【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镭雕装置，具体地，涉及一种用于圆柱面的镭雕设备。
技术介绍
1、镭雕机是利用镭射光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记。镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种，当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应，从而刻痕迹或是显示出图案或是文字。所以又称为激光打标机、激光雕刻机。
2、现有公告号为cn104889572b的中国专利申请文献，其公开了一种镭雕机，包括箱体、交流稳压器、视觉定位系统、镭雕机系统、预定位模组、导正模组、安全系统，支撑台、排风系统以及控制系统；视觉定位系统与设置在支撑台上的视觉定位系统运动导轨滑动连接，视觉定位系统沿着支撑台上的视觉定位系统运动导轨做x向运动；导正模组固定在镭雕机系统下方的支撑台上；预定位模组设置在导正模组下方，预定位模组与设置在支撑台上的预定位模组运动导轨滑动连接；预定位模组沿着预定位模组运动做y向运动。
3、现有技术中的镭雕机在对圆柱面进行加工时，上下料不便，加工效率低，存在待改进之处。
技术实现思路
1、针对现有技术中的缺陷，本技术的目的是提供一种用于圆柱面的镭雕设备。
2、根据本技术提供的一种用于圆柱面的镭雕设备，包括机架和设置在机架上的料仓、循环振动盘上料器、镭雕平台、镭雕机以及下料装置；所述料仓的出料口位于循环振动盘上料器的上方，所述循环振动盘上料器的出料口与镭雕平台连通，所述镭雕机的镭雕头位于镭雕平台的上方；所述下料装置设置在镭雕平台上用于将物料推出镭雕平台。
3、优
4、优选地，所述第一振动盘的振动方向为自靠近料仓的一端向远离料仓的一端振动；所述第二振动盘的振动方向为自远离料仓的一端向靠近料仓的一端振动。
5、优选地，所述上料轨道包括弧形段和直线段，所述弧形段与直线段连通，所述直线段与镭雕平台连通；所述上料轨道的弧形段包括弧形板，所述弧形板自第二振动盘的上端绕过第一振动盘靠近料仓的一端，并绕至第一振动盘远离第二振动盘的侧边；所述弧形板的一端与循环振动盘上料器的周侧壳体紧固连接，所述弧形板的另一端延伸至直线段，且所述弧形板延伸至直线段的一端通过间隙调节组件与循环振动盘上料器的周侧壳体连接。
6、优选地，所述上料轨道弧形段的底面沿所述弧形板的走向，自靠近所述第二振动盘抬升端的一侧向远离第二振动盘抬升端的一侧逐渐倾斜向下。
7、优选地，所述间隙调节组件包括连接杆和固定螺母，所述连接杆的一端与循环振动盘上料器的周侧壳体紧固连接，所述弧形板延伸至直线段的一端穿入连接杆并与其滑移配合，所述固定螺母在弧形板的两侧分别设置有一个，且两个所述固定螺母均与连接杆螺纹连接。
8、优选地，所述镭雕平台上设置有引导轨道，所述引导轨道连通循环振动盘上料器的出料口和位于镭雕头正下方的镭雕工位。
9、优选地，所述下料装置包括伸缩气缸和随动块，所述伸缩气缸的缸体固定安装在机架上，所述伸缩气缸的运动方向垂直于引导轨道的长度方向，所述随动块与伸缩气缸的活动端固定连接，且所述随动块延伸至镭雕工位。
10、优选地，所述镭雕工位的任意一侧设置有下料引导板。
11、优选地，所述镭雕工位的底板上设置有传感器。
12、与现有技术相比，本技术具有如下的有益效果：
13、1、本技术通过料仓和循环振动盘上料器配合将圆柱型物料输送至镭雕平台上的镭雕工位，镭雕机对位移镭雕工位的圆柱型物料进行镭雕作业，镭雕完成后，伸缩气缸带动随动块将处于镭雕工位的圆柱型物料推出镭雕平台，实现了对镭雕设备的上下料，有助于提高镭雕设备的工作效率。
14、2、本技术通过间隙调节组件调节上料轨道直线段的通过间隙，有助于实现将预定姿态的圆柱型物料输送至镭雕平台上的镭雕工位。
15、3、本技术通过将镭雕平台设置为倾斜状态，并且使镭雕时，随动块位于镭雕工位的下侧，有助于提高圆柱型物料在镭雕工位上放置的稳定性。
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1.一种用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，包括机架(1)和设置在机架(1)上的料仓(2)、循环振动盘上料器(3)、镭雕平台(4)、镭雕机(5)以及下料装置(6)；
2.如权利要求1所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述循环振动盘上料器(3)包括第一振动盘(31)、第二振动盘(32)以及上料轨道(33)；
3.如权利要求2所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述第一振动盘(31)的振动方向为自靠近料仓(2)的一端向远离料仓(2)的一端振动；
4.如权利要求2所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述上料轨道(33)包括弧形段(331)和直线段(332)，所述弧形段(331)与直线段(332)连通，所述直线段(332)与镭雕平台(4)连通；
5.如权利要求4所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述上料轨道(33)弧形段(331)的底面沿所述弧形板(34)的走向，自靠近所述第二振动盘(32)抬升端的一侧向远离第二振动盘(32)抬升端的一侧逐渐倾斜向下。
6.如权利要求4所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所
7.如权利要求1所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述镭雕平台(4)上设置有引导轨道(41)，所述引导轨道(41)连通循环振动盘上料器(3)的出料口和位于镭雕头正下方的镭雕工位(42)。
8.如权利要求7所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述下料装置(6)包括伸缩气缸(61)和随动块(62)，所述伸缩气缸(61)的缸体固定安装在机架(1)上，所述伸缩气缸(61)的运动方向垂直于引导轨道(41)的长度方向，所述随动块(62)与伸缩气缸(61)的活动端固定连接，且所述随动块(62)延伸至镭雕工位(42)。
9.如权利要求7所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述镭雕工位(42)的任意一侧设置有下料引导板(8)。
10.如权利要求7所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述镭雕工位(42)的底板上设置有传感器。
...【技术特征摘要】
1.一种用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，包括机架(1)和设置在机架(1)上的料仓(2)、循环振动盘上料器(3)、镭雕平台(4)、镭雕机(5)以及下料装置(6)；
2.如权利要求1所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述循环振动盘上料器(3)包括第一振动盘(31)、第二振动盘(32)以及上料轨道(33)；
3.如权利要求2所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述第一振动盘(31)的振动方向为自靠近料仓(2)的一端向远离料仓(2)的一端振动；
4.如权利要求2所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述上料轨道(33)包括弧形段(331)和直线段(332)，所述弧形段(331)与直线段(332)连通，所述直线段(332)与镭雕平台(4)连通；
5.如权利要求4所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述上料轨道(33)弧形段(331)的底面沿所述弧形板(34)的走向，自靠近所述第二振动盘(32)抬升端的一侧向远离第二振动盘(32)抬升端的一侧逐渐倾斜向下。
6.如权利要求4所述的用于圆柱面的镭雕设备，其特征在于，所述间隙调节组件(7)包括连接杆(71)和固定螺母(72...
【专利技术属性】
技术研发人员：张权，吕明高，
申请(专利权)人：上海安稷软件科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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