【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光罩，具体涉及一种光罩的尺规结构。
技术介绍
1、尺规在光电领域作为光罩上设计图形，主要是将tft玻璃边角料去除而设计，如图1所示。由于尺规在制程工艺里暂时没有实现自动化辨认，需人工进行尺规确认是否异常。人员检测尺规第一动作就是眼睛找寻曝光区域的数值，如图2，然后再根据大脑中的记忆比对是否符合该产品制程工艺数字的范围(即图3中所示周曝工艺书说明曝光区域数字0至-5进行制程工艺)，如果曝光区域在范围内，则判定曝边工艺无异常，如果超出范围，则判定产品曝边异常。
2、然而，现有的判定仅能根据数值判定，对眼力要求较高，且记忆提取也需要一定的时间，通常需要30s才能完成辨识。并且不同的产品的制程工艺可能会对应不同的范围，如果记忆出现偏差，比对就容易出错。
技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题，在于提供一种光罩的尺规结构，针对人工判定的改善尺规结构，符合更容易目视辨认的要求，提升人工判定速度和精准度。
2、本技术是这样实现的：
3、一种光罩的尺规结构，所述光罩的每一条边的两端设置有两个尺规区域，每一尺规区域包括至少一条尺规图形，每一尺规图形包括刻度基线、位于刻度基线中部的曝光区域图形、位于刻度基线两侧的非曝光区域图形以及曝光刻度值，所述曝光区域图形的位置根据光罩所对应的产品的制程工艺所确定的目标曝光区域范围设置，所述曝光区域图形与非曝光区域图形区别设计。
4、进一步地，当曝光刻度值为5的倍数时，曝光区域图形与非曝光区域图形均包括在刻
5、可选的，所述区域标识图形位于刻度基线下方，为一矩形区域，所述矩形区域的一端对应目标曝光区域范围的最小值，另一端对应目标曝光区域范围的最大值。
6、可选的，所述区域标识图形位于刻度基线上方，为两个箭头，一箭头指向目标曝光区域范围的最小值对应的刻度条，另一箭头指向目标曝光区域范围的最大值对应的刻度条。
7、进一步地，所述曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的第三高度值的刻度条，所述非曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的第四高度值的刻度条，所述第三高度值大于第四高度值，或所述第三高度值小于第四高度值。
8、进一步地，当第三高度值大于第四高度值时，所述曝光区域图形的中间刻度条的高度大于第三高度值。
9、进一步地，当第三高度值小于第四高度值时，所述曝光区域图形的中间刻度条的高度小于第三高度值。
10、进一步地，所述非曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的第五高度值的刻度条，所述曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的高度大于第五高度值的刻度条，且从中间向两边高度递减。
11、进一步地，所述非曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的有第六高度值的刻度条，所述曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的高度小于第六高度值的刻度条，且从中间向两边高度递增。
12、可选的，每一尺规区域包括十条平行排列的尺规图形。
13、本技术的优点在于：
14、通过区别设计曝光区域图形与非曝光区域图形，测试人员检测尺规时，眼睛只需要找寻曝光区域图形，并不需要数据比对，大脑立马可以判定曝边工艺是否异常，因为大脑对于图像辨识速度远比数据比对的速度快，辨识时间可缩短至10s左右。
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1.一种光罩的尺规结构，其特征在于：所述光罩的每一条边的两端设置有两个尺规区域，每一尺规区域包括至少一条尺规图形，每一尺规图形包括刻度基线、位于刻度基线中部的曝光区域图形、位于刻度基线两侧的非曝光区域图形以及曝光刻度值，所述曝光区域图形的位置根据光罩所对应的产品的制程工艺所确定的目标曝光区域范围设置，所述曝光区域图形与非曝光区域图形区别设计。
2.根据权利要求1所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：当曝光刻度值为5的倍数时，曝光区域图形与非曝光区域图形均包括在刻度基线上方设置的第一高度值的刻度条；当曝光刻度值不是5的倍数时，曝光区域图形与非曝光区域图形均包括在刻度基线上方设置的第二高度值的刻度条；第一高度值大于第二高度值；所述曝光区域图形还包括区域标识图形。
3.根据权利要求2所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于，所述区域标识图形位于刻度基线下方，为一矩形区域，所述矩形区域的一端对应目标曝光区域范围的最小值，另一端对应目标曝光区域范围的最大值。
4.根据权利要求2所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：所述区域标识图形位于刻度基线上方，为两个箭头
5.根据权利要求1所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：所述曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的第三高度值的刻度条，所述非曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的第四高度值的刻度条，所述第三高度值大于第四高度值，或所述第三高度值小于第四高度值。
6.根据权利要求5所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：当第三高度值大于第四高度值时，所述曝光区域图形的中间刻度条的高度大于第三高度值。
7.根据权利要求5所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：当第三高度值小于第四高度值时，所述曝光区域图形的中间刻度条的高度小于第三高度值。
8.根据权利要求1所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：所述非曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的第五高度值的刻度条，所述曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的高度大于第五高度值的刻度条，且从中间向两边高度递减。
9.根据权利要求1所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：所述非曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的有第六高度值的刻度条，所述曝光区域图形包括在刻度基线上方设置的高度小于第六高度值的刻度条，且从中间向两边高度递增。
10.根据权利要求1所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：每一尺规区域包括十条平行排列的尺规图形。
...【技术特征摘要】
1.一种光罩的尺规结构，其特征在于：所述光罩的每一条边的两端设置有两个尺规区域，每一尺规区域包括至少一条尺规图形，每一尺规图形包括刻度基线、位于刻度基线中部的曝光区域图形、位于刻度基线两侧的非曝光区域图形以及曝光刻度值，所述曝光区域图形的位置根据光罩所对应的产品的制程工艺所确定的目标曝光区域范围设置，所述曝光区域图形与非曝光区域图形区别设计。
2.根据权利要求1所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：当曝光刻度值为5的倍数时，曝光区域图形与非曝光区域图形均包括在刻度基线上方设置的第一高度值的刻度条；当曝光刻度值不是5的倍数时，曝光区域图形与非曝光区域图形均包括在刻度基线上方设置的第二高度值的刻度条；第一高度值大于第二高度值；所述曝光区域图形还包括区域标识图形。
3.根据权利要求2所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于，所述区域标识图形位于刻度基线下方，为一矩形区域，所述矩形区域的一端对应目标曝光区域范围的最小值，另一端对应目标曝光区域范围的最大值。
4.根据权利要求2所述的一种光罩的尺规结构，其特征在于：所述区域标识图形位于刻度基线上方，为两个箭头，一箭头指向目标曝光区域范围的最小值对应的刻度条，另一箭头指向目标曝光区域范围的最大值对应的刻度条。
【专利技术属性】
技术研发人员：许育仁，纪绍麒，刘悦，杨逸，陈超，潘伟娇，卢柏宏，李坤杰，李航，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：
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