【技术实现步骤摘要】
本公开涉及真空镀膜，具体而言，涉及一种蒸发舟及真空蒸发镀膜装置。
技术介绍
1、pvd(physical vapor deposition，物理气相沉积)技术使制备薄靶材料的主要技术之一，而真空镀膜又作为pvd传统技术在多个领域广泛使用，其工艺控制简便，成膜纯度高。真空镀膜技术是将金属丝接触蒸发舟，金属丝便熔化并升华成金属蒸气，将待涂覆的基材通过蒸发舟上方，金属蒸气作为薄的金属层沉积在基材表面上。
2、相关技术中的蒸发舟在使用时，液态靶材对舟体润湿性较差，熔池难以铺展。熔池未铺展区域产生过热，舟体背部易发生分解开裂，降低使用寿命。其次，熔液难以铺展，存在熔池集中沸腾的风险，进而影响成膜质量。
技术实现思路
1、本公开的目的在于提供一种蒸发舟及真空蒸发镀膜装置，能够解决上述提到的至少一个技术问题。具体方案如下：
2、根据本公开的具体实施方式，一方面，本公开提供一种蒸发舟，所述蒸发舟用于真空蒸发镀膜，所述蒸发舟包括：蒸发舟本体，所述蒸发舟本体开设有容置槽；其中，所述容置槽的底部设有熔化槽和第一引流槽，所述第一引流槽与所述熔化槽连通，所述熔化槽的深度大于所述第一引流槽的深度；所述熔化槽配置为熔化靶材，所述第一引流槽配置为引流熔化的靶材。
3、在一可选实施例中，所述第一引流槽一端与所述熔化槽连通，另一端远离所述熔化槽。
4、在一可选实施例中，所述第一引流槽至少有两条。
5、在一可选实施例中，所述第一引流槽的槽底开设有第二引流槽，所
6、在一可选实施例中，所述蒸发舟还包括：引流丝，所述引流丝为金属材质，所述引流丝一端位于所述熔化槽底部，另一端位于所述第二引流槽内。
7、在一可选实施例中，所述熔化槽靠近所述第一引流槽的一端设有第一斜坡。
8、在一可选实施例中，所述容置槽的一端设有第二斜坡。
9、在一可选实施例中，所述容置槽另一端设有第三斜坡。
10、在一可选实施例中，所述熔化槽的长度为所述容置槽长度的1/3-1/2。
11、在一可选实施例中，所述熔化槽的宽度小于所述容置槽的宽度。
12、在一可选实施例中，所述熔化槽与所述容置槽具有一个共同的侧壁；所述熔化槽与所述容置槽具有共同的所述第三斜坡。
13、根据本公开的具体实施方式，另一方面，本公开提供一种真空蒸发镀膜装置，包括：如上述技术方案中任一项所述的蒸发舟。
14、本公开实施例的上述方案与现有技术相比，至少具有以下有益效果：
15、本公开的蒸发舟用于真空蒸发镀膜，在容置槽内设置第一引流槽，在送丝过程中，将金属靶材送至熔化槽内。通过采用本公开的蒸发舟进行真空蒸发镀膜可以扩大熔池的面积，减少干烧区，延长蒸发舟的使用寿命；并且确保熔池铺展稳定，从而保障镀膜的稳定性。
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1.一种蒸发舟，用于真空蒸发镀膜，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的蒸发舟，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的蒸发舟，其特征在于，
4.根据权利要求1-3任一项所述的蒸发舟，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的蒸发舟，其特征在于，还包括：
6.根据权利要求1所述的蒸发舟，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的蒸发舟，其特征在于，
8.根据权利要求1所述的蒸发舟，其特征在于，
9.根据权利要求6所述的蒸发舟，其特征在于，
10.一种真空蒸发镀膜装置，其特征在于，包括：如权利要求1-9中任一项所述的蒸发舟。
【技术特征摘要】
1.一种蒸发舟，用于真空蒸发镀膜，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的蒸发舟，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的蒸发舟，其特征在于，
4.根据权利要求1-3任一项所述的蒸发舟，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的蒸发舟，其特征在于，还包括：
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【专利技术属性】
技术研发人员：徐文婷，杨怀超，侯建洋，孙欣森，
申请(专利权)人：安迈特科技北京有限公司，
类型：新型
国别省市：
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