System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 光电器件及其制备方法、显示装置制造方法及图纸_技高网

光电器件及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:43859213 阅读:5 留言:0更新日期:2024-12-31 18:48
本申请提供一种光电器件及其制备方法、显示装置。光电器件包括层叠设置的第一电极、功能层和第二电极,功能层包括多层子功能层,至少两层相邻的子功能层之间设置有第一界面修饰层,第一界面修饰层的材料包括超支化聚合物。第一界面修饰层的超支化聚合物在相邻子功能层之间的界面处具有很强的粘附性,同时超支化聚合物的分子内空腔在弯曲过程中可以进行结构重构并吸收变形能量,从而能提高相邻的子功能层之间的界面的机械强度和韧性,减少甚至避免各子功能层出现裂纹,减少漏电流,进而提高光电器件的效率。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于显示,尤其涉及一种光电器件及其制备方法、显示装置


技术介绍

1、目前广泛使用的光电器件为有机发光器件(oled)和量子点发光器件(qled)。oled由于其具有自发光、结构简单、超轻薄、相应速度快、宽视角、低功耗、可柔性显示等十分优异的显示性能,已成为显示
中的主流技术。qled具有出射光颜色饱、波长可调、启亮电压低、溶液加工性好、量子点易于精细控制等优点,而且光致、电致发光量子产率高,近年来成了oled的有力竞争着。

2、然而,现有光电器件的功能层,例如发光层、电子功能层、空穴功能层等,由于缺乏柔性骨架与柔性链段,其断裂能低,在机械应力下这些功能层容易产生严重的裂纹,导致光电器件的效率大幅降低。


技术实现思路

1、基于此,本申请实施例提供一种光电器件及其制备方法、显示装置。

2、第一方面,本申请实施例提供一种光电器件,所述光电器件包括层叠设置的第一电极、功能层和第二电极,所述功能层包括层叠设置的第一电极、功能层和第二电极,所述功能层包括多层子功能层,至少两层相邻的所述子功能层之间设置有第一界面修饰层,所述第一界面修饰层的材料包括超支化聚合物。

3、第二方面,本申请实施例还提供一种光电器件的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:在预拉伸的弹性衬底上形成第一电极;在所述第一电极上形成包括多层子功能层的功能层以及在至少两层相邻的所述子功能层之间形成第一界面修饰层,所述第一界面修饰层的材料包括超支化聚合物;在所述功能层上形成第二电极;所述弹性衬底由拉伸状态恢复至初始状态,使所述第一电极、所述功能层、所述第一界面修饰层和所述第二电极形成褶皱结构,得到光电器件。

4、第三方面,本申请实施例还提供一种显示装置,所述显示装置包括上述的光电器件,或者所述显示装置包括由上述的制备方法制备得到的光电器件。

5、本申请提供的光电器件中,至少两层相邻的子功能层之间设置有第一界面修饰层,所述第一界面修饰层的材料包括超支化聚合物,超支化聚合物能够有效地吸收和减轻变形能量,从而提高相邻的子功能层之间的界面的机械强度和韧性,减少甚至避免各子功能层出现裂纹,减少漏电流,进而提高光电器件的效率。

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【技术保护点】

1.一种光电器件,其特征在于,包括层叠设置的第一电极、功能层和第二电极,所述功能层包括多层子功能层,至少两层相邻的所述子功能层之间设置有第一界面修饰层,所述第一界面修饰层的材料包括超支化聚合物。

2.根据权利要求1所述的光电器件,其特征在于,所述第一界面修饰层形成褶皱结构;

3.根据权利要求2所述的光电器件,其特征在于,所述褶皱结构中凸起与相邻凹槽的高度差为5nm~300nm,所述褶皱结构中相邻两个凸起的间距为50nm~2000nm,所述褶皱结构中相邻两个凹槽的间距为50nm~2000nm。

4.根据权利要求1或2所述的光电器件,其特征在于,所述超支化聚合物为聚酰胺胺基超支化聚合物,所述聚酰胺胺基超支化聚合物由第一单体和第二单体通过加成反应合成,所述第一单体与第二单体的摩尔比为1:2~2:1;

5.根据权利要求4所述的光电器件,其特征在于,所述聚酰胺胺基超支化聚合物的结构式为:

6.根据权利要求1或2所述的光电器件,其特征在于,所述子功能层包括发光层和电子功能层,所述电子功能层设置在所述发光层与所述第一电极之间或所述发光层与所述第二电极之间,所述发光层与所述电子功能层之间设置有所述第一界面修饰层;

7.根据权利要求6所述的光电器件,其特征在于,所述电子功能层包括电子传输层和/或电子注入层;

8.根据权利要求7所述的光电器件,其特征在于,所述电子功能层包括所述电子传输层和所述电子注入层时,所述电子传输层与所述电子注入层之间设置有所述第一界面修饰层;

9.根据权利要求6所述的光电器件,其特征在于,所述空穴功能层包括空穴传输层和/或空穴注入层;

10.根据权利要求9所述的光电器件,其特征在于,所述空穴功能层包括所述空穴传输层和所述空穴注入层时,所述空穴传输层与所述空穴注入层之间设置有所述第一界面修饰层;

11.根据权利要求6所述的光电器件,其特征在于,所述第一界面修饰层的厚度为1nm~50nm;

12.一种光电器件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

13.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述子功能层包括发光层和电子功能层,所述在所述第一电极上形成包括多层子功能层的功能层以及在至少两层相邻的所述子功能层之间形成第一界面修饰层的步骤包括:

14.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述在至少两层相邻的所述子功能层之间形成第一界面修饰层的步骤包括:

15.根据权利要求12~14任意一项所述的制备方法,其特征在于,所述超支化聚合物为聚酰胺胺基超支化聚合物,所述聚酰胺胺基超支化聚合物由第一单体和第二单体通过加成反应合成,所述第一单体为N,N'-亚甲基二丙烯酰胺,所述第二单体为C2~C30的烷基二胺,所述第一单体与第二单体的比例为1:2~2:1;

16.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1~11任意一项所述的光电器件,或者所述显示装置包括由权利要求12~15任意一项所述的制备方法制备得到的光电器件。

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【技术特征摘要】

1.一种光电器件,其特征在于,包括层叠设置的第一电极、功能层和第二电极,所述功能层包括多层子功能层,至少两层相邻的所述子功能层之间设置有第一界面修饰层,所述第一界面修饰层的材料包括超支化聚合物。

2.根据权利要求1所述的光电器件,其特征在于,所述第一界面修饰层形成褶皱结构;

3.根据权利要求2所述的光电器件,其特征在于,所述褶皱结构中凸起与相邻凹槽的高度差为5nm~300nm,所述褶皱结构中相邻两个凸起的间距为50nm~2000nm,所述褶皱结构中相邻两个凹槽的间距为50nm~2000nm。

4.根据权利要求1或2所述的光电器件,其特征在于,所述超支化聚合物为聚酰胺胺基超支化聚合物,所述聚酰胺胺基超支化聚合物由第一单体和第二单体通过加成反应合成,所述第一单体与第二单体的摩尔比为1:2~2:1;

5.根据权利要求4所述的光电器件,其特征在于,所述聚酰胺胺基超支化聚合物的结构式为:

6.根据权利要求1或2所述的光电器件,其特征在于,所述子功能层包括发光层和电子功能层,所述电子功能层设置在所述发光层与所述第一电极之间或所述发光层与所述第二电极之间,所述发光层与所述电子功能层之间设置有所述第一界面修饰层;

7.根据权利要求6所述的光电器件,其特征在于,所述电子功能层包括电子传输层和/或电子注入层;

8.根据权利要求7所述的光电器件,其特征在于,所述电子功能层包括所述电子传输层和所述电子注入层时,所述电子传输层与所述电子注入层之...

【专利技术属性】
技术研发人员:占涛
申请(专利权)人:广东聚华印刷显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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