【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及化学机械抛光领域，尤其涉及一种用于抛光铝的化学机械抛光液及一种将麦芽酚用于抛光铝中的用途。
技术介绍
1、现有技术中，在抛光al材料时，通常使用α-al2o3作为研磨颗粒。然而，α-al2o3很硬(莫氏硬度是9,仅仅比金刚石小)，很容易在莫氏硬度为2.5的软金属铝上产生划伤。除此之外，铝腐蚀缺陷(点蚀)也是市场上以氧化铝作为研磨颗粒的铝浆料常见问题。
2、本领域常用的研磨颗粒氧化硅的硬度则远小于α-al2o3。然而，若使用氧化硅研磨颗粒，铝的抛光速率较低，而氧化硅(teos)的抛光速率高，导致al/sio2的抛光选择比较小。即使如此，出于成本考虑，目前亟需一种能够以氧化硅作为磨料的铝抛光液，具有较为理想的al/sio2的抛光选择比，同时能够减少al表面的划伤以及腐蚀情况。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种使用具有较为理想的al/sio2的抛光选择比，同时能够减少al表面的划伤以及腐蚀的用于抛光al的化学机械抛光液。
2、具体而言，本专利技术公开一种用于抛光铝的化学机械抛光液，包含研磨颗粒和麦芽酚，所述化学机械抛光液的ph值为3.5～8.3。
3、优选的，所述研磨颗粒为表面为负电荷的研磨颗粒。
4、优选的，所述研磨颗粒选自氧化铝或二氧化硅中的一种或多种。
5、优选的，所述氧化硅研磨颗粒的粒径范围为35nm-70nm；所述氧化硅研磨颗粒的质量百分比浓度为0.5wt％-5wt％。
<...【技术保护点】
1.一种用于抛光铝的化学机械抛光液，其特征在于，包含
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于，
4.如权利要求3所述的化学机械抛光液，其特征在于，
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
7.一种将麦芽酚用于铝的化学机械抛光液的用途，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种用于抛光铝的化学机械抛光液，其特征在于，包含
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于，
4.如权利要求3所述的化学机...
【专利技术属性】
技术研发人员：李守田，徐鹏宇，
申请(专利权)人：安集微电子科技上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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