System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种真空烘烤设备及操作方法、玻璃基板技术_技高网
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一种真空烘烤设备及操作方法、玻璃基板技术

技术编号:43871697 阅读:9 留言:0更新日期:2024-12-31 18:56
本发明专利技术涉及显示面板生产技术领域,公开了一种真空烘烤设备及操作方法、玻璃基板,该设备包括烘箱、压力调节装置、加热板和基板支撑组件,烘箱内设有空腔,烘箱上设有将空腔与外部相连通的输料孔;烘箱上还设有烘箱门,烘箱门用于密封输料孔;压力调节装置用于空腔进行压力调节;加热板用于对基板进行加热;基板支撑组件用于支撑基板。本发明专利技术通过构筑真空烘烤环境及可以依需求调整的非固定基板支撑组件实现了对基板的高效加热、废气回收及避免加热过程中由于高温形变带来的基板摩擦,从而提升了加工效率及良品率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示面板生产,特别涉及一种真空烘烤设备及操作方法、玻璃基板


技术介绍

1、在显示面板的制造过程中,需要在特定生产步骤对玻璃基板进行高温烘烤,使其表面的墨水溶剂完成干燥,而现有技术中,针对这种墨水溶剂玻璃基板的烘烤所设计的设备包括加热板、夹持装置以及移栽装置,夹持装置设置于加热板上方,以将基板固定于加热板上方,加热板上设计有相交错的多个气孔和多个支撑孔,吹气孔用于向基板吹气,形成气浮,利用气浮支撑基板。此种现有技术的移栽装置穿过加热板上的支撑孔支撑基板,随后对玻璃基板两侧进行夹持并进行移动。

2、现有技术对此种表面具有墨水的的过程中,由于针对玻璃基板使用了常压气浮的承载方式,使得玻璃基板在加热过程中不断被气流冲击,其热量会被气流带走;另一方面,玻璃基板表面的墨水溶剂在烘烤过程中会散发出有毒气体,而气浮烘烤会导致有毒气体无法收集,导致环境污染。

3、而现有技术采用非气浮支撑基板的技术方案中,其支撑结构会在基板加热烘烤过程中对基板产生划伤,同时还会产生粉末,严重影响了产品质量。

4、因此针对显示面板制造过程中烘烤工艺诸多亟待解决的问题,提供一种针对性烘烤设备迫在眉睫。


技术实现思路

1、本专利技术旨在至少解决
技术介绍
中存在的技术问题之一。

2、一方面本专利技术提供了一种用于加热基板的真空烘烤设备,真空烘烤设备包括:

3、烘箱、压力调节装置、加热板和基板支撑组件;烘箱内设有空腔,烘箱上设有将空腔与外部相连通的输料孔;烘箱上还设有烘箱门,烘箱门用于密封输料孔;压力调节装置用于将空腔进行压力调节至负压从而使气体输送至废气处理装置;加热板位于空腔内,加热板位于基板下方,加热板用于对基板进行加热;

4、空腔内设有升降平台,升降平台上设有加热板支撑件,加热板与加热板支撑件相互连接;

5、基板支撑组件用于支撑基板,基板支撑组件包括重力导向锤、支撑轴、提升台阶;

6、重力导向锤放置在空腔的内底面,支撑轴设置在重力导向锤的顶端,支撑轴顶端设有提升台阶,提升台阶能够与基板相接触;

7、加热板顶部设有与提升台阶相配套的提升机构,提升机构能够使基板支撑组件脱离空腔表面。

8、作为上述技术方案的一些子方案,真空烘烤设备包括取放料机械手,取放料机械手能够转移基板通过输料孔,并能够使基板放置和脱离基板支撑组件。

9、作为上述技术方案的一些子方案,升降平台包括升降部和固定部,固定部固定在烘箱上,且固定部对升降部起支撑作用,升降部带动加热板沿靠近或远离基板的方向上运动。

10、作为上述技术方案的一些子方案,提升机构设有第一沉孔,第一沉孔用于容纳提升台阶。

11、作为上述技术方案的一些子方案,真空烘烤设备还包括导向套,导向套固定在加热板上。

12、作为上述技术方案的一些子方案,真空烘烤设备还包括多个第一限位件,所有的第一限位件均设置在加热板朝向基板的面上;所有的第一限位件之间围成一个限位空间,限位空间用于对基板进行限位。

13、作为上述技术方案的一些子方案,导向套设有导向轴孔,第一沉孔底部直径大于导向轴孔直径,且设有与导向轴孔直径相同的第一通孔,第一通孔用于供支撑轴通过,并限制提升台阶通过。

14、作为上述技术方案的一些子方案,基板支撑组件的总高度大于升降平台位于最低点时基板到烘箱底部的距离;

15、基板支撑组件的总高度小于升降平台位于最高点时基板到烘箱底部的距离。

16、一方面,本专利技术还提供了一种基于上述设备的操作方法,具体操作方法包括以下步骤:

17、升降平台通过加热板支撑件带动加热板下降,真空烘烤设备包括取放料机械手,取放料机械手将基板送入烘箱,并放置于基板支撑组件上,取放料机械手移出烘箱,烘箱门关闭,使烘箱处于密封状态;

18、升降平台通过加热板支撑件带动加热板上升,基板支撑组件脱离与烘箱的接触,基板与加热板接触,密封状态下烘箱通过压力调节装置进行减压排空到设定压力;

19、升降平台通过加热板支撑件带动加热板下降,基板与加热板表面分离,调整基板与加热板的距离,对基板加热,进行烘烤;

20、烘烤完成,烘箱释放压力,升降平台通过加热板支撑件带动加热板下降,基板支撑组件支撑起基板脱离加热板;

21、烘箱门打开,取放料机械手取走基板。

22、另一方面,本申请还提供了一种由上述设备或上述方法所制成的玻璃基板。

23、本专利技术提供的一种真空烘烤设备具有如下有益效果:

24、本专利技术基板支撑组件相对于真空腔体和加热板是活动的,没有固定,可以支撑孔位置变化而变化,当加热板上升或下降时,支撑轴不会与支撑孔之间产生摩擦,产生粉尘,因此在高温烘烤基板时不会因装置摩擦产生碎屑污染环境和产品,本专利技术所提供的真空环境下加热速率非常快,可提高工作效率,另外在真空环境下加热,加热板的热量损失非常小,加热板的温度均匀性更好,同时,还可通过压力调节装置将加热过程中产生的有毒有害气体输送到至气体处理装置,避免影响周围设备环境及人员。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空烘烤设备,其特征在于,所述真空烘烤设备用于加热基板(24),所述真空烘烤设备包括:

2.根据权利要求1所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述真空烘烤设备包括取放料机械手(12),所述取放料机械手(12)能够转移所述基板(24)通过所述输料孔;所述取放料机械手(12)能够使所述基板(24)放置和脱离所述基板支撑组件(20)。

3.根据权利要求1所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述升降平台(21)包括升降部和固定部,所述固定部固定在所述烘箱(10)上,且所述固定部对所述升降部起支撑作用,所述升降部带动所述加热板(23)沿靠近或远离所述基板(24)的方向上运动。

4.根据权利要求1所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述提升机构设有第一沉孔(233),所述第一沉孔(233)用于容纳所述提升台阶(204)。

5.根据权利要求4所述的真空烘烤设备,其特征在于,所述真空烘烤设备还包括导向套(25),所述导向套(25)固定在所述加热板(23)上。

6.根据权利要求3所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述真空烘烤设备还包括若干个第一限位件(232),所有的所述第一限位件(232)均设置在所述加热板朝向所述基板(24)的面上;所有的所述第一限位件(232)之间围成一个限位空间,所述限位空间用于对所述基板(24)进行限位。

7.根据权利要求5所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述导向套(25)设有导向轴孔(252),所述第一沉孔(233)底部直径大于所述导向轴孔(252)直径,且设有与所述导向轴孔(252)直径相同的第一通孔,所述第一通孔用于供支撑轴(203)通过,并限制提升台阶(204)通过。

8.根据权利要求2所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述基板支撑组件(20)的总高度大于所述升降平台(21)位于最低点时所述基板(24)到所述烘箱(10)底部的距离;

9.一种真空烘烤设备的操作方法,其特征在于,使用权利要求1-8任一所述的真空烘烤设备,具体操作方法包括以下步骤:

10.一种显示设备的玻璃基板,其特征在于,生产过程中使用到权利要求1-8任一所述的真空烘烤设备和/或权利要求9所述的操作方法。

...

【技术特征摘要】

1.一种真空烘烤设备,其特征在于,所述真空烘烤设备用于加热基板(24),所述真空烘烤设备包括:

2.根据权利要求1所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述真空烘烤设备包括取放料机械手(12),所述取放料机械手(12)能够转移所述基板(24)通过所述输料孔;所述取放料机械手(12)能够使所述基板(24)放置和脱离所述基板支撑组件(20)。

3.根据权利要求1所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述升降平台(21)包括升降部和固定部,所述固定部固定在所述烘箱(10)上,且所述固定部对所述升降部起支撑作用,所述升降部带动所述加热板(23)沿靠近或远离所述基板(24)的方向上运动。

4.根据权利要求1所述的一种真空烘烤设备,其特征在于,所述提升机构设有第一沉孔(233),所述第一沉孔(233)用于容纳所述提升台阶(204)。

5.根据权利要求4所述的真空烘烤设备,其特征在于,所述真空烘烤设备还包括导向套(25),所述导向套(25)固定在所述加热板(23)上。

6.根据权利要求3所述的一种真空烘烤设备,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘峰海李奇祁伟杨县委
申请(专利权)人:季华实验室
类型:发明
国别省市:

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