【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及全息图制造装置以及全息图制造方法。
技术介绍
1、自以往以来，已知有使用主全息图来制造复制全息图的装置。在专利文献1中，通过对主全息图入射激光来产生衍射光，通过该衍射光来使复制全息图的全息图感光材料（光聚合物）曝光。由此，能够进行复制全息图的制造。
2、在先技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2000-321962号公报
技术实现思路
1、另外，一般地，通过对光聚合物的曝光时间进行管理来进行复制全息图的制造，即基于针对光聚合物的光照射时间来对光聚合物的折射率变化量进行管理，由此进行复制全息图的制造。光聚合物的折射率变化量主要由作为光源的光强度与照射时间之积的累积曝光量来决定，但是也受温度、光聚合物自身的折射率变化的灵敏度的批次偏差等影响。
2、此外，为了制造复制全息图，需要针对复制全息图的1级衍射光，但是即使光聚合物的折射率变化量如设计值那样，若光聚合物的厚度与设计值不同，则也会在1级衍射光中产生误差。特别是，由于光聚合物是透明材料，因此若将光聚合物夹在透明基板中，则其厚度测定非常地困难。
3、因为以上，所以在仅通过针对光聚合物的光照射时间来管理光聚合物的曝光时间的情况下，存在复制全息图的光聚合物自身、针对复制全息图的1级衍射光与设计值不同的担扰。因此，复制全息图的精度有可能下降。
4、因此，本公开的目的在于，提供使复制全息图的精度提高的全息图的制造装置以及制造方法。
5、为了
6、为了达成上述的目的，本公开的另一个实施方式涉及的全息图制造装置具备：主全息图，形成有衍射光栅；复制全息图，与所述主全息图接近地配置；第1光源，以第1入射角度针对所述复制全息图射出对所述复制全息图进行曝光的第1激光；第2光源，以与所述第1入射角度不同的第2入射角度针对所述复制全息图射出第2激光；和传感器，对被所述复制全息图反射后的所述第2激光进行测定。所述全息图制造装置基于所述传感器的测定结果，来结束利用所述第1激光进行的所述复制全息图的曝光。
7、根据本公开，能够使复制全息图的精度提高。
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1.一种全息图制造装置，具备：
2.根据权利要求1所述的全息图制造装置，其中，
3.根据权利要求2所述的全息图制造装置，其中，
4.根据权利要求2所述的全息图制造装置，其中，
5.根据权利要求3所述的全息图制造装置，其中，
6.根据权利要求1所述的全息图制造装置，其中，
7.根据权利要求6所述的全息图制造装置，其中，
8.根据权利要求7所述的全息图制造装置，其中，
9.一种全息图制造装置，具备：
10.一种全息图制造方法，具备：
11.一种全息图制造装置，具备：
12.根据权利要求11所述的全息图制造装置，其中，
13.根据权利要求11所述的全息图制造装置，其中，
14.根据权利要求11所述的全息图制造装置，其中，
15.根据权利要求14所述的全息图制造装置，其中，
16.根据权利要求14所述的全息图制造装置，其中，
17.一种全息图制造方法，具备：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种全息图制造装置，具备：
2.根据权利要求1所述的全息图制造装置，其中，
3.根据权利要求2所述的全息图制造装置，其中，
4.根据权利要求2所述的全息图制造装置，其中，
5.根据权利要求3所述的全息图制造装置，其中，
6.根据权利要求1所述的全息图制造装置，其中，
7.根据权利要求6所述的全息图制造装置，其中，
8.根据权利要求7所述的全息图制造装置，其中，
9.一种全息...
【专利技术属性】
技术研发人员：荒木要介，福井厚司，上水和平，高田和政，间濑健一郎，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：
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