【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及中子散射谱仪，具体为无磁束流调整尺寸机构。
技术介绍
1、中子散射谱仪是用于中子散射实验的装置，主要探测物质的微观结构和运动。高压中子衍射谱仪是整合了衍射与成像两种工作模式、配置了较为全面的专用压力环境设备、同时具备高/低温及磁场环境、具有一定通用性的中子粉末衍射谱仪。四刀光阑是中子谱仪中的关键光学部件，起到配合观测不同样品种类调节到与之相匹配的中子束流尺寸的作用，并且在高压谱仪同时具有样品环境前端的准直管配合前后四刀光阑，实现第一散射室以及第二散射室两种模式的切换。
2、目前，针对中子束流的调整尺寸机构的相关设计较少，尤其是在当前的束流调整技术中，通常使用磁场来控制束流的运动和尺寸。然而，使用磁场进行束流调整存在一些问题。首先，磁场装置通常体积庞大，增加了束流调整系统的复杂性。其次，磁场装置的能耗较高，增加了束流调整系统的运行成本。因此，需要一种高精度无磁束流调整尺寸机构来解决这些问题。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的上述缺点，本专利技术的目的是提供无磁束流调整尺寸机构及其安装准直方法。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：无磁束流调整尺寸机构，包括狭缝结构和狭缝调节机构，所述狭缝结构和狭缝调节机构安装于高压谱仪前端互换系统上，在狭缝结构和狭缝调节机构的上方安装狭缝机构，所述狭缝结构包括安装底板及支撑系统、控制反馈系统、驱动系统、刀片以及屏蔽系统；所述安装底板及支撑系统的两侧安装有驱动系统，所述驱动系统的端部安装有刀片以及屏
3、所述的安装底板及支撑系统包括安装底板、安装立板、导轨滑块组件，安装底板与狭缝结构和狭缝调节机构相连接，安装立板安装在安装底板上。
4、所述的导轨滑块组件安装于安装立板的两侧，起到支撑导向的作用。
5、所述控制反馈系统包括光栅系统、限位开关支架、零位开关支架，限位开关和零位开关。
6、所述导轨滑块组件是由两条并行分布的导轨本体构成的双导轨结构，包括基准侧导轨以及从动侧导轨，所述基准侧导轨和从动侧导轨分别安装从左至右和从上到下的顺序依次设置，所述导轨滑块组件上安装有滑块。
7、所述安装底板安装于狭缝结构和狭缝调节机构上，安装底板连接固定方式采用定位销定位、螺钉连接，所述安装立板安装于安装底板上，安装立板与安装底板采用螺钉连接固定，所述安装立板提供整体安装的基准，所述安装立板设置有精加工面作为导轨滑块组件中导轨的安装基准面和导轨的安装面。
8、所述驱动系统包括电机、联轴器和丝杆，电机通过联轴器与丝杆相连接，之后再经电机支架、轴承座安装于安装立板上。
9、所述电机支架安装于安装立板上，且所述电机支架上安装有电机，所述电机的输出轴一侧通过连接螺母与螺钉固定连接有运动板，所述运动板通过螺母与丝杆连接并安装于导轨滑块组件上。
10、所述运动板安装于滑块导轨上，通过螺钉固定在滑块上，所述运动板提供刀片以及碳化硼的安装位置，所述运动板同时起到限位开关以及零位开关信号触发的作用，所述限位开关支架安装于安装立板的上部，且所述限位开关支架上安装有限位开关，所述限位开关为小型机械限位开关，并位于运动板的两侧。
11、所述导轨滑块组件一端与安装立板连接，一端与运动板连接；基准侧导轨采用偏心定位销压紧；基准侧滑块采用内六角螺钉压紧。
12、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
13、本专利技术中整套设备均采用无磁材料，其对于磁场和超导线圈的影响为零。驱动方式采用无磁超声电机，区别于传统的永磁体电机需要通过电磁感应进行驱动，无磁电机依靠压电陶瓷原理来实现电机驱动，可以避免磁场对电机的干扰，从而保证设备在强磁场环境下高精度正常运行；更具体的是，材料选用铝合金和铜无磁材质，局部316ln不锈钢，螺钉采用钛合金，设备整体磁导率小于1.05，设备对磁场设备的影响极小；电机采用无磁超声电机，在强磁场环境下可以高精度正常运动；对安装立板上主导管的安装面，进行高精度加工，作为导轨、滑块和运动板的安装基准，运动板上加工高精度安装基准面，用来安装刀片，该运动板上的安装基准面和和安装立板上导管的安装基准面高精度垂直，通过导轨和滑块的精密配合保证刀片在全行程运动中的直线度；本专利技术中的测量刀片内侧开口的四个表面和安装立板的前后面，建立局域网坐标系，该坐标系下测量位于安装立板上的四个或者六个靶标座，通过六个靶标座在空间中的坐标来表征整个狭缝设备在空间中的位置；使用激光跟踪仪，将设备上的4个或者6个靶标座准直到空间中的理论值上，从而将设备安装到空间中的理论位置上。
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1.无磁束流调整尺寸机构，包括狭缝结构和狭缝调节机构(1)，其特征在于：所述狭缝结构和狭缝调节机构(1)安装于高压谱仪前端互换系统上，在狭缝结构和狭缝调节机构(1)的上方安装狭缝机构，所述狭缝结构包括安装底板及支撑系统(2)、控制反馈系统(6)、驱动系统(3)、刀片以及屏蔽系统(4)；所述安装底板及支撑系统(2)的两侧安装有驱动系统(3)，所述驱动系统(3)的端部安装有刀片以及屏蔽系统(4)，其下方设置有靶标系统(5)，所述靶标系统(5)安装于安装底板及支撑系统(2)的两侧，所述刀片以及屏蔽系统(4)的上方设置有控制反馈系统(6)。
2.根据权利要求1所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述的安装底板及支撑系统(2)包括安装底板(7)、安装立板(8)、导轨滑块组件(9)，安装底板(7)与狭缝结构和狭缝调节机构(1)相连接，安装立板(8)安装在安装底板(7)上。
3.根据权利要求2所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述的导轨滑块组件(9)安装于安装立板(8)的两侧，起到支撑导向的作用。
4.根据权利要求1所述的无磁束流调整尺寸机构，其特
5.根据权利要求2或3所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述导轨滑块组件(9)是由两条并行分布的导轨本体构成的双导轨结构，包括基准侧导轨以及从动侧导轨，所述基准侧导轨和从动侧导轨分别安装从左至右和从上到下的顺序依次设置，所述导轨滑块组件(9)上安装有滑块(10)。
6.根据权利要求2所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述安装底板(7)安装于狭缝结构和狭缝调节机构(1)上，安装底板(7)连接固定方式采用定位销定位、螺钉连接，所述安装立板(8)安装于安装底板(7)上，安装立板(8)与安装底板(7)采用螺钉连接固定，所述安装立板(8)提供整体安装的基准，所述安装立板(8)设置有精加工面作为导轨滑块组件(9)中导轨的安装基准面和导轨的安装面。
7.根据权利要求1所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述驱动系统(3)包括电机(12)、联轴器和丝杆，电机(12)通过联轴器与丝杆相连接，之后再经电机支架(11)、轴承座安装于安装立板(8)上。
8.根据权利要求7所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述电机支架(11)安装于安装立板(8)上，且所述电机支架(11)上安装有电机(12)，所述电机(12)的输出轴一侧通过连接螺母与螺钉固定连接有运动板(13)，所述运动板(13)通过螺母与丝杆连接并安装于导轨滑块组件(9)上。
9.根据权利要求8所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述运动板(13)安装于滑块导轨上，通过螺钉固定在滑块(10)上，所述运动板(13)提供刀片(20)以及碳化硼的安装位置，所述运动板(13)同时起到限位开关(16)以及零位开关(17)信号触发的作用，限位开关支架(14)安装于安装立板(8)的上部，且所述限位开关支架(14)上安装有限位开关(16)，所述限位开关(16)为小型机械限位开关，并位于运动板(13)的两侧。
10.根据权利要求5所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述导轨滑块组件(9)一端与安装立板(8)连接，一端与运动板(13)连接；基准侧导轨采用偏心定位销压紧；基准侧滑块(10)采用内六角螺钉压紧。
...【技术特征摘要】
1.无磁束流调整尺寸机构，包括狭缝结构和狭缝调节机构(1)，其特征在于：所述狭缝结构和狭缝调节机构(1)安装于高压谱仪前端互换系统上，在狭缝结构和狭缝调节机构(1)的上方安装狭缝机构，所述狭缝结构包括安装底板及支撑系统(2)、控制反馈系统(6)、驱动系统(3)、刀片以及屏蔽系统(4)；所述安装底板及支撑系统(2)的两侧安装有驱动系统(3)，所述驱动系统(3)的端部安装有刀片以及屏蔽系统(4)，其下方设置有靶标系统(5)，所述靶标系统(5)安装于安装底板及支撑系统(2)的两侧，所述刀片以及屏蔽系统(4)的上方设置有控制反馈系统(6)。
2.根据权利要求1所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述的安装底板及支撑系统(2)包括安装底板(7)、安装立板(8)、导轨滑块组件(9)，安装底板(7)与狭缝结构和狭缝调节机构(1)相连接，安装立板(8)安装在安装底板(7)上。
3.根据权利要求2所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述的导轨滑块组件(9)安装于安装立板(8)的两侧，起到支撑导向的作用。
4.根据权利要求1所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述控制反馈系统(6)包括光栅系统、限位开关支架(14)、零位开关支架(15)，限位开关(16)和零位开关(17)。
5.根据权利要求2或3所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述导轨滑块组件(9)是由两条并行分布的导轨本体构成的双导轨结构，包括基准侧导轨以及从动侧导轨，所述基准侧导轨和从动侧导轨分别安装从左至右和从上到下的顺序依次设置，所述导轨滑块组件(9)上安装有滑块(10)。
6.根据权利要求2所述的无磁束流调整尺寸机构，其特征在于：所述安装底...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴延岩，殷煜钦，李卓，蔡泽迎，
申请(专利权)人：散裂中子源科学中心，
类型：新型
国别省市：
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