【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及沉积设备，具体为一种气相沉积系统及气相沉积设备的承载组件。
技术介绍
1、化学气相沉积（chemical vapor deposition，简称cvd）反应设备或原子层沉积（atomic layer deposition，简称ald）反应设备在沉积时转动放置有加工基片的承载盘（衬底支撑组件），从而为基片提供均一的沉积效果。一种典型的气相沉积反应器结构为，由反应腔侧壁环绕围成的反应腔，反应腔内包括轴结构，安放有基片的基片托盘安装在轴结构的顶端。反应腔顶部包括气体喷淋头，用于将反应气体从反应气体源均匀注入反应腔，实现对基片的加工处理，反应腔下方还包括一个抽气装置以控制反应腔内部气压并抽走反应过程中产生的废气。
2、例如公告号为cn118048623a的中国专利技术专利公开了一种气相沉积设备的承载组件及气相沉积设备，具体包括：能够接收射频辐射产生感应电流来加热基片的托盘主体，其上沿周向排布多个盘位用于放置基片；用于承载基片的圆盘形的子托盘，其可以活动放置于盘位上并绕子托盘的中心轴旋转；围绕子托盘设置有一环形台阶，其靠近子托盘的上表面配置为低于子托盘的上表面；贯穿托盘主体和环形台阶且可在高位和低位之间移动的升降销，其上表面至少部分的位于基片下，用于在取放基片时带动基片上下移动。
3、上述方案在实际使用时存在以下的不足之处：
4、该方案采用射频感应加热器的薄膜沉积工艺，通过提高基片周围环形台阶部件的体积，来增加射频能量在该环形台阶中的热转化率，防止基片边缘温度过低造成的成膜不均匀，同时，在
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种气相沉积系统及气相沉积设备的承载组件，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、一种气相沉积设备的承载组件，包括安装箱体，所述安装箱体上设置有移动板体以及用于驱动移动板体移动的气缸一，所述移动板体的一侧由下至上依次设置有下板体和上板体，所述上板体上设置有收纳件、多个承载件以及用于将样品从收纳件分别转运到多个承载件上的输送单元，所述上板体的上表面设置有多个隔板，通过多个所述隔板将上板体分隔成多个区域，所述收纳件和多个承载件分别位于不同的区域内。
4、优选的，所述输送单元包括转运壳体，所述转运壳体内壁的底部转动连接有安装盘，所述转运壳体的一侧设置有驱动安装盘旋转的执行器，所述安装盘上设置有输送件，所述转运壳体上开设有多个分别与多个区域连通的贯穿槽。
5、优选的，所述输送件包括安装座，所述安装座上设置有电机，所述电机的输出轴延伸至安装座的内部并设置有蜗杆，所述蜗杆的两侧啮合有蜗轮，所述蜗轮上均设置有驱动轴，所述驱动轴的顶端贯穿安装座并连接有驱动臂，所述驱动臂的端部转动连接有连接臂，两个所述连接臂的端部转动连接有连接座，所述连接座上设置有转运板以及驱动转运板上下运动的气缸二。
6、优选的，所述转运壳体的上方设置有罩体，所述罩体的内壁通过承载板连接有气缸三，所述气缸三的输出端设置有顶盘，所述顶盘的下表面设置有多个与贯穿槽相对应的挡板，所述转运壳体的内壁设置有若干与挡板相对应的插接条。
7、优选的，所述承载件包括气缸四，所述气缸四设置于下板体上，所述气缸四的输出端设置有升降台，所述升降台上设置有加热盘以及驱动加热盘旋转的驱动电机，所述加热盘内设置有感应线圈。
8、优选的，所述加热盘的上表面设置有两个弧形放置台一，所述弧形放置台一的一侧设置有固定块，所述固定块上转动连接有锁紧螺栓一，所述加热盘的上表面开设有与锁紧螺栓一相对应的螺纹孔，所述弧形放置台一与样品的相抵侧开设有若干通孔一。
9、优选的，所述收纳件包括气缸五，所述气缸五的输出端设置有若干分隔盘，相邻两个分隔盘之间设置有连接件，所述分隔盘的上表面均设置有两个弧形放置台二，所述弧形放置台二上转动连接有锁紧螺栓二，所述分隔盘上开设有若干与锁紧螺栓二相对应的螺纹槽。
10、一种气相沉积系统，包括机座和承载组件，所述机座上表面的一侧设置有控制系统，所述机座上表面的另一侧设置有反应系统，所述承载组件部分结构位于反应系统内，所述机座内设置有气路系统、真空系统和排气系统。
11、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
12、本专利技术通过隔板将上板体分隔成多个区域，并在输送单元的作用下将样品从收纳件分别转运到多个承载件上进行沉积，能够实现对多个样品进行分别沉积，也能够确保每个样品都能均匀地受到反应物质的作用，也避免样品之间的相互干扰，通过设置收纳件，能够实现对样品的存储，也能够对沉积完成的样品进行放置冷却，避免在对多个样品进行沉积时频繁打开箱门减少能源的消耗和气体等资源的使用量。
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1.一种气相沉积设备的承载组件，包括安装箱体，其特征在于，所述安装箱体上设置有移动板体以及用于驱动移动板体移动的气缸一，所述移动板体的一侧由下至上依次设置有下板体和上板体，所述上板体上设置有收纳件、多个承载件以及用于将样品从收纳件分别转运到多个承载件上的输送单元，所述上板体的上表面设置有多个隔板，通过多个所述隔板将上板体分隔成多个区域，所述收纳件和多个承载件分别位于不同的区域内。
2.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述输送单元包括转运壳体，所述转运壳体内壁的底部转动连接有安装盘，所述转运壳体的一侧设置有驱动安装盘旋转的执行器，所述安装盘上设置有输送件，所述转运壳体上开设有多个分别与多个区域连通的贯穿槽。
3.根据权利要求2所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述输送件包括安装座，所述安装座上设置有电机，所述电机的输出轴延伸至安装座的内部并设置有蜗杆，所述蜗杆的两侧啮合有蜗轮，所述蜗轮上均设置有驱动轴，所述驱动轴的顶端贯穿安装座并连接有驱动臂，所述驱动臂的端部转动连接有连接臂，两个所述连接臂的端部转动连接有连接座，所述
4.根据权利要求2所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述转运壳体的上方设置有罩体，所述罩体的内壁通过承载板连接有气缸三，所述气缸三的输出端设置有顶盘，所述顶盘的下表面设置有多个与贯穿槽相对应的挡板，所述转运壳体的内壁设置有若干与挡板相对应的插接条。
5.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述承载件包括气缸四，所述气缸四设置于下板体上，所述气缸四的输出端设置有升降台，所述升降台上设置有加热盘以及驱动加热盘旋转的驱动电机，所述加热盘内设置有感应线圈。
6.根据权利要求5所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述加热盘的上表面设置有两个弧形放置台一，所述弧形放置台一的一侧设置有固定块，所述固定块上转动连接有锁紧螺栓一，所述加热盘的上表面开设有与锁紧螺栓一相对应的螺纹孔，所述弧形放置台一与样品的相抵侧开设有若干通孔一。
7.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述收纳件包括气缸五，所述气缸五的输出端设置有若干分隔盘，相邻两个分隔盘之间设置有连接件，所述分隔盘的上表面均设置有两个弧形放置台二，所述弧形放置台二上转动连接有锁紧螺栓二，所述分隔盘上开设有若干与锁紧螺栓二相对应的螺纹槽。
8.一种气相沉积系统，其特征在于，包括机座和如权利要求1-7任一项所述的承载组件，所述机座上表面的一侧设置有控制系统，所述机座上表面的另一侧设置有反应系统，所述承载组件部分结构位于反应系统内，所述机座内设置有气路系统、真空系统和排气系统。
...【技术特征摘要】
1.一种气相沉积设备的承载组件，包括安装箱体，其特征在于，所述安装箱体上设置有移动板体以及用于驱动移动板体移动的气缸一，所述移动板体的一侧由下至上依次设置有下板体和上板体，所述上板体上设置有收纳件、多个承载件以及用于将样品从收纳件分别转运到多个承载件上的输送单元，所述上板体的上表面设置有多个隔板，通过多个所述隔板将上板体分隔成多个区域，所述收纳件和多个承载件分别位于不同的区域内。
2.根据权利要求1所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述输送单元包括转运壳体，所述转运壳体内壁的底部转动连接有安装盘，所述转运壳体的一侧设置有驱动安装盘旋转的执行器，所述安装盘上设置有输送件，所述转运壳体上开设有多个分别与多个区域连通的贯穿槽。
3.根据权利要求2所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述输送件包括安装座，所述安装座上设置有电机，所述电机的输出轴延伸至安装座的内部并设置有蜗杆，所述蜗杆的两侧啮合有蜗轮，所述蜗轮上均设置有驱动轴，所述驱动轴的顶端贯穿安装座并连接有驱动臂，所述驱动臂的端部转动连接有连接臂，两个所述连接臂的端部转动连接有连接座，所述连接座上设置有转运板以及驱动转运板上下运动的气缸二。
4.根据权利要求2所述的一种气相沉积设备的承载组件，其特征在于，所述转运壳体的上方设置有罩体，所述罩体的内壁通过承载板连接有气缸三，所述气缸三...
【专利技术属性】
技术研发人员：闫威省，闫省，王志龙，
申请(专利权)人：江苏恒业半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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