【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光雕刻机的，尤其涉及一种激光雕刻机的对焦方法、系统。
技术介绍
1、随着科技的发展，激光雕刻机作为雕刻机的一种，并应用于人们的生活中或者工业领域，激光雕刻机采用激光器所输出的激光雕刻待雕刻件，在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前需要对激光器进行对焦，在现有技术中，激光器沿着上下方向升降，并在人为作用下进行位置调整，此时，激光器在人为作用下进行快速下降，并接收到位信号，以便于以到位信号所在的位置作为焦点位置，可是，该对焦位置受到激光器的快速下降以及信号延误会影响，并非真正的焦点位置，影响了焦点位置的准确性。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服现有技术的不足，本专利技术提供了一种激光雕刻机的对焦方法、系统，在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前触发激光器的对焦，激光器上升至最高处，并由最高处进行快速下降，从而进行初次的位置排查，进一步地，基于到位信号所在位置进行局部排查，实现第二次的位置排查，并提高了对局部排查的精细度，以便于在局部排查中确定焦点位置，保证了焦点位置的准确性，实现了激光雕刻机的快速对焦以及精准对焦。
2、为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种激光雕刻机的对焦方法，应用于激光雕刻机的雕刻场景；所述激光雕刻机的对焦方法包括：
3、在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处；
4、激光器由最高处进行快速下降，并采集到位信号；
5、基于到位信号所在位置进行局部排查，以确定焦点
6、可选的，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，包括：
7、在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，采集激光雕刻机中的激光器的当前位置；
8、若激光器的当前位置不是最高处，则触发激光器的上升；
9、在激光器的上升过程中，激光器以变速状态逐步上升，直至上升至最高处。
10、可选的，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，包括：
11、采集激光器的当前位置与最高处之间的距离；
12、根据激光器的当前位置与最高处之间的距离定义激光器的上升参数；
13、采集激光器所对应的型号；
14、基于激光器所对应的型号定义型号参数，并将型号参数和上升参数进行关联；
15、根据型号参数和上升参数匹配对应的变速逻辑，并基于该变速逻辑触发激光器的变速状态。
16、可选的，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，包括：
17、实时记录激光器的上升过程，并采集信号；
18、若该信号为上升限到位信号，则触发激光器由上升状态调整至停止状态；
19、若该信号为非上升限到位信号，则触发激光器以当前上升速度进行匀速上升。
20、可选的，所述激光器由最高处进行快速下降，并采集到位信号，包括：
21、在激光器处于最高处时，触发激光器的自动对焦逻辑；
22、在激光器的自动对焦逻辑中，激光器由最高处进行快速下降，其中，激光器的下降速度高于激光器的上升速度；
23、监控激光器的快速下降，并采集到位信号；
24、记录到位信号所在的位置。
25、可选的，所述激光器由最高处进行快速下降，并采集到位信号，还包括：
26、采集待雕刻件的待雕刻面，并定义待雕刻件的待雕刻面所在的高度；
27、基于待雕刻件的待雕刻面所在的高度以及最高处的高度确定高度差；
28、根据高度差以及激光器的型号预测理论到位位置；
29、根据理论到位位置、最高处的高度以及激光器的型号定义激光器的下降速度；
30、若激光器在理论到位位置无法采集到位信号时，则基于理论到位位置进行阶段性往复移动，直至激光器采集到到位信号。
31、可选的，所述基于到位信号所在位置进行局部排查，以确定焦点位置，包括：
32、采集到位信号，并定义到位信号所在位置；
33、基于到位信号所在位置触发激光器的局部排查；
34、在激光器的局部排查中，激光器以到位信号所在位置进行往复升降，并监控激光器的对焦状态；
35、若激光器的对焦状态处于预设对焦状态，则定格激光器的当前位置，并将该当前位置定义为焦点位置。
36、可选的，所述基于到位信号所在位置进行局部排查，以确定焦点位置，还包括：若激光器处于局部排查过程，采集激光器的移动速度；激光器的移动速度小于激光器的下降速度。
37、可选的，所述激光雕刻机的对焦方法，还包括：
38、激光器由最高处进行快速下降；
39、监控激光器的下降过程，直至激光器到达最低处；
40、在激光器由最高处移动至最低处的过程中，无法采集到位信号，并记录激光器的无法检测次数；
41、若激光器的无法检测次数超出预设次数，则触发激光器的故障排查。
42、可选的，所述激光雕刻机的对焦系统应用于上述的激光雕刻机的对焦方法，所述激光雕刻机的对焦系统包括：
43、上升模块，用于在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处；
44、采集模块，用于激光器由最高处进行快速下降，并采集到位信号；
45、局部排查模块，用于基于到位信号所在位置进行局部排查，以确定焦点位置。
46、在本专利技术实施例中，通过本专利技术实施例中的方法，在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处；激光器由最高处进行快速下降，并采集到位信号；基于到位信号所在位置进行局部排查，以确定焦点位置，此时，在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前触发激光器的对焦，激光器上升至最高处，并由最高处进行快速下降，从而进行初次的位置排查，进一步地，基于到位信号所在位置进行局部排查，实现第二次的位置排查，并提高了对局部排查的精细度，以便于在局部排查中确定焦点位置，保证了焦点位置的准确性，实现了激光雕刻机的快速对焦以及精准对焦。
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1.一种激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，应用于激光雕刻机的雕刻场景；所述激光雕刻机的对焦方法包括：
2.根据权利要求1所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，还包括：
3.根据权利要求2所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，还包括：
4.根据权利要求2所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，还包括：
5.根据权利要求1所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述激光器由最高处进行快速下降，并采集到位信号，包括：
6.根据权利要求5所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述激光器由最高处进行快速下降，并采集到位信号，还包括：
7.根据权利要求6所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述基于到位信号所在位置进行局部排查，以确定焦点位置，包括：
8.根据权利要求7所述的激
9.根据权利要求1所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述激光雕刻机的对焦方法，还包括：
10.一种激光雕刻机的对焦系统，其特征在于，所述激光雕刻机的对焦系统应用于如权利要求1-9中任一所述的激光雕刻机的对焦方法，所述激光雕刻机的对焦系统包括：
...【技术特征摘要】
1.一种激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，应用于激光雕刻机的雕刻场景；所述激光雕刻机的对焦方法包括：
2.根据权利要求1所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，还包括：
3.根据权利要求2所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，还包括：
4.根据权利要求2所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述在激光雕刻机对待雕刻件进行雕刻之前，将激光雕刻机中的激光器上升至最高处，还包括：
5.根据权利要求1所述的激光雕刻机的对焦方法，其特征在于，所述激光器由最高处进行快速下降，并采集到位...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑剑华，邓翰，吕鹏，曾伟旭，曾齐洋，
申请(专利权)人：东莞市昂图智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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