对准装置、对准方法、成膜装置以及制造方法制造方法及图纸

技术编号：43633848 阅读：13 留言：0更新日期：2024-12-13 12:34

本发明专利技术涉及一种有利于检测分别设置于基板及掩模的标记的对准装置、对准方法、成膜装置以及制造方法。所述对准装置用于基板与掩模的对准，所述掩模用于在所述基板的成膜面形成图案，其特征在于，所述对准装置具有相机，所述相机在所述基板与所述掩模重叠的状态下配置于与所述掩模相反的一侧，检测第一标记和第二标记，所述第一标记设置于所述基板的与所述成膜面相反的一侧的背面，所述第二标记设置于所述掩模，所述掩模包括：图案部，所述图案部包括用于形成所述图案的开口；以及突出部，所述突出部从所述图案部的与所述成膜面相向的相向面的外缘部向重叠有所述基板的一侧突出，所述相机检测设置于所述突出部的上表面的所述第二标记。

全部详细技术资料下载

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对准装置、对准方法、成膜装置以及制造方法。

技术介绍

1、有机el显示装置(有机el显示器)除了应用于智能手机、电视机、汽车用显示器以外，还应用于vr hmd(virtual reality head mount display：虚拟现实头戴式显示器)等。在制造有机el显示装置的工序中，当在基板上形成有机发光元件(有机el元件：oled)时，通常使用成膜装置。

2、成膜装置使从蒸镀源放出的蒸镀物质(成膜材料)经由形成有与像素图案对应的图案的掩模附着于基板而形成(成膜)有机物膜、金属膜等膜。此时，需要高精度地使基板与掩模对位(对准)。

3、一直以来提出有与基板和掩模的对准相关的技术(参照专利文献1)。在专利文献1中公开了如下技术：利用以基板为基准设置于与掩模相反的一侧的相机来测量分别设置于基板及掩模的标记的相对位置(位置偏移)，并基于该测量结果调整基板及掩模中的至少一方的位置。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：国际公开第2017/222009号公报

7、在基板与掩模的对准中使用的相机一般用可见光等测量光对标记进行照明，检测(观察)由标记反射的测量光(反射光)，由此对设置于基板、掩模的标记的位置进行光学测量。因此，在基板、掩模的透射率相对于在相机中使用的测量光低的情况下，由相机检测到的测量光(来自标记的反射光)的光量降低，设置于基板、掩模的标记的位置的测量精度降低。另外，根据基板、掩模相对于测量光的透射率，测量设置于基板、掩模的标记的位置本身变得困难。

技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、本专利技术提供一种有利于检测分别设置于基板及掩模的标记的技术。

3、用于解决课题的手段

4、作为本专利技术的一个方面的对准装置用于基板与掩模的对准，所述掩模用于在所述基板的成膜面形成图案，其特征在于，具有相机，所述相机在所述基板与所述掩模重叠的状态下配置于与所述掩模相反的一侧，检测第一标记和第二标记，所述第一标记设置于所述基板的与所述成膜面相反的一侧的背面，所述第二标记设置于所述掩模，所述掩模包括：图案部，所述图案部包括用于形成所述图案的开口；以及突出部，所述突出部从所述图案部的与所述成膜面相向的相向面的外缘部向重叠有所述基板的一侧突出，所述相机检测设置于所述突出部的上表面的所述第二标记。

5、作为本专利技术的另一个方面的对准方法对基板与掩模进行对准，所述掩模用于在所述基板的成膜面形成图案，其特征在于，具有：使用上述的对准装置检测设置于所述基板的第一标记和设置于所述掩模的第二标记的工序；以及基于检测到所述第一标记及所述第二标记的结果对所述基板与所述掩模进行对准的工序。

6、作为本专利技术的又一个方面的成膜装置经由掩模在基板上进行成膜，其特征在于，具有对所述基板与所述掩模进行对准的上述的对准装置。

7、作为本专利技术的又一个方面的制造方法的特征在于，使用上述的成膜装置来制造电子器件。

8、以下，通过参照附图说明的实施方式来明确本专利技术的进一步的目的或其他方面。

9、专利技术效果

10、根据本专利技术，例如能够提供一种有利于检测分别设置于基板及掩模的标记的技术。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种对准装置，所述对准装置用于基板与掩模的对准，所述掩模用于在所述基板的成膜面形成图案，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的对准装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的对准装置，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的对准装置，其特征在于，

7.根据权利要求4所述的对准装置，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的对准装置，其特征在于，

10.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

11.根据权利要求10所述的对准装置，其特征在于，

12.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

13.根据权利要求1所述的对准装置，其特征在于，

14.一种对准方法，所述对准方法对基板与掩模进行对准，所述掩模用于在所述基板的成膜面形成图案，其特征在于，所述对准方法具有：

15.一

16.一种制造方法，其特征在于，

...

【技术特征摘要】