【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示，尤其涉及一种掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备。
技术介绍
1、oled(organic light emitting diode，有机发光二极管)以其轻薄、自发光、视角广、响应速度快、亮度低、功耗低等优点，而逐渐取代液晶显示屏(liquid crystaldisplay，lcd)。
2、在oled制造技术中，真空蒸镀用的掩膜版是至关重要的部件。为了减少由于蒸镀引起的混色等不良问题，蒸镀设备内利用磁场来提升掩膜版和待蒸镀基板之间的紧密结合度，但仍然无法避免掩膜版边缘下垂而引起的混色等不良问题。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请的目的在于提出一种掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备，以解决或部分解决上述问题。
2、基于上述目的，本申请第一方面，提供了一种掩膜版，包括阵列排布的多个第一开口和限定出所述多个第一开口的支撑部，所述支撑部包括中部区域和位于所述中部区域外围的边缘区域，所述掩膜版包括相背的两个面，在所述相背的两个面中至少一个面上设有支撑结构，所述支撑结构位于所述边缘区域。
3、本申请第二方面，提供了一种掩膜版组件，包括：
4、第一掩膜版，所述第一掩膜版为如第一方面所述的掩膜版；
5、框架，所述第一掩膜版固定在所述框架上，所述框架包括相对的第一边框和第二边框；
6、叠放在所述第一掩膜版之上的多个第二掩膜版，所述多个第二掩膜版沿所述第一边框和所述第二边框延伸的方向依次排列，每个所述第
7、其中，所述第一掩膜版的支撑结构为所述多个第二掩膜版的边缘提供远离所述第一掩膜版的方向的支撑力。
8、本申请第三方面，提供了一种蒸镀设备，包括如第二方面所述的掩膜版组件。
9、本申请第四方面，提供了一种掩膜版的制备方法，所述掩膜版包括相背的两个面，所述制备方法包括：
10、形成阵列排布的多个第一开口以及限定出所述多个第一开口的支撑部，所述支撑部包括中部区域和位于所述中部区域外围的边缘区域；
11、在所述相背的两个面中至少一个面上设有支撑结构，所述支撑结构位于所述边缘区域。
12、从上面所述可以看出，本申请提供的一种掩膜版及其制备方法、掩膜版组件、蒸镀设备。该掩膜版包括阵列排布的多个第一开口和限定出多个第一开口的支撑部，支撑部包括中部区域和位于中部区域外围的边缘区域。该掩膜版还包括相背的两个面，通过在相背的两个面中至少一个面上设有位于边缘区域的支撑结构，以利用支撑结构提供朝向待蒸镀基板的支撑力，使得掩膜版的边缘可以与待蒸镀基板贴合更加紧密，改善混色等不良问题。
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1.一种掩膜版，包括阵列排布的多个第一开口和限定出所述多个第一开口的支撑部，所述支撑部包括中部区域和位于所述中部区域外围的边缘区域，所述掩膜版包括相背的两个面，在所述相背的两个面中至少一个面上设有支撑结构，所述支撑结构位于所述边缘区域。
2.如权利要求1所述的掩膜版，其中，在所述相背的两个面中至少一个面上设有限位结构，所述限位结构位于所述边缘区域，所述支撑结构一一对应地设置在所述限位结构内。
3.如权利要求2所述的掩膜版，其中，所述限位结构的形状与所述第一开口的形状相适配，所述限位结构围绕位于所述边缘区域的每个所述第一开口设置。
4.如权利要求2所述的掩膜版，其中，所述限位结构的形状与所述掩膜版的形状相同，所述限位结构围绕所述多个第一开口远离所述中部区域的一侧设置。
5.如权利要求2所述的掩膜版，其中，所述相背的两个面包括第一面，所述支撑结构位于所述第一面；所述支撑结构包括可变形结构和/或磁性结构；
6.如权利要求5所述的掩膜版，其中，所述可变形结构包括第一气囊，所述第一气囊填充受热可膨胀气体，填充气体后的所述第一气囊在
7.如权利要求6所述的掩膜版，其中，所述限位结构包括形状与所述第一开口相适配的环形凹槽，所述环形凹槽中均匀分布多个所述环状结构，所述环状结构的外径与所述环形凹槽的宽度相适配；或者，所述环状结构的形状与所述环形凹槽的形状相适配且一一对应地设置在所述环形凹槽内。
8.如权利要求1所述的掩膜版，其中，所述相背的两个面包括第二面，所述支撑结构位于所述第二面，所述支撑结构包括浮力结构，所述浮力结构，被配置为：向所述掩膜版为被支撑物体提供支撑力的方向产生浮力以向位于所述浮力结构所在位置的被支撑物体提供支撑力。
9.如权利要求8所述的掩膜版，其中，所述浮力结构包括第二气囊，所述第二气囊填充密度低于密度阈值的气体，填充气体后的所述第二气囊向所述掩膜版为被支撑物体提供支撑力的方向产生浮力。
10.如权利要求2所述的掩膜版，其中，所述限位结构远离所述中部区域的一侧与所述掩膜版的边缘之间的距离大于或等于100微米。
11.一种掩膜版组件，包括：
12.如权利要求11所述的掩膜版组件，其中，所述第二掩膜版包括多个第二开口和限定出所述多个第二开口的遮挡部，所述多个第二开口和所述第一掩膜版的多个第一开口一一对应；所述第一掩膜版的支撑结构在所述第二掩膜版上的正投影位于所述遮挡部。
13.一种蒸镀设备，包括如权利要求11或12所述的掩膜版组件。
14.一种掩膜版的制备方法，所述掩膜版包括相背的两个面，所述制备方法包括：
...【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，包括阵列排布的多个第一开口和限定出所述多个第一开口的支撑部，所述支撑部包括中部区域和位于所述中部区域外围的边缘区域，所述掩膜版包括相背的两个面，在所述相背的两个面中至少一个面上设有支撑结构，所述支撑结构位于所述边缘区域。
2.如权利要求1所述的掩膜版，其中，在所述相背的两个面中至少一个面上设有限位结构，所述限位结构位于所述边缘区域，所述支撑结构一一对应地设置在所述限位结构内。
3.如权利要求2所述的掩膜版，其中，所述限位结构的形状与所述第一开口的形状相适配，所述限位结构围绕位于所述边缘区域的每个所述第一开口设置。
4.如权利要求2所述的掩膜版，其中，所述限位结构的形状与所述掩膜版的形状相同，所述限位结构围绕所述多个第一开口远离所述中部区域的一侧设置。
5.如权利要求2所述的掩膜版，其中，所述相背的两个面包括第一面，所述支撑结构位于所述第一面；所述支撑结构包括可变形结构和/或磁性结构；
6.如权利要求5所述的掩膜版，其中，所述可变形结构包括第一气囊，所述第一气囊填充受热可膨胀气体，填充气体后的所述第一气囊在受热时向远离所述掩膜版的方向膨胀以突出于所述第一面；和/或，
7.如权利要求6所述的掩膜版，其中，所述限位结构包括形状与所述第一开口相适配的环形凹槽，所述环形凹槽中均匀分布多...
【专利技术属性】
技术研发人员：关新兴，刘浩，曾琪皓，毕娜，杨炳伟，白珊珊，李娜，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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