检漏装置制造方法及图纸

技术编号:43526127 阅读:7 留言:0更新日期:2024-12-03 12:13
本技术涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种检漏装置,用于对工艺腔体的内部阀件进行检漏,所述内部阀件与一进气管路连接并通过所述进气管路进行驱动,所述检漏装置包括氦质谱检漏仪、氦气源及氦气管路,所述氦气管路的进气口与所述氦气源连接,所述氦气管路的出气口与所述进气管路连接,所述氦质谱检漏仪与所述工艺腔体连通。通过启用所述氦气源,由所述氦气管路向所述内部阀件通入氦气,若所述氦质谱检漏仪检测到所述工艺腔体内存在氦气,则说明所述内部阀件存在泄露的情况。如此一来,能够极大地节约腔体漏点的检测时间,提高检测效率。此外,所述氦气管路只需对现有进气管路进行简单改造即可接入,操作方便,实用性强。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制造,尤其涉及一种检漏装置


技术介绍

1、目前半导体工艺腔体通常是利用氦质谱检漏仪进行检测,由于氦气是一种惰性气体,无色无味且非常稳定,当氦气从泄漏点逸出时,它能够快速扩散和传播,使得泄漏点周围的浓度升高。通过将氦气从工艺腔体外部注入该工艺腔体,并利用氦质谱检漏仪来检测腔体内是否存在氦气,若检测到腔体内存在氦气,则表示腔体存在漏点。

2、但是,这种检测方式只能用于检测工艺腔体是否存在外部漏点,无法检测工艺腔体是否存在内部漏点,且这种检测方式需使用者有充分经验,能大概判断腔体外部漏点的位置方能快速查漏,否则会造成重复检测,费时费力。由于工艺腔体的内部阀件通常需要外接气体管路进行驱动,当内部阀件存在泄露时,就会导致工艺腔体的内部气压升高,进而影响半导体制造工艺的正常进行。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种检漏装置,解决了现有氦气检漏方式只能用于检测工艺腔体是否存在外部漏点,无法检测工艺腔体是否存在内部漏点的问题。

2、为了达到上述目的,本技术提供了一种检漏装置,用于对工艺腔体的内部阀件进行检漏,所述内部阀件与一进气管路连接并通过所述进气管路进行驱动,所述检漏装置包括氦质谱检漏仪、氦气源及氦气管路,所述氦气管路的进气口与所述氦气源连接,所述氦气管路的出气口与所述进气管路连接,所述氦质谱检漏仪与所述工艺腔体连通。

3、可选的,所述氦气管路的出气口通过三通切换阀接入所述进气管路。

4、可选的,所述氦气管路上设置有第一截止阀。

5、可选的,所述进气管路上设置有第二截止阀。

6、可选的,所述内部阀件为多个,所述进气管路及所述氦气管路均为多条,所述进气管路与所述内部阀件对应连接,所述氦气管路与所述进气管路对应连接。

7、可选的,多条所述氦气管路共用一个氦气源。

8、可选的,所述氦气源为氦气钢瓶。

9、可选的,多条所述氦气管路共用一个氦质谱检漏仪。

10、可选的,所述氦质谱检漏仪包括通信连接的检测单元及报警单元,所述检测单元用于检测所述工艺腔体内是否存在氦气,所述报警单元用于在所述检测单元检测到所述氦气时发出报警。

11、可选的,所述报警单元为声光报警器。

12、在本技术提供的检漏装置中,正常情况下,所述氦气管路不作使用,处于闲置状态,通过所述进气管路通入洁净干燥的压缩气体来驱使所述内部阀件正常运行。当所述工艺腔体的漏率异常,需要判断所述工艺腔体的内部还是外部存在漏点时,则停止所述进气管路的进气,同时启用所述氦气源,通过所述氦气管路向所述内部阀件通入氦气,若所述氦质谱检漏仪检测到所述氦气的存在,则说明所述工艺腔体的内部阀件存在泄露的情况。如此一来,能够极大地节约漏点的检测时间,提高检测效率。此外,所述氦气管路只需对现有进气管路进行简单改造即可接入,操作方便,实用性强。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种检漏装置,用于对工艺腔体的内部阀件进行检漏,所述内部阀件与一进气管路连接并通过所述进气管路进行驱动,其特征在于,所述检漏装置包括氦质谱检漏仪、氦气源及氦气管路,所述氦气管路的进气口与所述氦气源连接,所述氦气管路的出气口与所述进气管路连接,所述氦质谱检漏仪与所述工艺腔体连通。

2.根据权利要求1所述的检漏装置,其特征在于,所述氦气管路的出气口通过三通切换阀接入所述进气管路。

3.根据权利要求1所述的检漏装置,其特征在于,所述氦气管路上设置有第一截止阀。

4.根据权利要求1或3所述的检漏装置,其特征在于,所述进气管路上设置有第二截止阀。

5.根据权利要求1所述的检漏装置,其特征在于,所述内部阀件为多个,所述进气管路及所述氦气管路均为多条,所述进气管路与所述内部阀件对应连接,所述氦气管路与所述进气管路对应连接。

6.根据权利要求5所述的检漏装置,其特征在于,多条所述氦气管路共用一个氦气源。

7.根据权利要求1或6所述的检漏装置,其特征在于,所述氦气源为氦气钢瓶。

8.根据权利要求5所述的检漏装置,其特征在于,多条所述氦气管路共用一个氦质谱检漏仪。

9.根据权利要求1所述的检漏装置,其特征在于,所述氦质谱检漏仪包括通信连接的检测单元及报警单元,所述检测单元用于检测所述工艺腔体内是否存在氦气,所述报警单元用于在所述检测单元检测到所述氦气时发出报警。

10.根据权利要求9所述的检漏装置,其特征在于,所述报警单元为声光报警器。

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【技术特征摘要】

1.一种检漏装置,用于对工艺腔体的内部阀件进行检漏,所述内部阀件与一进气管路连接并通过所述进气管路进行驱动,其特征在于,所述检漏装置包括氦质谱检漏仪、氦气源及氦气管路,所述氦气管路的进气口与所述氦气源连接,所述氦气管路的出气口与所述进气管路连接,所述氦质谱检漏仪与所述工艺腔体连通。

2.根据权利要求1所述的检漏装置,其特征在于,所述氦气管路的出气口通过三通切换阀接入所述进气管路。

3.根据权利要求1所述的检漏装置,其特征在于,所述氦气管路上设置有第一截止阀。

4.根据权利要求1或3所述的检漏装置,其特征在于,所述进气管路上设置有第二截止阀。

5.根据权利要求1所述的检漏装置,其特征在于,所述内部阀件为多个,所述进气管路...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵骏张德伟汤介峰荆泉陈力均
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司
类型:新型
国别省市:

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