【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电子元器件加工的，尤其涉及一种电子元器件清洗装置。
技术介绍
1、电子元器件清洗是电子制造过程中的重要环节，可以去除表面污染物，确保元器件质量和可靠性。清洗方式包括机械清洗、溶剂清洗、超声波清洗和酸洗等。酸洗是一种常用的清洗方法，主要用于去除金属表面的氧化皮和其它污染物，以及改善金属表面的粗糙度和增加表面活性，有利于后续处理工艺和保证元器件性能。
2、目前，电子元器件酸洗时，通常将大量电子元器件倒入到酸洗池中进行静态清洗，造成元器件堆积在一起，由于形状和尺寸的限制，会导致堆积在内部的电子元器件不能与酸洗液进行充分接触，不能有效去除电子元件表面的氧化皮等其它污染物，从而影响了电子元器件的清洗质量。
技术实现思路
1、本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
2、为此，本技术的目的在于提出一种电子元器件清洗装置，能够使堆积的电子元器件与酸洗液充分接触，从而提高电子元器件的酸洗效果。
3、为达到上述目的，本技术提出了一种电子元器件清洗装置，包括酸洗箱、翻转搅动组件和气泡发生组件，其中，酸洗箱的底部设置有支撑板；翻转搅动组件包括电机、联轴器和翻动机构，其中，电机设置在酸洗箱上；联轴器转动设置在酸洗箱上，联轴器的一端与电机的输出轴连接，联轴器的另一端与翻动机构可拆卸连接；翻动机构转动设置在酸洗箱内，且翻动机构与酸洗箱可拆卸连接；气泡发生组件设置在支撑板上，气泡发生组件的一端与电机输出轴上设置的第一齿轮转动连接，气泡发生组件的另一端
4、本技术的一种电子元器件清洗装置，能够使堆积的电子元器件与酸洗液充分接触，从而提高电子元器件的酸洗效果。
5、另外，根据申请上述提出的一种电子元器件清洗装置还可以具有如下附加的技术特征：
6、具体地，翻动机构包括支撑架、底板、顶板和限位柱，其中，支撑架的一端与底板连接，支撑架的另一端与顶板可拆卸连接；顶板与联轴器可拆卸连接；底板与酸洗箱转动连接，且底板与酸洗箱可拆卸连接；限位柱分别设置在支撑架上。
7、具体地，气泡发生组件包括第二齿轮、空气输送机构、连接管和气泡输出机构，其中，第二齿轮与第一齿轮转动连接，且第二齿轮与酸洗箱转动连接；空气输送机构设置在支撑板上，空气输送机构与第二齿轮连接；连接管的一端与空气输送机构连通，连接管的另一端与酸洗箱底部开设的气体通入孔连通；气泡输出机构设置在酸洗箱内，并与气体通入孔滑动连接。
8、具体地，空气输送机构包括输送箱、往复丝杆、活塞和单向阀，其中，输送箱的两端分别盖合设置在支撑板上；往复丝杆设置在输送箱内，并与支撑板转动连接，且往复丝杆的一端与第二齿轮连接；活塞转动设置在往复丝杆上，且活塞与输送箱滑动连接；单向阀设置在支撑板上，并与输送箱连通。
9、具体地，气泡输出机构包括挡气阀块和伸缩套管，其中，挡气阀块与气体通入孔滑动插接配合；伸缩套管的一端与酸洗箱连接，伸缩套管的另一端与挡气阀块连接。
10、本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
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1.一种电子元器件清洗装置，其特征在于，包括酸洗箱、翻转搅动组件和气泡发生组件，其中，
2.根据权利要求1所述的电子元器件清洗装置，其特征在于，所述翻动机构包括支撑架、底板、顶板和限位柱，其中，
3.根据权利要求2所述的电子元器件清洗装置，其特征在于，所述气泡发生组件包括第二齿轮、空气输送机构、连接管和气泡输出机构，其中，
4.根据权利要求3所述的电子元器件清洗装置，其特征在于，所述空气输送机构包括输送箱、往复丝杆、活塞和单向阀，其中，
5.根据权利要求4所述的电子元器件清洗装置，其特征在于，所述气泡输出机构包括挡气阀块和伸缩套管，其中，
【技术特征摘要】
1.一种电子元器件清洗装置，其特征在于，包括酸洗箱、翻转搅动组件和气泡发生组件，其中，
2.根据权利要求1所述的电子元器件清洗装置，其特征在于，所述翻动机构包括支撑架、底板、顶板和限位柱，其中，
3.根据权利要求2所述的电子元器件清洗装置，其特征在于，所述气泡发生组件包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：房璐璐，张宇，吴显普，
申请(专利权)人：东莞市臻荣电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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