【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于信息显示技术的器件领域，主要针对micro-led的材料和工艺方面。
技术介绍
1、随着micro-led的材料和工艺在不断突破，其中镀膜技术也在不断发展，目前镀膜产品如眼镜、手机、汽车、五金件等产品早己与人类的生活密不可分。近年来人们对环境保护愈发重视，电镀、化学镀等产生环境污染的镀膜方法逐渐被绿色节能的物理气相沉积技术所取代。物理气相沉积(pvd)技术可制备由金属材料、陶瓷材料等多种材质组成的薄膜，具有光学、电学、力学、热学等特殊性能，膜层性能稳定，工艺重复性好，生产周期短且产量较大，己成为当今工业领域内制备薄摸的重要方法。
2、由于micro-led具有自发光的特性，因此无需安装液晶显示屏(lcd)必备的偏光片，但屏幕表面存在反射光，一般需要对屏幕的玻璃盖板进行表面处理，消除部分反射光线以提高显示屏的透光度与对比度。为了消除环境光对显示效果的影响，micro-led需要增加屏幕表面的黑色区域面积，一般通过在基板上涂覆黑色阻焊油墨来实现。单块micro-led受到芯片巨量转印技术的限制导致其目前尺寸偏小，根据调研目前国内较大的商用micro-led拼接单品尺寸仅为150cm2，大尺寸的micro-led显示屏幕只能通过拼接来实现，而不同生产批次的线路板可能存在油墨色差，导致拼接后屏幕出现一定的偏色现象，严重影响用户的使用体验。与此同时，显示屏在日常使用中难以避免会发生磕碰、刮伤等意外导致屏幕受损，因此micro-led产品通常对屏幕的硬度有一定的要求，这三方面的问题可通过在屏幕玻璃盖板表面制备可见光
技术实现思路
1、专利技术目的：
2、因为micro-led在显示领域中还继续需要提高其亮度和对比度等光学性能上的优势，因此对其表面介质薄膜的制备也需要继续突破。真空蒸镀技术和磁控溅射技术在减反射膜及其他光学薄膜的制备上各有优劣，目前两种pvd技术也都在减反射薄膜的制备领域内有较为成熟的应用。本专利技术主要希望得到硬度更高的多层减反射膜，因此可以使用脉冲磁控溅射设备进行样品的制备。进一步解析出脉冲磁控溅射技术沉积多层减反射膜的工艺规律；以多层减反射膜的硬度作为优化目标，采用响应面法对制备多层减反射膜的工艺参数进行优化，得出最佳工艺条件。
3、技术方案：
4、本专利技术为解决上述技术问题采用以下技术方案：
5、一种高性能micro-led表面介质薄膜的制备方法，包括如下步骤：
6、在不同工艺参数下制备结构相同的多层减反射膜样品；
7、测量所制备的各个多层减反射膜样品的硬度；
8、以多层减反射膜的硬度作为优化目标，采用响应面法对制备多层减反射膜的工艺参数进行优化，得出最佳工艺条件；
9、在最佳工艺条件下制备micro-led表面介质薄膜。
10、优选的，所述多层减反射膜自下而上包括衬底、第一金属层、第一介质层、第二金属层、第二介质层。
11、优选的，所述第一金属层、第二金属层的材料为cr。
12、优选的，所述衬底的材料为sio2。
13、优选的，使用脉冲磁控溅射设备进行多层减反射膜样品的制备，具体步骤包括：将入射光处理为不同波长的单色光，利用不同物质对不同波段的光具有选择吸收作用，根据光电效应将透射光转化为电信号实现透光率和反射率的测量；由薄膜的透光率与反射率拟合膜层厚度，再根据薄膜制备时间计算膜层的沉积速率，随后通过存底预处理、装片、清洗、膜层制备和取片五个步骤进而完成膜层的制备。
14、优选的，所述多层减反射膜的制备方法包括：各层的贴合利用旋涂的方法实现，将胶均匀布局在每层表面，然后揭膜将用于光学传输的地方隔离开，第三步为胶合，最后为固化。
15、优选的，利用椭圆偏振光谱仪将偏振光以一定的角度入射至待测多层减反射膜样品，在多层减反射膜样品表面发生反射现象后形成椭圆偏振光；椭圆偏振光谱仪内部的检偏器根据待测样品对入射光偏振态的变化计算得到介质材料的光学常数，实验使用椭圆偏振光谱仪对膜层材料光学常数。
16、有益效果：本专利技术采用以上专利技术方法具有以下优点：
17、本专利技术提出的一种高性能micro-led表面介质薄膜的制备方法确定了多层减反射膜的膜层材料，其中高折射率材料选用cr，低折射率材料选用sio2；为减小设计膜系的光学性能理论值和实际值之间的误差，测量并确定了两种材料的折射率与消光系数；确定了不同工艺参数下制备的多层膜沉积速率与表面形貌，和不同工艺参数对多层膜沉积速率以及表面形貌的影响各不相同。从而提出了五层结构中在亮度和对比度上光学性能最有的机构膜系，并且达到了适合的硬度。
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1.一种高性能Micro-LED表面介质薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种高性能Micro-LED表面介质薄膜的制备方法，其特征在于，所述多层减反射膜自下而上包括衬底、第一金属层、第一介质层、第二金属层、第二介质层。
3.根据权利要求2所述的一种高性能Micro-LED表面介质薄膜的制备方法，其特征在于，所述第一金属层、第二金属层的材料为Cr。
4.根据权利要求2所述的一种高性能Micro-LED表面介质薄膜的制备方法，其特征在于，所述衬底的材料为SiO2。
5.根据权利要求1所述的一种高性能Micro-LED表面介质薄膜的制备方法，其特征在于，使用脉冲磁控溅射设备进行多层减反射膜样品的制备，具体步骤包括：将入射光处理为不同波长的单色光，利用不同物质对不同波段的光具有选择吸收作用，根据光电效应将透射光转化为电信号实现透光率和反射率的测量；由薄膜的透光率与反射率拟合膜层厚度，再根据薄膜制备时间计算膜层的沉积速率，随后通过存底预处理、装片、清洗、膜层制备和取片五个步骤进而完成膜层的制备。
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