【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及集成电路设计自动化，具体涉及一种布局设计的违规检测方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
1、在集成电路先进节点(22nm及以下)，自对准双重成像约束是一种在有限的光刻分辨率下降低特征尺寸的关键技术。然而，在该技术中，若两个图案之间的距离小于光刻分辨率，则无法在同一掩膜上制造。
2、当前为适配该自对准双重成像技术，通常采用在标准单元库设计阶段，通过调整标准单元走线的几何形状，减少某些放置情况(和单元间距、单元方向有关)下不同单元之间的冲突，但该方案下需要对标准单元库进行更频繁的更新和维护，以确保所有可能的放置情况都被考虑到，灵活性较差。
3、此外在布线阶段时，也有技术人员提前考虑自对准双重成像约束，避免芯片版图完成后出现由双重成像导致的可制造性问题，但布线阶段属于设计的后期阶段，在布线阶段调整的空间较小，复杂的布线中考虑约束也会面临更多的修改复杂性。
4、因此，在集成电路设计自动化过程，尤其是布局设计的违规检测方法相关工艺中，如何在设计流程的早期阶段就快速识别和灵活解决潜在的放置问题，是至关重要的问题。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例提供了一种布局设计的违规检测方法、装置、设备及存储介质，通过在合法化阶段提前考虑填充单元的最佳插入，在单元未固定时即可保证有合法的填充单元插入方案，更灵活解决潜在的放置问题；另外在预处理阶段根据约束条件生成截断模式规则以限缩单次判断的区间长度，在判断过程中使用三指针算法，可以快速识别判断出违规
2、一方面，本申请实施例提供一种布局设计的违规检测方法，包括以下步骤：
3、获取约束条件，基于所述约束条件，生成截断模式规则，获取电路设计版图，选取若干待处理单元和若干待放置位置；
4、从所述待处理单元中选取当前处理单元，从所述待放置位置中选取当前放置位置，基于所述截断模式规则，对所述当前处理单元在所述当前放置位置，生成待处理区间；
5、使用三指针算法对所述待处理区间进行多轮扫描判断违规情况，识别到所述违规情况或扫描完所述待处理区间，停止所述三指针算法的扫描，返回在所述当前放置位置的扫描判断结果；
6、基于所述扫描结果判断所述当前处理单元的放置合法性，满足所述放置合法性，处理下一个所述待处理单元；处理完所有所述待处理单元，返回合法化的电路设计版图结果。
7、进一步地，所述约束条件包括行内最小宽度约束和行内最小间距约束。
8、进一步地，所述截断模式规则为存在一个截断区间，使得所述截断区间第一侧边的格点填充类型的分布设计，不会造成第二侧边的分布设计违规。
9、更进一步地，沿所述当前处理单元向侧边分别搜索至满足所述截断模式规则的第一截断区间和第二截断区间，所述第一截断区间和所述第二截断区间之间的格点构成所述待处理区间。
10、进一步地，所述三指针算法在每轮扫描中，三指针同步移动，以指针区间长度判断违规情况。
11、更进一步地，在本轮扫描中发现违规，停止扫描，返回在所述当前放置位置的违规结果；在本轮扫描中未发现违规，进行下一轮扫描，直至扫描完所述待处理区间，返回在所述当前放置位置的合规结果。
12、进一步地，在不满足所述放置合法性时，选取所述待放置位置中下一个放置位置，作为所述当前放置位置进行所述扫描判断；在满足所述放置合法性时，选取所述待处理单元中下一个处理单元，作为所述当前处理单元进行所述扫描判断，直至判断完所述待处理单元。
13、另一方面，本申请实施例提供一种布局设计的违规检测装置，包括：
14、预处理模块，用于获取约束条件，基于所述约束条件，生成截断模式规则，获取电路设计版图，选取若干待处理单元和若干待放置位置；
15、区间划分器，用于从所述待处理单元中选取当前处理单元，从所述待放置位置中选取当前放置位置，基于所述截断模式规则，对所述当前处理单元在所述当前放置位置，生成待处理区间；
16、违规识别器，用于使用三指针算法对所述待处理区间进行多轮扫描判断违规情况，识别到所述违规情况或扫描完所述待处理区间，停止所述三指针算法的扫描，返回在所述当前放置位置的扫描判断结果；
17、合法化引擎，用于基于所述扫描结果判断所述当前处理单元的放置合法性，满足所述放置合法性，处理下一个所述待处理单元；处理完所有所述待处理单元，返回合法化的电路设计版图结果。
18、另一方面，本申请实施例提供一种计算机设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现如上述任一项所述的布局设计的违规检测方法的步骤。
19、另一方面，本申请实施例提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述任一项所述的布局设计的违规检测方法的步骤。
20、与现有技术相比，本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到的有益效果至少包括：
21、1、本申请违规检测方法在合法化阶段提前考虑填充单元的最佳插入，在单元未固定时即可保证有合法的填充单元插入方案，在布局优化的初期更灵活解决潜在的放置问题，减少后续的修改和重新布局的需求；通过提早解决填充问题使得后续的设计迭代和验证过程更加顺利，减少设计周期内的迭代次数，避免因填充问题而导致的多次修改，增强设计的稳定性，由于不需要修改标准单元库，可以缩短整体设计周期，降低设计成本。
22、2、本申请违规检测方法在处理大型数据集时，如半导体版图中的大量格点，在预处理阶段便根据约束条件生成截断模式规则以限缩单次判断的区间长度，在违规判定过程中使用三指针算法，可以在单次遍历中完成更多的操作和检查，具有比传统双指针方法更高的效率，可以快速识别判断出违规区间；此外三指针算法也可以更灵活地处理多个条件和约束复杂情况，在实时或近实时的版图设计和验证过程中，可以同时追踪修剪层和非修剪层的分布，以及它们与设计规则的关系，快速识别出违规情况，从而及时调整设计，减少后期的修改和改进工作。
23、3、本申请违规检测方法不依赖于预先定义的标准单元库，可以根据具体的芯片设计和布局情况动态调整填充单元的插入位置和类型，使得能更好地适应各种不同的设计需求，例如处理不规则形状的区域或应对不断变化的布局约束，根据实际的布局情况和单元间距，精确地识别出最佳的填充单元插入方案，从而最大限度地减少填充单元的违规数量，增强检测方法的鲁棒性和适应力。
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1.一种布局设计的违规检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，所述约束条件包括行内最小宽度约束和行内最小间距约束。
3.根据权利要求1所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，所述截断模式规则为存在一个截断区间，使得所述截断区间第一侧边的格点填充类型的分布设计，不会造成第二侧边的分布设计违规。
4.根据权利要求3所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，沿所述当前处理单元向侧边分别搜索至满足所述截断模式规则的第一截断区间和第二截断区间，所述第一截断区间和所述第二截断区间之间的格点构成所述待处理区间。
5.根据权利要求1所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，所述三指针算法在每轮扫描中，三指针同步移动，以指针区间长度判断违规情况。
6.根据权利要求5所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，在本轮扫描中发现违规，停止扫描，返回在所述当前放置位置的违规结果；在本轮扫描中未发现违规，进行下一轮扫描，直至扫描完所述待处理区间，返回在所述当前放置位置的合规结果。
<...【技术特征摘要】
1.一种布局设计的违规检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，所述约束条件包括行内最小宽度约束和行内最小间距约束。
3.根据权利要求1所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，所述截断模式规则为存在一个截断区间，使得所述截断区间第一侧边的格点填充类型的分布设计，不会造成第二侧边的分布设计违规。
4.根据权利要求3所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，沿所述当前处理单元向侧边分别搜索至满足所述截断模式规则的第一截断区间和第二截断区间，所述第一截断区间和所述第二截断区间之间的格点构成所述待处理区间。
5.根据权利要求1所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，所述三指针算法在每轮扫描中，三指针同步移动，以指针区间长度判断违规情况。
6.根据权利要求5所述的布局设计的违规检测方法，其特征在于，在本轮扫描中发现违规，停止扫描，返回在所述当前放置位置的...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈国豪，邹鹏，
申请(专利权)人：上海立芯软件科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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