【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及水质分析装置。
技术介绍
1、以往，在分析试料水的水质的水质分析装置中，已知有利用超声波、气液喷射喷嘴或擦拭器的清洗方法(例如，参照专利文献1-3)。另外，已知有包括两种光源的测定装置(例如，参照专利文献4)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本专利特表2015-500461号公报
5、专利文献2：日本专利特开2008-2956号公报
6、专利文献3：日本专利特开平9-54076号公报
7、专利文献4：日本专利特开2022-59278号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的技术问题
2、在水质分析装置中，优选防止液体接触容器内部的污染。
3、用于解决技术问题的技术手段
4、在本专利技术的实施方式中，提供一种对测定对象水进行分析的水质分析装置。水质分析装置可以包括具有供所述测定对象水流通的内部空间的液体接触容器。上述任一种水质分析装置可以包括对所述内部空间照射测定光的测定光照射光学系统。上述任一种水质分析装置可以包括对所述内部空间照射紫外光的紫外光照射光学系统。上述任一种水质分析装置可以包括基于来自所述液体接触容器的被测定光分析测定对象水的检测光学系统。上述任一种水质分析装置可以包括污染运算控制部，该污染运算控制部基于所述检测光学系统的分析结果，来对表示所述液体接触容器的污染程度的污染指标进行运算。在上述任一种水质分析装置中，所述污染运算控制
5、在上述任一种水质分析装置中，若所述污染指标的值比预先确定的值要大，则所述污染运算控制部可以使所述紫外光的强度增加。
6、在上述任一种水质分析装置中，所述预先确定的值可以根据所述测定对象水的种类来决定。
7、在上述任一种水质分析装置中，所述紫外光照射光学系统在所述水质分析装置分析所述测定对象水的期间，可以间歇地照射所述紫外光。
8、在上述任一种水质分析装置中，所述紫外光的扩散程度可以比所述测定光要大。
9、在上述任一种水质分析装置中，所述液体接触容器可以具有供所述被测定光通过的散射光窗。在上述任一种水质分析装置中，所述液体接触容器可以具有供所述被测定光通过的散射光窗。在上述任一种水质分析装置中，所述紫外光窗可以配置在隔着所述内部空间与所述散射光窗相对的位置。
10、上述任一种水质分析装置还可以包括控制所述测定对象水的流速来去除所述污染的流速控制部。
11、在上述任一种水质分析装置中，在所述污染运算控制部对所述污染指标进行运算、而所述污染指标大于预先确定的值的情况下，所述污染运算控制部可以使所述紫外光的光量及占空比增加，所述流速控制部可以反复进行使所述测定对象水的流速增加的操作。
12、在上述任一种水质分析装置中，所述液体接触容器可以具有供所述被测定光通过的散射光窗。在上述任一种水质分析装置中，所述液体接触容器可以具有供所述紫外光通过的紫外光窗。在上述任一种水质分析装置中，所述液体接触容器可以具有遮光部，该遮光部设置在所述内部空间，将所述紫外光从所述紫外光窗引导到所述散射光窗。在上述任一种水质分析装置中，所述遮光部的内壁可以反射所述紫外光。
13、上述专利技术概要并不是对本专利技术的所有必要特征进行列举。另外，这些特征组的子组合也可以构成专利技术。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种水质分析装置，该水质分析装置对测定对象水进行分析，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，
3.如权利要求2所述的水质分析装置，其特征在于，
4.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，
5.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，
6.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，
7.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，
8.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，
9.如权利要求8所述的水质分析装置，其特征在于，
10.如权利要求1至9的任一项所述的水质分析装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种水质分析装置，该水质分析装置对测定对象水进行分析，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，
3.如权利要求2所述的水质分析装置，其特征在于，
4.如权利要求1所述的水质分析装置，其特征在于，
5.如权利要求4所述的水质分析装置，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：李波，田原雅哉，吉田圭佑，东亮一，
申请(专利权)人：富士电机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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