【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开的实施例一般涉及在基板上形成图案的方法，例如使用掩模将图案转移到基板上。更具体地，本公开的实施例涉及平版印刷拼接的改良。
技术介绍
将图案转移到基板，例如半导体基板，通常使用掩模来完成。例如，平版印刷可用于将掩模中的图案转移到布置在基板上的光刻胶。待形成在基板上的图案对应于掩模上的图案。理想情况下，基板上没有图案特征(例如，图案中的线)是用多于一个掩模来形成的，但是由于要在较大基板上形成的图案的尺寸和/或所使用的设备的尺寸之故，通常使用多个掩模在基板上形成特定的图案化特征。在两个掩模用于在基板上形成单个图案化特征的情况下，两个掩模在基板之上的对齐是有益的，以便使用第一掩模产生的图案化特征的部分与使用第二掩模产生的图案化特征部分对齐。尽管努力使第一个掩模和第二个掩模之间的过渡无缝，但问题仍然存在。例如，对应于掩模之间的接缝的图案化特征的部分经常接收太多或太少的辐射，导致对应于掩模之间的接缝的图案化特征的区域具有比预期更大或更小的尺寸。图案化特征尺寸的这些变化通常足以影响最终从图案化特征生成的组件(例如，用于增强现实应用的波导组合器)的效能。因此，需要改进平版印刷处理的方法和相应的设备。
技术介绍
0、背景
技术实现思路
1、本公开的实施例一般涉及在基板中形成图案的方法，例如使用掩模将图案转移到基板。在一个实施例中，提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括：将第一掩模放置在基板的第一部分之上，该第一掩模包括图案化区域；在第一时间段期间引导辐射穿过基板的第一部分处的第一掩模的
2、在另一个实施例中，提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括：将第一掩模放置在基板的第一部分之上，第一掩模包括图案化区域，在第一时间段内引导辐射穿过基板第一部分处的第一掩模的图案化区域以在基板上形成第一图案化区域；将第二掩模放置在基板的第二部分之上，第二掩模包括第一图案化区域和第二图案化区域，第一图案化区域通过未图案化区域而与第二图案化区域间隔开；在第二时间段期间，引导辐射穿过基板的第二部分的第一部(part)处的第二掩模的第一图案化区域，以在基板上形成第二图案化区域；在第三时间段期间，引导辐射穿过基板的第二部分的第二部(part)处的第二掩模的第二图案化区域以在基板上形成第三图案化区域，其中第三图案化区域位于第一图案化区域与第二图案化区域之间，第三图案化区域的尺寸小于第二图案化区域的尺寸的1％，第三图案化区域与第一图案化区域相邻，而第三图案化区域与第二图案化区域相邻。
3、在另一个实施例中，提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括：将第一掩模放置在基板的第一部分之上，第一掩模包括图案化区域，在第一时间段内引导辐射穿过基板第一部分处的第一掩模的图案化区域以在基板上形成第一图案化区域；将第二掩模放置在基板的第二部分之上，第二掩模包括第一图案化区域和第二图案化区域，第一图案化区域通过未图案化区域而与第二图案化区域间隔开；在第二时间段期间，引导辐射穿过基板的第二部分的第一部(part)处的第二掩模的第一图案化区域，以在基板上形成第二图案化区域；在第三时间段期间，引导辐射穿过基板的第二部分的第二部(part)处的第二掩模的第二图案化区域以在基板上形成第三图案化区域，其中第三图案化区域位于第一图案化区域与第二图案化区域之间，其中第三图案化区域的尺寸小于第二图案化区域的尺寸的1％，第三图案化区域与第一图案化区域相邻，而第三图案化区域与第二图案化区域相邻。
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1.一种在基板上形成图案化特征的方法，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其中所述第三图案化区域与所述第一图案化区域邻接。
3.如权利要求2所述的方法，其中所述第三图案化区域与所述第二图案化区域邻接。
4.如权利要求1所述的方法，其中所述第三图案化区域的尺寸小于所述第二图案化区域的尺寸的10％。
5.如权利要求4所述的方法，其中所述第三图案化区域的所述尺寸小于所述第一图案化区域的尺寸的10％。
6.如权利要求1所述的方法，其中所述第三图案化区域的尺寸小于所述第二图案化区域的尺寸的1％。
7.如权利要求6所述的方法，所述第三图案化区域的所述尺寸小于所述第一图案化区域的尺寸的1％。
8.如权利要求1所述的方法，其中所述第三时间段出现在所述第一时间段和所述第二时间段之后。
9.如权利要求1所述的方法，其中所述第三时间段出现在所述第一时间段和所述第二时间段之前。
10.如权利要求1所述的方法，其中所述第三时间段出现在所述第一时间段和所述第二时间段之间。
11.一
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一错开图案被配置为与所述第二错开图案组合以形成组合图案，所述组合图案包括多个行，其中来自所述第一错开图案的透明单元与来自所述第二个错开图案的透明单元邻接。
13.如权利要求12所述的方法，其中在所述组合图案中不存在来自所述第一错开图案和所述第二错开图案的透明单元的重叠。
14.根据权利要求11所述的方法，其中对于所述第一错开图案中的每个边界行，从所述第一边缘到第一透明单元的距离发生变化。
15.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一掩模的所述图案化区域的所述第一边缘由单条直线组成。
16.根据权利要求15所述的方法，其中所述第二掩模的所述图案化区域的所述第一边缘由单条直线组成。
17.一种在基板上形成图案化特征的方法，包括以下步骤：
18.根据权利要求17所述的方法，其中所述第三图案化区域的所述尺寸小于所述第二图案化区域的所述尺寸的0.1％。
19.根据权利要求17所述的方法，其中，
20.如权利要求19所述的方法，其中
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种在基板上形成图案化特征的方法，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其中所述第三图案化区域与所述第一图案化区域邻接。
3.如权利要求2所述的方法，其中所述第三图案化区域与所述第二图案化区域邻接。
4.如权利要求1所述的方法，其中所述第三图案化区域的尺寸小于所述第二图案化区域的尺寸的10％。
5.如权利要求4所述的方法，其中所述第三图案化区域的所述尺寸小于所述第一图案化区域的尺寸的10％。
6.如权利要求1所述的方法，其中所述第三图案化区域的尺寸小于所述第二图案化区域的尺寸的1％。
7.如权利要求6所述的方法，所述第三图案化区域的所述尺寸小于所述第一图案化区域的尺寸的1％。
8.如权利要求1所述的方法，其中所述第三时间段出现在所述第一时间段和所述第二时间段之后。
9.如权利要求1所述的方法，其中所述第三时间段出现在所述第一时间段和所述第二时间段之前。
10.如权利要求1所述的方法，其中所述第三时间段出现在所述第一时间段和所述第二时间段之间。
11.一种在基板上形成图案化...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐永安，威廉·威尔金森，郭静，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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