【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体衬底，具体涉及一种半导体显示衬底的化学清洗设备。
技术介绍
1、半导体显示衬底在生产制造过程中需要经过多道清洗工序，例如化学清洗、超声波清洗以及超高压水洗等。化学清洗是将半导体显示衬底浸泡在化学试剂一段时间，以达到清除半导体显示衬底表面的污垢的清洗方法。但是现有的对于半导体显示衬底的化学清洗技术，通常是将多个半导体显示衬底堆叠起来，并在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫以便于化学试剂与半导体衬底接触。
2、利用这种方式清洗半导体显示衬底，清洗时，不仅需要将半导体显示衬底，一个一个地在清洗槽中堆叠起来，还需要在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫。而清洗完成后，又需要将半导体显示衬底和衬垫一个一个地从清洗槽中取出，费时费力，最终导致清洗效率较低。
技术实现思路
1、本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种半导体显示衬底的化学清洗设备。
2、本技术所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，它包括用于浸泡和清洗半导体显示衬底的清洗箱组件，所述清洗箱组件的一侧下方连接有上下移动组件，上下移动组件中底座的上方连接有顶推组件；所述上下移动组件通过连接杆与夹持组件相连；所述夹持组件中u形框的内部设置有支撑组件，支撑组件的一端与清洗箱组件中清洗箱的内壁相连。
3、进一步地，所述清洗箱组件包括清洗箱，所述清洗箱的上方一侧连接有支撑板，支撑板的中间位置设置有滤网；所述清洗箱的一侧从上至下依次设置有一个进水口和出水口。
4、进一步
5、进一步地，所述顶推组件包括连接在底座上方的连接柱，所述连接柱的侧边设置有第二电动伸缩杆，第二电动伸缩杆与连接柱相对一端连接有顶板。
6、进一步地，所述夹持组件包括连接在连接杆下方的u形框，u形框的开口端与主板相连，所述u形框的中间位置开设有方形孔，所述方形孔内设置有一块与其间隙滑动配合的第一活动板，第一活动板的外围固定连接有与其垂直的第二活动板，第一活动板的一端连接有第三活动板，所述第一活动板与第三活动板相对的一端贯穿主板，与其间隙滑动配合；所述主板与u形框相对一侧连接有两排连接板，所述两排连接板的相对面上设置有衬垫。
7、进一步地，所述支撑组件包括一端与清洗箱内壁相连的两块l形板。
8、采用上述结构后，本技术有益效果为：本技术所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，它采用清洗箱组件、上下移动组件、顶推组件、夹持组件和支撑组件的组合安装，使得该半导体显示衬底的化学清洗设备无需将半导体显示衬底堆叠在清洗槽中，且衬底在清洗完成后方便取出，提高了清洗效率。
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1.一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：它包括用于浸泡和清洗半导体显示衬底的清洗箱组件，所述清洗箱组件的一侧下方连接有上下移动组件，上下移动组件中底座(201)的上方连接有顶推组件；所述上下移动组件通过连接杆(203)与夹持组件相连；所述夹持组件中U形框(303)的内部设置有支撑组件，支撑组件的一端与清洗箱组件中清洗箱(101)的内壁相连。
2.根据权利要求1所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：所述清洗箱组件包括清洗箱(101)，所述清洗箱(101)的上方一侧连接有支撑板(102)，支撑板(102)的中间位置设置有滤网(105)；所述清洗箱(101)的一侧从上至下依次设置有一个进水口(103)和出水口(104)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：所述上下移动组件包括连接在清洗箱(101)侧边的底座(201)，底座(201)为空心结构，内部设置有电源，其上方连接有第一电动伸缩杆(202)，所述第一电动伸缩杆(202)的侧边连接有连接杆(203)，所述连接杆(203)为L形结构。
4.
5.根据权利要求1所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：所述夹持组件包括连接在连接杆(203)下方的U形框(303)，U形框(303)的开口端与主板(301)相连，所述U形框(303)的中间位置开设有方形孔，所述方形孔内设置有一块与其间隙滑动配合的第一活动板(304)，第一活动板(304)的外围固定连接有与其垂直的第二活动板(305)，第一活动板(304)的一端连接有第三活动板(306)，所述第一活动板(304)与第三活动板(306)相对的一端贯穿主板(301)，与其间隙滑动配合；所述主板(301)与U形框(303)相对一侧连接有两排连接板(302)，所述两排连接板(302)的相对面上设置有衬垫(307)。
6.根据权利要求1所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：所述支撑组件包括一端与清洗箱(101)内壁相连的两块L形板(501)。
...【技术特征摘要】
1.一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：它包括用于浸泡和清洗半导体显示衬底的清洗箱组件，所述清洗箱组件的一侧下方连接有上下移动组件，上下移动组件中底座(201)的上方连接有顶推组件；所述上下移动组件通过连接杆(203)与夹持组件相连；所述夹持组件中u形框(303)的内部设置有支撑组件，支撑组件的一端与清洗箱组件中清洗箱(101)的内壁相连。
2.根据权利要求1所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：所述清洗箱组件包括清洗箱(101)，所述清洗箱(101)的上方一侧连接有支撑板(102)，支撑板(102)的中间位置设置有滤网(105)；所述清洗箱(101)的一侧从上至下依次设置有一个进水口(103)和出水口(104)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体显示衬底的化学清洗设备，其特征在于：所述上下移动组件包括连接在清洗箱(101)侧边的底座(201)，底座(201)为空心结构，内部设置有电源，其上方连接有第一电动伸缩杆(202)，所述第一电动伸缩杆(202)的侧边连接有连接杆(203)，所述连接杆(203)为l形结构。
4.根据权利要求1所述的一种半导体...
【专利技术属性】
技术研发人员：武斌，盛伟，姜月，
申请(专利权)人：亚赛无锡半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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