【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及异物检查系统、曝光装置及物品的制造方法。
技术介绍
1、在作为半导体器件或液晶显示器件的制造工序之一的光刻工序中进行曝光处理，该曝光处理使用曝光装置将形成在掩模上的电路图案经由投影光学系统在涂敷有抗蚀剂的晶片或玻璃基板上曝光。在曝光处理中，例如，如果异物附着在成为原版的掩模上，则异物的像与电路图案同时被曝光到晶片或玻璃基板上，因此成为成品率降低的原因。因此，要求在曝光装置上搭载异物检查装置，进行原版等上的异物的检查。
2、在专利文献1中公开了一边用搬送机器人(搬送手)搬送基板，一边检查基板的异物的内容。
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2012-112921号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、在利用搬送机器人一边搬送基板一边实施异物检查的情况下，要求一边使搬送机器人在水平方向上驱动，一边扫描基板整体进行检查。但是，在使搬送机器人沿水平方向驱动的情况下，由于搬送机器人的振动或基板的挠曲等原因，异物的测量精度有可能降低。
3、因此，本专利技术的目的在于提供一种有利于抑制异物的测量精度降低的异物检查系统。
4、用于解决课题的方案
5、为了达到上述目的，作为本专利技术的一方式的异物检查系统的特征在于，所述异物检查系统具有：搬送手，搬送物体；受光部，接收来自所述物体的光；以及旋转部，与所述搬送手接触并随着所述搬送手的驱动而旋转，一边在使所述搬送手与所述旋转部接触的状态下驱动
6、专利技术的效果
7、根据本专利技术，能够提供一种有利于抑制异物的测量精度降低的异物检查系统。
8、通过以下示例性实施例的描述(参考附图)，本专利技术的进一步特征将变得明显。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种异物检查系统，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的异物检查系统，其特征在于，
5.根据权利要求3所述的异物检查系统，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的异物检查系统，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
8.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
9.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
10.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
11.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
12.一种异物检查装置，具有异物检测机构，该异物检测机构进行由搬送手搬送的物体的异物检查，其特征在于，
13.一种异物检查方法，其特征在于，
14.根据权利要求13所述的异物检查方法，其特征在于，
15.根据权利要求13所述的异物检查方法，其特征在于，
17.一种曝光装置，其特征在于，
18.一种物品的制造方法，其特征在于，
...【技术特征摘要】
1.一种异物检查系统，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的异物检查系统，其特征在于，
5.根据权利要求3所述的异物检查系统，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的异物检查系统，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
8.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
9.根据权利要求1所述的异物检查系统，其特征在于，
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