【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于液晶盒厚度检测，特别涉及基于低相干光mirau干涉的lcos液晶盒厚度全局检测装置。
技术介绍
1、硅基液晶(liquid crystal on silicon，lcos)是一种反射式液晶微型面板显示技术，具有光利用效率高、体积小、开口率高以及制造技术成熟等特点。但是现有的lcos封装中，lcos为单片制作，其液晶盒厚度一致性不容易保证，厚度容易存在偏差，容易出现产品不合格的现象。
2、传统的液晶盒厚度的检测方法，需要对液晶盒厚度的每个点进行单独检测，并不能对lcos液晶盒厚度进行全局检测，检测效率低下。
3、因此，专利技术基于低相干光mirau干涉的lcos液晶盒厚度全局检测装置来解决上述问题很有必要。
技术实现思路
1、针对上述问题，本专利技术提供了基于低相干光mirau干涉的lcos液晶盒厚度全局检测装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：基于低相干光mirau干涉的lcos液晶盒厚度全局检测装置，包括纳米定位台、成像系统、计算机、照明系统、mirau干涉物镜和硅基液晶盒，所述成像系统包括分光棱镜、成像透镜和面阵相机，所述照明系统包括低相干光源、聚光透镜和投影透镜，照明系统通过低相干光源连接计算机，低相干光源发出的光源通过聚光透镜聚合后，通过投影透镜投影到成像系统的分光棱镜上，分光棱镜将光照射到mirau干涉物镜内部，所述硅基液晶盒包括盖板玻璃、多个间隔子和硅基底板，在多个间隔子
3、进一步的，所述mirau干涉物镜包括第一物镜透镜、第二物镜透镜、第三物镜透镜、第一玻璃平板和第二玻璃平板，第一玻璃平板和第二玻璃平板均倾斜设置，且二者倾斜角度相同，且第一玻璃平板下表面和第二玻璃平板下表面均镀分光膜，光依次经过第一物镜透镜、第二物镜透镜、第三物镜透镜和第一玻璃平板后，一部分光通过第二玻璃平板对硅基液晶盒进行照射，经过硅基底板顶面或盖板玻璃底面反射后，在第二玻璃平板底面形成测试光，另一部分光经过第二玻璃平板底面反射到第一玻璃平板底面，经过第一玻璃平板底面再次反射后，在第二玻璃平板底面形成参考光，测试光和参考光在第二玻璃平板底面结合形成干涉光，干涉光通过mirau干涉物镜投影到成像系统的分光棱镜中。
4、进一步的，所述硅基底板顶面设置有多个间隔子，多个间隔子之间形成空层，且盖板玻璃对应放置在多个间隔子顶部。
5、进一步的，所述第二玻璃平板和盖板玻璃具有相同的厚度，且二者的材料相同。
6、进一步的，所述纳米定位台包括滑板和底板，且滑板设置为压电陶瓷，滑板通过控制器连接计算机，滑板处于底板顶部，且硅基底板对应放置在滑板顶面，所述底板顶部内凹面两侧均利用螺钉固定有滑轨，所述滑板底部两侧均固定有与滑轨滑动配合的滑块，所述底板利用控制器连接计算机，控制器工作，滑板利用滑块在底板的滑轨内侧滑动，滑动的滑板带动硅基液晶盒同步水平移动。
7、进一步的，所述硅基底板利用固定部件安装在滑板顶面，所述固定部件包括两个相对的夹架，所述夹架包括相对的第一架板和第二架板，第一架板和第二架板外侧面均固定有凸块，凸块中心处竖直贯穿有螺杆，螺杆底端螺旋插接在滑板顶面，凸块通过螺杆固定安装在滑板顶面。
8、进一步的，所述固定部件还包括两个横杆，横杆圆周外侧面与硅基底板侧边贴合，横杆对应贯穿两个夹架，横杆两端均螺旋套接有螺帽，通过螺帽与横杆的配合使得两个夹架配合夹持硅基底板。
9、进一步的，所述第一架板固定有插接第二架板的第一插杆，第二架板固定有插接第一架板的第二插杆，第一插杆和第二插杆表面均螺旋套接有限定环，顶部的限定环靠近第一架板，底部的限定环靠近第二架板，限定环表面套接有支架，所述第一架板以及第二架板外侧面均固定有侧板，两个侧板与两个支架一一对应，侧板内侧面固定有限定杆，支架外侧端套接于限定杆表面，限定杆表面套接有弹簧，弹簧一端连接支架，弹簧另一端连接限定杆内侧端。
10、进一步的，所述弹簧处于压缩状态，弹簧的弹力通过限定杆使得第一架板以及第二架板相互靠近。
11、本专利技术的技术效果和优点：
12、1、本专利技术通过测量盖板玻璃下表面的三维形貌数据和硅基底板上表面的三维形貌数据，并将两个面的三维形貌数据拟合成平面，通过计算两个拟合平面在垂直方向上的坐标差值计算得到硅基液晶盒的厚度h，能够对硅基液晶盒进行全局且全面的检测，且全局检测的速度快，精度高。
13、2、本专利技术通过架框与螺杆配合将硅基液晶盒限定在滑板顶部，避免硅基液晶盒在滑板顶面处于错位移动，提高硅基液晶盒在纳米定位台顶部的稳定性。
14、3、本专利技术通过弹簧的弹力使得第一架板和第二架板相互靠近，第一架板以及第二架板均拉动横杆靠近硅基底板，直至横杆圆周外侧面与硅基底板侧边贴合，方便架框适配不同外形的硅基液晶盒。
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1.基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：包括纳米定位台（13）、成像系统（401）、计算机（16）、照明系统（17）、Mirau干涉物镜（18）和硅基液晶盒（19），所述成像系统（401）包括分光棱镜（4）、成像透镜（14）和面阵相机（15），所述照明系统（17）包括低相干光源（1）、聚光透镜（2）和投影透镜（3），照明系统（17）通过低相干光源（1）连接计算机（16），低相干光源（1）发出的光源通过聚光透镜（2）聚合后，通过投影透镜（3）投影到成像系统（401）的分光棱镜（4）上，分光棱镜（4）将光照射到Mirau干涉物镜（18）内部，所述硅基液晶盒（19）包括盖板玻璃（10）、多个间隔子（11）和硅基底板（12），在多个间隔子（11）之间添加液晶，所述硅基液晶盒（19）对应放置在纳米定位台（13）顶面，纳米定位台（13）通过导线连接计算机（16），所述纳米定位台（13）内部设置有压电陶瓷，计算机（16）控制纳米定位台（13）工作，纳米定位台（13）通过压电陶瓷在垂直方向实现对硅基液晶盒（19）的纳米级定位，光经过Mirau干涉物镜（18）对
2.根据权利要求1所述的基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：所述Mirau干涉物镜（18）包括第一物镜透镜（5）、第二物镜透镜（6）、第三物镜透镜（7）、第一玻璃平板（8）和第二玻璃平板（9），第一玻璃平板（8）和第二玻璃平板（9）均倾斜设置，且二者倾斜角度相同，且第一玻璃平板（8）下表面和第二玻璃平板（9）下表面均镀分光膜，光依次经过第一物镜透镜（5）、第二物镜透镜（6）、第三物镜透镜（7）和第一玻璃平板（8）后，一部分光通过第二玻璃平板（9）对硅基液晶盒（19）进行照射，经过硅基底板（12）顶面或盖板玻璃（10）底面反射后，在第二玻璃平板（9）底面形成测试光，另一部分光经过第二玻璃平板（9）底面反射到第一玻璃平板（8）底面，经过第一玻璃平板（8）底面再次反射后，在第二玻璃平板（9）底面形成参考光，测试光和参考光在第二玻璃平板（9）底面结合形成干涉光，干涉光通过Mirau干涉物镜（18）投影到成像系统（401）的分光棱镜（4）中。
3.根据权利要求1所述的基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：所述硅基底板（12）顶面设置有多个间隔子（11），多个间隔子（11）之间形成空层，且盖板玻璃（10）对应放置在多个间隔子（11）顶部。
4.根据权利要求2所述的基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：所述第二玻璃平板（9）和盖板玻璃（10）具有相同的厚度，且二者的材料相同。
5.根据权利要求1所述的基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：所述固定部件还包括两个横杆（28），横杆（28）圆周外侧面与硅基底板（12）侧边贴合，横杆（28）对应贯穿两个夹架，横杆（28）两端均螺旋套接有螺帽，通过螺帽与横杆（28）的配合使得两个夹架配合夹持硅基底板（12）。
6.根据权利要求1所述的基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：所述第一架板（24）固定有插接第二架板（25）的第一插杆（29），第二架板（25）固定有插接第一架板（24）的第二插杆（30），第一插杆（29）和第二插杆（30）表面均螺旋套接有限定环（31），顶部的限定环（31）靠近第一架板（24），底部的限定环（31）靠近第二架板（25），限定环（31）表面套接有支架（32），所述第一架板（24）以及第二架板（25）外侧面均固定有侧板（33），两个侧板（33）与两个支架（32）一一对应，侧板（33）内侧面固定有限定杆（34），支架（32）外侧端套接于限定杆（34）表面，限定杆（34）表面套接有弹簧（35），弹簧（35）一端连接支架（32），弹簧（35）另一端连接限定杆（34）内侧端。
7.根据权利要求6所述的基于低相干光Mirau干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：所述弹簧（35）处于压缩状态，弹簧（35）的弹力通过限定杆（34）使得第一架板（24）以及第二架板（25）相互靠近。...
【技术特征摘要】
1.基于低相干光mirau干涉的lcos液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：包括纳米定位台（13）、成像系统（401）、计算机（16）、照明系统（17）、mirau干涉物镜（18）和硅基液晶盒（19），所述成像系统（401）包括分光棱镜（4）、成像透镜（14）和面阵相机（15），所述照明系统（17）包括低相干光源（1）、聚光透镜（2）和投影透镜（3），照明系统（17）通过低相干光源（1）连接计算机（16），低相干光源（1）发出的光源通过聚光透镜（2）聚合后，通过投影透镜（3）投影到成像系统（401）的分光棱镜（4）上，分光棱镜（4）将光照射到mirau干涉物镜（18）内部，所述硅基液晶盒（19）包括盖板玻璃（10）、多个间隔子（11）和硅基底板（12），在多个间隔子（11）之间添加液晶，所述硅基液晶盒（19）对应放置在纳米定位台（13）顶面，纳米定位台（13）通过导线连接计算机（16），所述纳米定位台（13）内部设置有压电陶瓷，计算机（16）控制纳米定位台（13）工作，纳米定位台（13）通过压电陶瓷在垂直方向实现对硅基液晶盒（19）的纳米级定位，光经过mirau干涉物镜（18）对硅基液晶盒（19）进行照射，经过硅基底板（12）顶面或盖板玻璃（10）底面反射的光返回到mirau干涉物镜（18）内部，在mirau干涉物镜（18）中形成干涉光后传输到分光棱镜（4）中，分光棱镜（4）将干涉光通过成像透镜（14）成像到面阵相机（15）内部，面阵相机（15）将干涉光的光强数据传输给计算机（16），计算机（16）根据干涉光的光强数据从而全局检测硅基液晶盒（19）的液晶厚度；
2.根据权利要求1所述的基于低相干光mirau干涉的lcos液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：所述mirau干涉物镜（18）包括第一物镜透镜（5）、第二物镜透镜（6）、第三物镜透镜（7）、第一玻璃平板（8）和第二玻璃平板（9），第一玻璃平板（8）和第二玻璃平板（9）均倾斜设置，且二者倾斜角度相同，且第一玻璃平板（8）下表面和第二玻璃平板（9）下表面均镀分光膜，光依次经过第一物镜透镜（5）、第二物镜透镜（6）、第三物镜透镜（7）和第一玻璃平板（8）后，一部分光通过第二玻璃平板（9）对硅基液晶盒（19）进行照射，经过硅基底板（12）顶面或盖板玻璃（10）底面反射后，在第二玻璃平板（9）底面形成测试...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖峰，王帅，
申请(专利权)人：贝耐特光学科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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