一种承载组件，其包括一承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作杆上且邻近操作杆的端部；所述承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座相对所述操作杆对称地分布在所述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承载板一端的侧壁上对应承载座的位置处分别开设有两个通风口；所述离子风源与操作杆上远离承载板的另一端相连接，并向所述操作杆中通入离子风。所述离子风源产生的离子风通过中空的操作杆，从通风口吹出后作用于承载座中的镀膜基板，可有效的去除了镀膜基板上的静电和灰尘。本发明专利技术还提供一种使用该承载组件的镀膜装置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜技术，尤其涉及一种承载组件及使用该承载组件的镀膜装置。
技术介绍
一般，对镀膜基板进行不同种类镀膜时，如先对镀膜基板进行底漆或面漆喷涂，接 着对镀膜基板进行溅镀(sputtering)，或者对镀膜基板进行喷雾热解(Spray pyrolysis) 等等，需要采用不同的镀膜工艺对所述镀膜基板进行镀膜。由于镀膜基板的镀膜均是在真空条件下进行的，因此，每当完成一次镀膜，就必须 将所述镀膜基板从对应的镀膜腔体中撤出，移动至下一个镀膜腔体中进行另一次镀膜。但 是，当承载组件带动镀膜基板在镀膜腔体内移动过程中，由于镀膜腔体内的移动通道内可 能存在静电或灰尘，容易造成镀膜基板或刚镀上的薄膜层的镀膜基板被污染。因此，所述镀 膜基板镀膜完成后，会造成所述镀膜基板的薄膜层品质不佳，从而造成镀膜良率下降。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种能去除镀膜基板上静电和灰尘的承载组件及使用该承 载组件的镀膜装置。一种承载组件，其包括一承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作 杆上且邻近操作杆的端部；所述承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座 相对所述操作杆对称地分布在所述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承 载板一端的侧壁上对应承载座的位置处分别开设有两个通风口 ；所述离子风源与操作杆上 远离承载板的另一端相连接，并向所述操作杆中通入离子风。一种镀膜装置，其包括一本体及一承载组件；所述本体包括多个用于不同镀膜方 式的镀膜腔体，所述多个镀膜腔体之间设置有通道；所述承载组件用于承载镀膜基板，并通 过在通道间的移动，将镀膜基板移动到多个镀膜腔体；其特征在于所述承载组件包括一 承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作杆上且邻近操作杆的端部；所述 承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座相对所述操作杆对称地分布在所 述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承载板一端的侧壁上对应承载座的 位置处分别开设有两个通风口 ；所述离子风源与操作杆上远离承载板的另一端相连接，并 向所述操作杆中通入离子风。与现有技术相比，本专利技术提供的承载组件及使用该承载组件的镀膜装置中的离子 风源产生的离子风通过中空的操作杆，从通风口吹出后作用于承载座中的镀膜基板，有效 的去除了镀膜基板上的静电和灰尘；进而显著提升了镀膜良率。附图说明图1为本专利技术实施方式提供的镀膜装置的立体示意图。图2为图1中的镀膜装置的承载组件的结构示意图。图3为图1中的镀膜装置的操作杆的剖视图。具体实施例方式下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步的详细说明。请参阅图1至图3，为本专利技术实施方式提供的镀膜装置100，其用于对镀膜基板200 进行镀膜。所述镀膜装置100包括一本体10及一承载组件20。所述承载组件20的一端位 于本体10内，并用于承载待镀膜的镀膜基板200。所述本体10包括一腔体11、一腔门12、一凸杆13及一弹簧14。所述腔体11与腔 门12通过绞链(图未示)可转动连接。所述凸杆13通过弹簧14固设于腔门12上朝向于 腔体11的一侧。所述腔体11包括一顶壁111及一与顶壁111相对的底壁112。所述腔体11包括 一第一镀膜腔体113及一位于第一镀膜腔体113正上方的第二镀膜腔体114。所述第一镀 膜腔体113包括两个并排设置的第一子腔体113a及第二子腔体113b。所述第二镀膜腔体 114包括两个并排设置的第三子腔体114a及第四子腔体114b。所述第一子腔体113a、第 二子腔体113b、第三子腔体114a及第四子腔体114b呈田字型分布。所述第一子腔体113a 及所述第二子腔体113b与底壁112之间形成一个第一通道15。所述第一子腔体113a与所 述第二子腔体113b、所述第三子腔体13与所述第四子腔体114b之间形成一个与所述第一 通道15垂直相通的第二通道16。所述第三子腔体114a与所述第一子腔体113a、所述第四 子腔体114b与所述第二子腔体113b之间形成一个与所述第一通道15平行且与所述第二 通道16垂直相通的第三通道17。在所述第一子腔体113a与第二子腔体113b与第一通道 15相邻的底面上分别开设有一镀膜口 101。所述第三子腔体114a与第四子腔体114b与第 三通道17相邻的底面上也分别开设有一镀膜口 101。所述腔体11的底壁112开设有一个 供所述承载组件20通过的条形通孔102，且所述条形通孔102与第二通道16相对。所述腔门12用于封闭所述第一镀膜腔体113及所述第二镀膜腔体114。所述凸杆 13通过弹簧14弹性的固设于腔门12面向腔体11的一侧。所述凸杆13包括一个第一杆 131及两个垂直固定在所述第一杆131上的第二杆132。所述腔门12封闭所述第一镀膜腔 体113及所述第二镀膜腔体114时，所述第一杆131紧密卡设于第二通道16内，两个第二 杆132分别紧密卡设于第一通道15及第二通道16内。所述弹簧14保证凸杆13在卡设于 上述通道内时对凸杆13施加一定的压力，保证所述凸杆13可紧密卡合在所述第一通道15 及第二通道16内，以确保第一镀膜腔体113及第二镀膜腔体114被密封。所述承载组件20包括一承载板21、一操作杆22、一传动齿轮23、一驱动马达24、 一轴承25及一升降台26。所述承载板21为一条形基板，在其一侧设有两个用于承载镀膜 基板200的承载座211。所述承载板21固设于操作杆22上且邻近操作杆22的端部，所述 承载座211相对于操作杆22对称分布，且两个承载座211的间距与第一镀膜腔体113或第 二镀膜腔体114内的两个镀膜口 101的间距相等。所述操作杆22为一中空杆，所述操作杆 22穿过所述承载板21且其穿过承载板21的一端被封闭并形成一封闭端221。在操作杆22 靠近封闭端221的侧面上对应所述承载座211的位置处分别朝向于承载座211开设有两个 通风口 222。所述封闭端221靠近通风口 222的一侧开设有一锥形凹槽223。所述传动齿轮23套设于操作杆22上远离承载板21所在的另一端。所述驱动马达24与轴承25相邻 的固设于升降台26上。所述驱动马达24包括一驱动齿轮241，所述驱动齿轮241与传动齿 轮23相啮合。所述升降台26包括一离子风源261，所述操作杆22穿过轴承25的内圈并与 离子风源261相连通。请一并参阅图1，在镀膜过程前，所述操作杆22上固设有承载板21的一端从条形 通孔102伸入到腔体11内，所述承载座211保持与通风口 222相对。所述离子风源261产 生的离子风经过操作杆22从通风口 222吹出，位于封闭端221的锥形凹槽223使得从通风 口 222吹出的离子风向承载座211所在位置倾斜。放置于承载座211上的镀膜基板200经 过离子风的作用后，将有效减少位于镀膜基板200上的灰尘和静电，从而有效提高镀膜质 量。然后，关闭离子风源261，所述驱动马达21带动操作杆22旋转，所述升降台26带 动操作杆22上下移动，从而使其中一个承载座211密封第一子腔体113a的镀膜口 101并 且使对应的镀膜基板200从所述镀膜口 101暴露在所述第一子腔体113a内，另外一个承载 座211密封第二子腔体113b的镀膜本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种承载组件，其包括一承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作杆上且邻近操作杆的端部；所述承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座相对所述操作杆对称地分布在所述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承载板一端的侧壁上对应承载座的位置处分别开设有两个通风口；所述离子风源与操作杆上远离承载板的另一端相连接，并向所述操作杆中通入离子风。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：裴绍凯，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。