【技术实现步骤摘要】
本技术涉及废水处理，具体涉及一种半导体行业废水处理装置。
技术介绍
1、半导体加工制造中不可避免的会产生大量的废水，这些废水中含有锡、镍等离子，需要对其进行净化处理后方可排放，现有技术中，常见的是通过向废水中投入絮凝剂等化学试剂的方式，对废水进行净化处理，然而，现有的化学试剂投放方式一般只是将试剂从投放口投入沉淀反应池内，试剂需要等待较长时间才能够与废水充分混合，发生化学反应，导致整体净化效率较慢，因此，现有技术中会通过搅拌技术加快试剂与废水之间的快速混合，例如，授权公告号为cn218371911u的中国技术专利，公开了一种半导体封装废水处理装置，通过搅拌叶的旋转实现对絮凝剂与废水的快速混合，但是这种方式同样存在着一些不足，例如，根据废水的成分不同，所添加的试剂种类不同，酸碱度不同，搅拌叶长时间浸泡在废水及试剂中，容易受到腐蚀，并且在试剂与废水发生化学反应后，产生的沉淀物容易粘附在搅拌叶的表面，难以清理。
2、基于上述，本技术提出了一种半导体行业废水处理装置。
技术实现思路
1、为解决上述背景中提到的问题，本技术提供了一种半导体行业废水处理装置。
2、为实现上述技术目的，本技术所采用的技术方案如下。
3、一种半导体行业废水处理装置，包括处理池，处理池的上开口处延伸有连接管，连接管的上管口处设置有进液斗，进液斗内设置有加药构件，连接管内设置有内支架，加药构件包括安装在内支架上且与连接管同轴的加药管，加药管能够绕轴心线发生旋转，加药管的上管口处安装有
4、进一步的，加药管的外部设置有叶片，叶片位于连接管的下方，废水通过连接管进入处理池的过程中，废水冲击叶片能够使叶片旋转。
5、进一步的，活塞的外圆面设置有凹槽，加药管的管壁设置有凸起，凹槽与凸起构成沿加药管轴心线方向的滑动配合。
6、进一步的，活塞的上端封闭、下端开口，驱动部件包括同轴设置在活塞内的螺纹管以及螺纹设置在螺纹管内的螺纹轴。
7、进一步的，加药管内安装有电机，电机与螺纹轴动力连接。
8、进一步的，进液斗的上端同轴安装有呈圆环形状的环池，环池的内环板的上端面高度低于环池的外环板的上端面高度。
9、进一步的，内环板的外圆面开设有出水孔，出水孔沿环池的圆周方向阵列设置有若干个，出水孔的中心线与内环板的外圆面之间呈夹角布置，通过出水孔进入进液斗内的废水呈涡流形状流动，且废水的流向与加药管的旋转旋向相反。
10、本技术与现有技术相比，有益效果在于：
11、本方案在废水通过进液斗进入处理池中的过程中，通过加药构件向废水中添加化学试剂且化学试剂与废水混合均匀，在废水投入的同时，完成试剂的均匀混合加入，能够提高废水的整体净化效率，并且加药构件的均匀混合采用的是无搅拌叶的方式，不受腐蚀，更加耐用；
12、进一步的，本方案通过旋转式喷洒试剂、废水顺着进液斗内壁且以与试剂旋向相反的涡流形状朝下流动，能够提高试剂与废水之间的混合均匀性。
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1.一种半导体行业废水处理装置，包括处理池(1)，处理池(1)的上开口处延伸有连接管(2)，连接管(2)的上管口处设置有进液斗(3)，其特征在于，进液斗(3)内设置有加药构件(4)，连接管(2)内设置有内支架，加药构件(4)包括安装在内支架上且与连接管(2)同轴的加药管(401)，加药管(401)能够绕轴心线发生旋转，加药管(401)的上管口处安装有管盖(403)，加药管(401)的外圆面沿径向开设有加药孔(402)，加药孔(402)靠近管盖(403)并且沿加药管(401)的圆周方向阵列设置有若干个，加药管(401)内安装有活塞(405)以及用于驱使活塞(405)发生移动的驱动部件(406)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，加药管(401)的外部设置有叶片(404)，叶片(404)位于连接管(2)的下方，废水通过连接管(2)进入处理池(1)的过程中，废水冲击叶片(404)能够使叶片(404)旋转。
3.根据权利要求1所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，活塞(405)的外圆面设置有凹槽，加药管(401)的管壁设置有
4.根据权利要求3所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，活塞(405)的上端封闭、下端开口，驱动部件(406)包括同轴设置在活塞(405)内的螺纹管(4061)以及螺纹设置在螺纹管(4061)内的螺纹轴(4062)。
5.根据权利要求4所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，加药管(401)内安装有电机(4063)，电机(4063)与螺纹轴(4062)动力连接。
6.根据权利要求1所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，进液斗(3)的上端同轴安装有呈圆环形状的环池(301)，环池(301)的内环板(302)的上端面高度低于环池(301)的外环板的上端面高度。
7.根据权利要求6所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，内环板(302)的外圆面开设有出水孔(303)，出水孔(303)沿环池(301)的圆周方向阵列设置有若干个，出水孔(303)的中心线与内环板(302)的外圆面之间呈夹角布置，通过出水孔(303)进入进液斗(3)内的废水呈涡流形状流动，且废水的流向与加药管(401)的旋转旋向相反。
...【技术特征摘要】
1.一种半导体行业废水处理装置，包括处理池(1)，处理池(1)的上开口处延伸有连接管(2)，连接管(2)的上管口处设置有进液斗(3)，其特征在于，进液斗(3)内设置有加药构件(4)，连接管(2)内设置有内支架，加药构件(4)包括安装在内支架上且与连接管(2)同轴的加药管(401)，加药管(401)能够绕轴心线发生旋转，加药管(401)的上管口处安装有管盖(403)，加药管(401)的外圆面沿径向开设有加药孔(402)，加药孔(402)靠近管盖(403)并且沿加药管(401)的圆周方向阵列设置有若干个，加药管(401)内安装有活塞(405)以及用于驱使活塞(405)发生移动的驱动部件(406)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，加药管(401)的外部设置有叶片(404)，叶片(404)位于连接管(2)的下方，废水通过连接管(2)进入处理池(1)的过程中，废水冲击叶片(404)能够使叶片(404)旋转。
3.根据权利要求1所述的一种半导体行业废水处理装置，其特征在于，活塞(405)的外圆面设置有凹槽，加药管(401)的管壁设置有凸起，凹槽与凸起构成沿加...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈龙亮，李晓娟，黎文龙，刘宁，
申请(专利权)人：广东泽铭生态环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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