System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备制造技术_技高网

一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备制造技术

技术编号:43669467 阅读:2 留言:0更新日期:2024-12-18 20:55
本发明专利技术公开一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,包括炉体,所述炉体的下方设有炉底板,所述炉底板设有用于将炉体内部粉尘或废气排出的排废口,所述排废口的一侧设有清灰装置,所述清灰装置清灰时部分伸入所述排废口内自动清理内壁积灰,清灰完成后脱离所述排废口使得所述排废口能排出粉尘或废气。该自动清灰设备的清灰装置在清灰工作时,能伸入排废口自动清理炉底板上排废口的内壁积灰,避免排废口内壁粉尘积聚造成堵塞,从而影响单晶硅的生长质量和炉室内环境;且清灰完成后能脱离排废口,避免长期在排废口,而造成积灰,从而影响清灰装置的清灰效果。

【技术实现步骤摘要】

【】本专利技术涉及清灰,尤其涉及一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备


技术介绍

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技术介绍

1、单晶硅是一种比较活泼的非金属元素,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。而直拉法单晶硅炉是生产单晶硅的关键技术装备,单晶硅炉是一种在惰性气体(氮气、氦气为主)环境中,用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生长无错位单晶硅的设备。

2、目前的单晶硅炉在长晶过程中,炉室内会产生粉尘和一氧化碳颗粒,产生的粉尘和一氧化碳颗粒通常是通过炉体的排废口排出,再通过真空泵和除尘设备进行处理,而粉尘在排出过程中,容易附着在排废口的内壁上,但现有单晶硅炉的除尘设备无法对排废口的内壁积灰有效清除,容易造成排废口的堵塞,造成除尘效果不佳,从而影响到单晶硅的生长质量;同时排废口内壁的积灰,也会影响炉室内的清洁环境,影响单晶硅的生长质量。


技术实现思路

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技术实现思路

1、为了解决目前排废口内壁积灰无法有效清除,容易造成排废口堵塞,从而影响单晶硅的生长质量和炉室内环境的技术问题,本专利技术提出了一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备。

2、本专利技术由以下技术方案实现的:

3、一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,包括炉体,所述炉体的下方设有炉底板,所述炉底板设有用于将炉体内部粉尘或废气排出的排废口,所述排废口的一侧设有清灰装置,所述清灰装置清灰时部分伸入所述排废口内自动清理内壁积灰,清灰完成后脱离所述排废口使得所述排废口能排出粉尘或废气。

4、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述清灰装置包括用于清理内壁积灰的执行机构以及控制所述执行机构旋转和升降的动力机构,所述动力机构包括用于控制执行机构旋转的旋转机构以及用于控制执行机构升降的升降机构。

5、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述排废口外侧连接有用于将粉尘或废气排出炉体外的排废管,所述排废管上设有用于供执行机构伸入或脱离所述排废口的开口以及用于封挡执行机构和开口的封挡装置,所述封挡装置内设有清灰完成后容纳执行机构的容置空间。

6、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述开口包括方便执行机构旋转的横向切口以及方便执行机构升降的纵向切口。

7、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述旋转机构包括可旋转的转盘以及驱动所述转盘旋转的驱动装置,所述转盘上设有同轴转动的转动组件,所述转动组件上连接有同轴转动的转动杆,所述转动杆与执行机构之间设有用于为所述执行机构提供支撑的支撑杆。

8、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述升降机构包括可升降的活动杆以及用于将所述升降机构固定安装在转动组件的钣金件,所述活动杆的顶部设有升降到位的限位块,所述钣金件的顶部设有用于供活动杆上下活动的通孔,所述钣金件设有用于控制活动杆升降的控制装置。

9、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述转动组件包括用于带动执行机构旋转的转动轴和用于安装所述升降机构的安装板。

10、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述清灰装置的外侧设有用于保护所述动力机构的保护支架。

11、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述炉体包括主炉室和副炉室,所述主炉室的顶部设有炉盖,所述炉盖上安装有用于隔离主炉室和副炉室的隔离阀座,所述主炉室上设有用于监控单晶硅生长过程和炉室内状态变化的监控窗口,所述炉盖上还预留有安装其他部件的安装位置。

12、如上所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,所述驱动装置设置在转盘的下方,所述驱动装置为电机驱动或旋转气缸驱动;

13、所述支撑杆一端与执行机构连接,另一端与所述转动杆垂直连接。

14、与现有技术相比,本专利技术提出的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,具有以下有益效果:

15、1.本专利技术提出的清灰装置在清灰工作时,执行机构能伸入排废口自动清理炉底板上排废口的内壁积灰,避免排废口内壁粉尘积聚造成堵塞,从而影响单晶硅的生长质量和炉室内环境;且清灰完成后执行机构能脱离排废口,避免长期在排废口,而造成执行机构积灰,从而影响清灰装置的清灰效果。

16、2.本专利技术提出的排废管上设有开口,开口的设计使得执行机构可以顺利地伸入或脱离排废口,确保执行机构的精确定位,提高清灰效率。

17、3.本专利技术提出的排废管上设有封挡装置,封挡装置内的容置空间能确保在非工作状态下执行机构不会因为长期在排废口,而造成积灰,影响清灰装置的清灰效果;同时也能防止清灰过程中粉尘的扩散,造成环境的污染。

18、4.本专利技术提出的执行机构能均匀地分布清灰时的力度,确保排废口内壁的积灰能被全面清除。

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【技术保护点】

1.一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,包括炉体(10),所述炉体(10)的下方设有炉底板(20),所述炉底板(20)设有用于将炉体(10)内部粉尘或废气排出的排废口(21),所述排废口(21)的一侧设有清灰装置(30),所述清灰装置(30)清灰时部分伸入所述排废口(21)内自动清理内壁积灰,清灰完成后脱离所述排废口(21)使得所述排废口(21)能排出粉尘或废气。

2.根据权利要求1所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述清灰装置(30)包括用于清理内壁积灰的执行机构(31)以及控制所述执行机构(31)旋转和升降的动力机构(32),所述动力机构(32)包括用于控制执行机构(31)旋转的旋转机构(33)以及用于控制执行机构(31)升降的升降机构(34)。

3.根据权利要求2所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述排废口(21)外侧连接有用于将粉尘或废气排出炉体外的排废管(22),所述排废管(22)上设有用于供执行机构(31)伸入或脱离所述排废口(21)的开口(23)以及用于封挡执行机构(31)和开口(23)的封挡装置(40),所述封挡装置(40)内设有清灰完成后容纳执行机构(31)的容置空间(41)。

4.根据权利要求3所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述开口(23)包括方便执行机构(31)旋转的横向切口(231)以及方便执行机构(31)升降的纵向切口(232)。

5.根据权利要求2所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述旋转机构(33)包括可旋转的转盘(331)以及驱动所述转盘(331)旋转的驱动装置(332),所述转盘(331)上设有同轴转动的转动组件(333),所述转动组件(333)上连接有同轴转动的转动杆(334),所述转动杆(334)与执行机构(31)之间设有用于为所述执行机构(31)提供支撑的支撑杆(335)。

6.根据权利要求2所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述升降机构(34)包括可升降的活动杆(341)以及用于将所述升降机构(34)固定安装在转动组件(333)的钣金件(342),所述活动杆(341)的顶部设有升降到位的限位块(343),所述钣金件(342)的顶部设有用于供活动杆(341)上下活动的通孔(344),所述钣金件(342)设有用于控制活动杆(341)升降的控制装置(345)。

7.根据权利要求6所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述转动组件(333)包括用于带动执行机构(31)旋转的转动轴(3331)和用于安装所述升降机构(34)的安装板(3332)。

8.根据权利要求2所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述清灰装置(30)的外侧设有用于保护所述动力机构(32)的保护支架(52)。

9.根据权利要求1所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述炉体(10)包括主炉室(11)和副炉室(12),所述主炉室(11)的顶部设有炉盖(111),所述炉盖(111)上安装有用于隔离主炉室(11)和副炉室(12)的隔离阀座(112),所述主炉室(11)上设有用于监控单晶硅生长过程和炉室内状态变化的监控窗口(113),所述炉盖(111)上还预留有安装其他部件的安装位置。

10.根据权利要求5所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述驱动装置(332)设置在转盘(331)的下方,所述驱动装置(332)为电机驱动或旋转气缸驱动;

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【技术特征摘要】

1.一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,包括炉体(10),所述炉体(10)的下方设有炉底板(20),所述炉底板(20)设有用于将炉体(10)内部粉尘或废气排出的排废口(21),所述排废口(21)的一侧设有清灰装置(30),所述清灰装置(30)清灰时部分伸入所述排废口(21)内自动清理内壁积灰,清灰完成后脱离所述排废口(21)使得所述排废口(21)能排出粉尘或废气。

2.根据权利要求1所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述清灰装置(30)包括用于清理内壁积灰的执行机构(31)以及控制所述执行机构(31)旋转和升降的动力机构(32),所述动力机构(32)包括用于控制执行机构(31)旋转的旋转机构(33)以及用于控制执行机构(31)升降的升降机构(34)。

3.根据权利要求2所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述排废口(21)外侧连接有用于将粉尘或废气排出炉体外的排废管(22),所述排废管(22)上设有用于供执行机构(31)伸入或脱离所述排废口(21)的开口(23)以及用于封挡执行机构(31)和开口(23)的封挡装置(40),所述封挡装置(40)内设有清灰完成后容纳执行机构(31)的容置空间(41)。

4.根据权利要求3所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述开口(23)包括方便执行机构(31)旋转的横向切口(231)以及方便执行机构(31)升降的纵向切口(232)。

5.根据权利要求2所述的一种便于清理单晶硅炉炉底的自动清灰设备,其特征在于,所述旋转机构(33)包括可旋转的转盘(331)以及驱动所述转盘(331)旋转的驱动装置(332),所述转盘(331)上设有同轴转动的转动组件(333),所述转动组件...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘奇
申请(专利权)人:中山市浩晨科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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