘环系统，其中所述盖环的所述径向内表面被定位在所述移动环的上部的径向外表面的径向内侧。
32.根据权利要求30所述的边缘环系统，其中所述顶部边缘环的径向外表面被设置在所述盖环的所述径向内表面的下方径向外侧。
33.根据权利要求30所述的边缘环系统，其中所述顶部边缘环的上径向外边缘具有与所述盖环的所述弧形表面对应的弧形形状。
34.根据权利要求27所述的边缘环系统，其中：
35.根据权利要求25所述的边缘环系统，其还包含静环，其被配置成在所述中间环下方围绕所述衬底支撑件设置。
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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于衬底处理室的边缘环系统，其包含：
2.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述中间环还被配置成将所述边缘环与移动环对准，使得所述边缘环相对于在所述衬底处理室中进行处理的衬底居中。
3.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述中间环的所述内环部分是大致“l”形的，且具有朝所述外环部分径向向外延伸的突出部分。
4.根据权利要求3所述的边缘环系统，其中所述边缘环被配置成至少部分地被支撑在所述内环部分的所述突出部分上。
5.根据权利要求4所述的边缘环系统，其中所述边缘环包含凸缘，所述凸缘从所述边缘环的内径处的所述下表面向下延伸，且其中所述凸缘被配置成被支撑在所述内环部分的所述突出部分上。
6.根据权利要求4所述的边缘环系统，其中所述内环部分被配置成相对于所述中间环迫使所述边缘环进入居中的位置。
7.根据权利要求4所述的边缘环系统，其中在所述边缘环与所述内环部分之间的接口限定蛇形路径。
8.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述边缘环被完全支撑在所述中间环的内径与外径之内。
9.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述中间环包含多个桥，所述桥将所述内环部分连接至所述外环部分。
10.根据权利要求9所述的边缘环系统，其中所述中间环包含六个所述桥。
11.根据权利要求9所述的边缘环系统，其中所述中间环包含被限定在所述多个桥之间的多个间隙。
12.根据权利要求11所述的边缘环系统，其还包含移动环，其被配置成相对于所述中间环升高和降低。
13.根据权利要求12所述的边缘环系统，其中所述移动环被配置成经由所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。
14.根据权利要求13所述的边缘环系统，其中所述移动环包含凸起部分，其向上延伸穿过所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。
15.根据权利要求14所述的边缘环系统，其中所述移动环包含静环部分和位于所述静环部分的径向内侧的移动环部分，且其中所述移动环部分被配置成升高和降低。
16.根据权利要求1所述的边缘环系统，其中所述中间环的所述外环部分的下表面包含环形凹槽。
17.根据权利要求16所述的边缘环系统，其还包含底部环，其中所述中间环被支撑在所述底部环上。
18.根据权利要求17所述的边缘环系统，其中所述底部环包含环形凸缘，其从所述底部环的上表面向上延伸进入所述环形凹槽。
19.一种用于衬底处理室的边缘环系统，其包含：
20.根据权利要求19所述的边缘环系统，其中所述中间环包含：多个桥，所述桥将所述内环部分连接至所述外环部分；以及多个间隙，其被限定在所述多个桥之间，且其中所述移动环被配置成穿过所述多个间隙而接触所述边缘环的下表面。
21.根据权利要求20所述的边缘环系统，其中所述移动环包含凸起部分，所述凸起部分向上延伸穿过所述多个间隙以接触所述边缘环的下表面。
22.一种用于衬底处理室中的边缘环系统的边缘环，其包含：
23.一种用于衬底处理室中的边缘环系统的中间环，其包含：
24.一种用于衬底处理室的边缘环系统，其包含：
25.根据权利要求24所述的边缘环系统，其还包含：
26.根据权利要求25所述的边缘环系统，其还包含：
27.根据权利要求24所述的边缘环系统，其中所述顶部边缘环具有“c”形横剖面，所述“c”形横剖面限定向下延伸的内环形凸部和向下延伸的外环形凸部以及设置在所述内环形凸部与所述外环形凸部之间的腔。
28.根据权利要求24所述的边缘环系统，其中所述n个桥包含朝所述顶部边缘环的下表面向上延伸的凸部。
29.根据权利要求25所述的边缘环系统，其中所述盖环具有倒“l”形横剖面。
30.根据权利要求29所述的边缘环系统，其中所述盖环的径向内侧包含径向内表面和弧形表面。
31.根据权利要求30所述的边缘环系统，其中所述盖环的所述径向内表面被定位在所述移动环的上部的径向外表面的径向内侧。
32.根据权利要求30所述的边缘环系统，其中所述顶部边缘环的径向外表面被设置在所述盖环的所述径向内表面的下方径向外侧。
33.根据权利要求30所述的边缘环系统，其中所述顶部边缘环的上径向外边缘具有与所述盖环的所述弧形表面对应的弧形形状。
34.根据权利要求27所述的边缘环系统，其中：
35.根据权利要求25所述的边缘环系统，其还包含静环，其被配置成在所述中间环下方围绕所述衬底支撑件设置。
36.根据权利要求35所述的边缘环系统，其中所述静环包含从所述静环的径向内表面的下部径向向内延伸的凸部，其中所述移动环被设置在所述静环的所述凸部上方且在所述静环的径向内侧。
37.根据权利要求35所述的边缘环系统，其中所述移动环包含从所述移动环径向向外延伸的第一多个凸部。
38.根据权利要求37所述的边缘环系统，其中所述第一多个凸部的底表面包含凹槽，所述凹槽包含沿径向方向延伸的反向倾斜表面。
39.根据权利要求37所述的边缘环系统，其中所述移动环包含：第二多个凸部，其从所述移动环径向向外延伸；和孔，其沿轴向方向延伸穿过所述第二多个凸部。
40.根据权利要求35所述的边缘环系统，其中所述静环包含第一多个腔，其从所述静环的径向内表面沿径向向内方向延伸，且被配置成为所述移动环的第一多个凸部提供间隙。
41.根据权利要求40所述的边缘环系统，其中所述静环包含第二多个腔，其从所述静环的径向内表面沿径向向内方向延伸，且被配置成为所述移动环的第二多个凸部提供间隙。
42.根据权利要求35所述的边缘环系统，其还包含底部边缘环，所述底部边缘环包括：从所述底部边缘环的径向内表面向内延伸的第一环形凸缘；和围绕所述静环设置的环形体。
43.根据权利要求42所述的边缘环系统，其中所述底部边缘环还包含从所述底部边缘环的上表面向上延伸的第二环形凸缘。
44.根据权利要求43所述的边缘环系统，其中所述中间环包含环形凹槽，其被配置成容纳所述底部边缘环的所述第二环形凸缘。
45.根据权利要求42所述的边缘环系统，其中间隙被限定在所述中间环的底表面与所述底部边缘环的上表面之间。
46.根据权利要求42所述的边缘环系统，其中所述第一环形凸缘的底表面搁置在所述静环上。
47.根据权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员：尼古拉斯·约翰·塞莱斯特，萨拉特·拉玛杜尔甘，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：
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