【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开大体上涉及气体烤架，并且更具体地，涉及一种用于气体烤架的改进焚烧器系统。
技术介绍
1、多年来，气体烤架焚烧器呈现各种构造。在一些情况下，焚烧器冲压为顶部件和底部件并且以某种方式连结在一起以形成气室，该气室具有用于空气/气体混合物的入口区域，以及用于空气/气体混合物的离开和燃烧的外围或顶部布置的小端口。在许多其它情况下，用于气体烤架的焚烧器建造为管，管具有用于将空气与气体混合的吸气入口和沿着管的长度的小焚烧器端口。两种类型的焚烧器在最大气体流率与最小气体流率之比方面被限制，该比限定为调节比。对于气体烤架产品而言，典型的调节比在2:1左右。
2、当期望具有自动调节焚烧器系统时，该调节比将仍然适用。在现有系统中，自动焚烧器系统的性能被调节比限制，该调节比限制能够由系统实现的最低温度(典型地发现在400°f至500°f的范围内)。该限制甚至关于手动控制系统存在，这意味着一些种类的慢烹饪(例如，大厚度肉的慢烹饪)不是实际的提议。
3、需要适合于但不限于自动调节控制的焚烧器系统，其可产生较大有效烹饪温度范围并且/或者解决以上以及相关的问题。
技术实现思路
1、本公开的专利技术在其一个方面包括一种用于在气体烹饪烤架中使用的焚烧器系统。系统包括炉膛中的主焚烧器和炉膛中的次级焚烧器，该主焚烧器向主焚烧器上方的烹饪表面提供热，该次级焚烧器向烹饪炉排选择性地提供热，使得次级焚烧器的点燃向主焚烧器上方的烹饪表面提供附加程度的热。
2、在一些实施例中，主焚烧器和次
3、在一些实施例中，气体控制机构选择性地激活次级焚烧器。气体控制机构可为恒温的。
4、焚烧器系统的调节比可超过2:1，并且可为约5:1。
5、在一些情况下，次级焚烧器包括多个次级焚烧器。系统可包括插置于多个次级焚烧器中的两个之间的挡板。
6、一些实施例还包括水平挡板，其插置在下方的主焚烧器的部分和次级焚烧器的部分和上方的烹饪表面之间。水平挡板可在主焚烧器的部分上方，该主焚烧器的部分平行于次级焚烧器的部分延伸。
7、本公开的专利技术在其另一个方面包括一种用于在气体烤架中使用的焚烧器系统。系统具有烤架中在烹饪表面下方的主焚烧器、烤架中在烹饪表面下方的次级焚烧器、控制模块、温度传感器，以及控制至次级焚烧器的气体流的气体控制阀。主焚烧器和次级焚烧器布置成使得它们都加热烹饪表面的相同区域。主焚烧器和次级焚烧器还布置成使得当气体流动到次级焚烧器中时，主焚烧器点燃次级焚烧器。控制模块基于使用温度传感器获得的温度经由气体控制阀恒温地控制至次级焚烧器的气体流。
8、在一些实施例中，主焚烧器和次级焚烧器在共同平面中，并且次级焚烧器至少部分地包绕主焚烧器。主焚烧器和次级焚烧器可沿其部分彼此平行。在一些实施例中，主焚烧器和次级焚烧器彼此正交。一些实施例包括附加次级焚烧器，该附加次级焚烧器布置成使得当气体流动到附加次级焚烧器中时，主焚烧器点燃附加次级焚烧器。
9、本公开的专利技术在其另一个方面包括一种烤架，该烤架带有具有烹饪表面的炉膛、燃料供应源、主焚烧器，该主焚烧器在烹饪表面下方并且经由主电控气体阀接收来自燃料供应源的燃料。次级焚烧器在烹饪表面下方并且经由次级电控气体阀接收来自燃料供应源的燃料。烤架具有炉膛中的温度探头，以及控制模块，该控制模块控制主电控气体阀和次级电控气体阀，以分别增加或减少来自主焚烧器和次级焚烧器的输出。控制模块基于使用温度探针的温度读数恒温地控制至少次级气体阀。主焚烧器和次级焚烧器布置在烹饪表面下方以各自加热烹饪表面的相同区域。
10、在一些实施例中，主焚烧器和次级焚烧器的最高设定与主焚烧器和次级焚烧器的最低设定的调节比为约5:1。在一些情况下，火焰路径存在于主焚烧器和次级焚烧器之间，使得当气体从次级焚烧器流动时，次级焚烧器可完全关闭并且随后由主焚烧器点燃。
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1.一种用于在气体烹饪烤架中使用的焚烧器系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述主焚烧器和所述次级焚烧器向所述烹饪表面的相同区域提供热。
3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述主焚烧器嵌套在所述次级焚烧器内。
4.根据权利要求3所述的系统，所述系统还包括用于在所述主焚烧器和所述次级焚烧器之间传送可燃气体的导管。
5.根据权利要求4所述的系统，所述系统还包括选择性地激活所述次级焚烧器的气体控制机构。
6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述气体控制机构是恒温的。
7.根据权利要求1的系统，其中，所述焚烧器系统的调节比超过2:1。
8.根据权利要求7的系统，其中，所述焚烧器系统的所述调节比为约5:1。
9.根据权利要求1的系统，其中，所述次级焚烧器包括多个次级焚烧器。
10.根据权利要求9所述的系统，所述系统还包括插置于所述多个次级焚烧器中的两个之间的挡板。
11.根据权利要求1所述的系统，所述系统还包括水平挡板，所述水平挡板插置在下方的所述主焚烧
12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述水平挡板在所述主焚烧器的部分上方，所述主焚烧器的部分平行于所述次级焚烧器的部分延伸。
13.一种用于在气体烤架中使用的焚烧器系统，其包括：
14.根据权利要求13所述的焚烧器系统，其中，所述主焚烧器和所述次级焚烧器在共同平面中，并且所述次级焚烧器至少部分地包绕所述主焚烧器。
15.根据权利要求14所述的焚烧器系统，其中，所述主焚烧器和所述次级焚烧器沿其部分彼此平行。
16.根据权利要求13所述的焚烧器系统，其中，所述主焚烧器和所述次级焚烧器彼此正交。
17.根据权利要求13所述的焚烧器系统，所述焚烧器系统还包括附加次级焚烧器，所述附加次级焚烧器布置成使得当气体流动到所述附加次级焚烧器中时，所述主焚烧器点燃所述附加次级焚烧器。
18.一种烤架，其包括：
19.根据权利要求18所述的烤架，其中，所述主焚烧器和所述次级焚烧器的最高设定与所述主焚烧器和所述次级焚烧器的最低设定的调节比为约5:1。
20.根据权利要求18所述的烤架，其中，火焰路径存在于所述主焚烧器和所述次级焚烧器之间，使得当气体从所述次级焚烧器流动时，所述次级焚烧器能够完全关闭并且接着由所述主焚烧器点燃。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于在气体烹饪烤架中使用的焚烧器系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述主焚烧器和所述次级焚烧器向所述烹饪表面的相同区域提供热。
3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述主焚烧器嵌套在所述次级焚烧器内。
4.根据权利要求3所述的系统，所述系统还包括用于在所述主焚烧器和所述次级焚烧器之间传送可燃气体的导管。
5.根据权利要求4所述的系统，所述系统还包括选择性地激活所述次级焚烧器的气体控制机构。
6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述气体控制机构是恒温的。
7.根据权利要求1的系统，其中，所述焚烧器系统的调节比超过2:1。
8.根据权利要求7的系统，其中，所述焚烧器系统的所述调节比为约5:1。
9.根据权利要求1的系统，其中，所述次级焚烧器包括多个次级焚烧器。
10.根据权利要求9所述的系统，所述系统还包括插置于所述多个次级焚烧器中的两个之间的挡板。
11.根据权利要求1所述的系统，所述系统还包括水平挡板，所述水平挡板插置在下方的所述主焚烧器的部分和所述次级焚烧器的部分和上方的所述烹饪表面之间。
12.根据权利要求11所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：C·J·贝内特，S·阿卜达拉，R·K·拉赫马尼，T·凯斯勒，B·罗伯茨，
申请(专利权)人：WC布拉德利公司，
类型：发明
国别省市：
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