【技术实现步骤摘要】
本申请属于显示领域，具体涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。
技术介绍
1、显示面板包括液晶显示面板（lcd）和电子纸（e-paper）显示面板等，液晶显示面板和电子纸显示面板均包括阵列基板。
2、阵列基板包括衬底基板，以及依次形成在衬底基板上的栅极、栅极绝缘层、沟道层、源漏极、绝缘保护层、像素电极、平坦层和反射层，栅极、沟道层和源漏极构成与像素电极连接的晶体管。
3、现有阵列基板制作时，至少需要用到7道光罩（mask）工艺，以分别形成栅极、沟道层、源漏极、绝缘保护层、像素电极、平坦层和反射层，工艺流程复杂，导致阵列基板的制作成本显著增加。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，以减少制作阵列基板所需光罩工艺数量，降低阵列基板的制作成本。
2、为了达到上述目的，本申请提供了一种阵列基板，包括衬底基板，所述阵列基板还包括：
3、第一金属层，形成在所述衬底基板一侧，所述第一金属层包括间隔设置的栅极和公共电极；
4、栅绝缘层，形成在所述第一金属层远离所述衬底基板一侧；
5、沟道层，形成在所述栅绝缘层远离所述衬底基板一侧，所述沟道层至少覆盖所述栅极；
6、第二金属层，形成在所述沟道层远离所述衬底基板一侧，所述第二金属层包括源极、漏极和反射电极，所述源极和所述漏极间隔设置，所述源极和所述漏极在所述衬底基板上的正投影均与所述栅极存在交叠，所述反射电极在所述衬底基板上的正投
7、可选的，所述阵列基板还包括多个凸台，所述公共电极包括多个间隔设置的电极单元，所述凸台设置在所述电极单元远离所述衬底基板一侧，所述栅绝缘层、所述沟道层、所述第二金属层均覆盖在所述凸台远离所述衬底基板一侧，所述凸台用于使所述反射电极凹凸不平。
8、可选的，所述凸台的制作材料和所述第一金属层的制作材料不同。
9、可选的，所述凸台的制作材料包括光刻胶，所述光刻胶包括可溶性聚四氟乙烯。
10、可选的，所述沟道层的制作材料包括二硫化钼。
11、可选的，所述阵列基板还包括绝缘保护层，所述绝缘保护层形成在所述第二金属层远离所述衬底基板一侧，所述绝缘保护层至少覆盖所述源极和所述漏极。
12、可选的，所述绝缘保护层覆盖所述第二金属层，所述绝缘保护层的制作材料包括氟化聚酰亚胺。
13、本申请还提供一种阵列基板的制作方法，包括：
14、在衬底基板一侧形成第一金属层，所述第一金属层包括间隔设置的栅极和公共电极；
15、在所述第一金属层远离所述衬底基板一侧依次形成栅绝缘层、沟道材料层和第二金属材料层；
16、图案化所述第二金属材料层和所述沟道材料层，形成第二金属层和沟道层，所述第二金属层包括源极、漏极和反射电极，所述源极和所述漏极间隔设置，所述源极和所述漏极在所述衬底基板上的正投影均与所述栅极存在交叠，所述反射电极在所述衬底基板上的正投影与所述公共电极存在交叠，所述反射电极与所述漏极连接。
17、可选的，形成所述第一金属层的方法包括：
18、在所述衬底基板上形成第一金属材料层；
19、在所述第一金属材料层远离所述衬底基板一侧形成光刻胶层；
20、采用灰阶光罩图案化所述光刻胶层，形成第一刻蚀阻挡区和多个第二刻蚀阻挡区，所述第一刻蚀阻挡区的厚度小于所述第二刻蚀阻挡区的厚度；
21、刻蚀所述第一金属材料层形成所述第一金属层，所述第一金属层的所述公共电极包括多个间隔设置的电极单元；
22、刻蚀图案化的所述光刻胶层，完全去除所述第一刻蚀阻挡区且部分去除所述第二刻蚀阻挡区，剩余所述第二刻蚀阻挡区形成凸台，所述凸台用于使所述反射电极凹凸不平。
23、本申请还提供一种显示面板，包括：
24、所述阵列基板；
25、对置基板，设置在所述阵列基板一侧。
26、本申请公开的阵列基板及其制作方法、显示面板具有以下有益效果：
27、本申请中，阵列基板包括衬底基板、第一金属层、栅绝缘层、沟道层和第二金属层，第一金属层形成在衬底基板一侧，第一金属层可包括间隔设置的栅极和公共电极，栅绝缘层形成在第一金属层远离衬底基板一侧，沟道层形成在栅绝缘层远离衬底基板一侧，沟道层至少覆盖栅极，第二金属层形成在沟道层远离衬底基板一侧，第二金属层包括源极、漏极和反射电极，反射电极与漏极连接，阵列基板的像素电极包括反射电极。本实施例复用反射电极作为像素电极，源极、漏极和反射电极和像素电极位于同一金属层中，可采用同一道光罩工艺制作，降低了工艺流程的复杂程度，提高了阵列基板的制作效率，降低了阵列基板的制作成本。
28、本申请的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本申请的实践而习得。
29、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括衬底基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括多个凸台，所述公共电极包括多个间隔设置的电极单元，所述凸台设置在所述电极单元远离所述衬底基板一侧，所述栅绝缘层、所述沟道层、所述第二金属层均覆盖在所述凸台远离所述衬底基板一侧，所述凸台用于使所述反射电极凹凸不平。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述凸台的制作材料和所述第一金属层的制作材料不同。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述凸台的制作材料包括光刻胶，所述光刻胶包括可溶性聚四氟乙烯。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述沟道层的制作材料包括二硫化钼。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括绝缘保护层，所述绝缘保护层形成在所述第二金属层远离所述衬底基板一侧，所述绝缘保护层至少覆盖所述源极和所述漏极。
7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘保护层覆盖所述第二金属层，所述绝缘保护层的制作材料包括氟化
8.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：
9.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一金属层的方法包括：
10.一种显示面板，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括衬底基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括多个凸台，所述公共电极包括多个间隔设置的电极单元，所述凸台设置在所述电极单元远离所述衬底基板一侧，所述栅绝缘层、所述沟道层、所述第二金属层均覆盖在所述凸台远离所述衬底基板一侧，所述凸台用于使所述反射电极凹凸不平。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述凸台的制作材料和所述第一金属层的制作材料不同。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述凸台的制作材料包括光刻胶，所述光刻胶包括可溶性聚四氟乙烯。
5.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：付文杰，陈世龙，郑立彬，夏俊伟，付于悦，李明旭，袁海江，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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