【技术实现步骤摘要】
本申请涉及传感器，特别是涉及一种氢气检测传感器及其制备方法。
技术介绍
1、近年来，基于pdo的变色型氢气检测传感器受到了广泛关注。pdo可被氢气还原为pd，由棕黄色变为黑色，因此可用于氢气检测。
2、然而，传统的基于pdo的氢气检测传感器必须在n2或惰性气体氛围下才能具有较好的灵敏度和响应速度。当在以空气作为测试环境的情况下，pdo会明显失活，氢气检测传感器响应缓慢。
技术实现思路
1、基于此，有必要提供一种能够在空气氛围下对低浓度氢气快速响应且便于分辨颜色变化的氢气检测传感器及其制备方法。
2、本申请第一方面，提供一种氢气检测传感器，包括基材、显色层以及纳米修饰层，所述显色层位于所述基材的表面，所述纳米修饰层位于所述显色层远离所述基材的表面；所述显色层的材料包括pdo，所述纳米修饰层的材料包括纳米au和纳米pd。
3、在一些实施方式中，所述纳米修饰层中，au与pd的原子比为1:1~1:4。
4、在一些实施方式中，所述基材包括柔性基材。
5、在一些实施方式中，所述柔性基材的材料包括硅橡胶。
6、在一些实施方式中，还包括保护层，所述保护层位于所述纳米修饰层远离所述显色层的表面，所述保护层的材料包括pmma。
7、在一些实施方式中，所述纳米修饰层的厚度为3nm~10nm。
8、在一些实施方式中，所述显色层的厚度为30nm~60nm。
9、本申请第二方面，提供一种本申请第一方面提
10、在所述基材表面沉积所述显色层，在所述显色层远离所述基材的表面沉积所述纳米修饰层。
11、在一些实施方式中，还包括：在所述纳米修饰层远离所述显色层的表面涂覆包括pmma的保护层原料，干燥，以在所述纳米修饰层远离所述显色层的表面形成保护层。
12、在一些实施方式中，在所述基材表面沉积所述显色层之前还包括：将基材原料涂覆在衬底表面，烘干，得到所述基材；
13、在形成所述保护层之后还包括：将所述基材与所述衬底分离。
14、上述氢气检测传感器通过纳米pd和纳米au共同修饰pdo的显色层，不仅能更有效地富集空气中的氢气，实现在空气氛围下对低浓度氢气检测，同时还能有效提升氢气与pdo的反应速度，使氢气检测传感器具有更快的响应速度。
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1.一种氢气检测传感器，其特征在于，包括基材、显色层以及纳米修饰层，所述显色层位于所述基材的表面，所述纳米修饰层位于所述显色层远离所述基材的表面；所述显色层的材料包括PdO，所述纳米修饰层的材料包括纳米Au和纳米Pd。
2.如权利要求1所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述纳米修饰层中，Au与Pd的原子比为1:1~1:4。
3.如权利要求1所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述基材包括柔性基材。
4.如权利要求3所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述柔性基材的材料包括硅橡胶。
5.如权利要求3所述的氢气检测传感器，其特征在于，还包括保护层，所述保护层位于所述纳米修饰层远离所述显色层的表面，所述保护层的材料包括PMMA。
6.如权利要求1~5任一项所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述纳米修饰层的厚度为3nm~10nm。
7.如权利要求1~5任一项所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述显色层的厚度为30nm~60nm。
8.一种如权利要求1~7任一项所述的氢气检测传感器的制备方法，其特征在于，包括如
9.如权利要求8所述的氢气检测传感器的制备方法，其特征在于，还包括：在所述纳米修饰层远离所述显色层的表面涂覆包括PMMA的保护层原料，干燥，以在所述纳米修饰层远离所述显色层的表面形成保护层。
10.如权利要求9所述的氢气检测传感器的制备方法，其特征在于，在所述基材表面沉积所述显色层之前还包括：将基材原料涂覆在衬底表面，烘干，得到所述基材；
...【技术特征摘要】
1.一种氢气检测传感器，其特征在于，包括基材、显色层以及纳米修饰层，所述显色层位于所述基材的表面，所述纳米修饰层位于所述显色层远离所述基材的表面；所述显色层的材料包括pdo，所述纳米修饰层的材料包括纳米au和纳米pd。
2.如权利要求1所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述纳米修饰层中，au与pd的原子比为1:1~1:4。
3.如权利要求1所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述基材包括柔性基材。
4.如权利要求3所述的氢气检测传感器，其特征在于，所述柔性基材的材料包括硅橡胶。
5.如权利要求3所述的氢气检测传感器，其特征在于，还包括保护层，所述保护层位于所述纳米修饰层远离所述显色层的表面，所述保护层的材料包括pmma。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：田兵，赵继光，梁水康，徐振恒，吕前程，赵雅茜，骆柏锋，魏宇鹏，张佳明，王志明，
申请(专利权)人：南方电网数字电网研究院股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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