【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容涉及一种蚀刻机。本申请要求于2022年12月22日提交的第10-2022-0182357号韩国专利申请和于2023年2月28日提交的第10-2023-0027291号韩国专利申请的优先权，通过引用将这些韩国专利申请的公开内容并入本文。
技术介绍
1、随着对诸如笔记本电脑、摄像机、移动电话等的便携式电子产品的需求的迅速增加以及机器人、电动车辆等的广泛使用，正在对能够反复再充电的高性能的二次电池进行了许多研究。
2、目前，市售的二次电池包括镍镉电池、镍氢电池、镍锌电池、锂二次电池等，并且在这些二次电池之中，锂二次电池具有很小的记忆效应或没有记忆效应，因此由于其可以在方便的时候进行再充电、自放电率非常低、以及能量密度高的优点，锂二次电池比镍基二次电池受到更多的关注。
3、锂二次电池主要包括分别用于正极活性材料和负极活性材料的锂基氧化物和碳材料。锂二次电池包括电极组件、以及将电极组件与电解质溶液一起容纳的密封封装或电池壳体，电极组件包括分别涂覆有正极活性材料和负极活性材料的正极板和负极板、以及插置在正极板与负极板之间的隔膜。
4、在制造电极时，可以执行将正极活性材料或负极活性材料涂覆在电极集流体上的工序。在这种情况下，当电极集流体的两个表面上的涂覆区域不同时，会导致电池单元的质量低下。此外，以浆料状态涂覆在电极集流体上的电极活性材料在干燥期间流动时所发生的滑动现象可降低电池单元的质量。
技术实现思路
1、技术问题
2、本公开内容被设
3、本公开内容旨在提供一种具有提高的电极集流体的电极活性材料涂覆质量的电极。
4、本公开内容旨在进一步提供一种在电极集流体的两个表面上具有相等的活性材料涂覆区域的电极。
5、本公开内容旨在进一步提供一种用于使用激光蚀刻涂覆的外周部分以使在电极集流体的两个表面上的活性材涂覆区域相等的蚀刻机。
6、本公开内容旨在进一步提供一种用于在激光蚀刻涂覆在电极集流体上的活性材料的外周部分时最小化对电极集流体的损坏的蚀刻机。
7、技术方案
8、为了解决上述问题，根据本公开内容的实施方式的蚀刻机包括：激光源；扫描仪，所述扫描仪配置为将来自所述激光源的光偏转到涂覆有电极活性材料的电极集流体；以及处理器，所述处理器配置为控制所述激光源或所述扫描仪中的至少一个，以保持入射在所述电极集流体上的光的脉冲间距恒定。
9、此外，当所述扫描仪的扫描速度增大或减小时，所述处理器可以停止所述激光源的输出。
10、此外，所述扫描仪可以包括：镜，所述镜配置为反射来自所述激光源的光；以及电机，所述电机配置为使所述镜旋转，其中当所述电机的角速度增大或减小时，所述处理器可以停止所述激光源的输出。
11、此外，随着所述扫描仪的扫描速度增大，所述处理器可以执行控制以减小所述激光源的触发信号间隔。
12、此外，所述扫描仪包括：镜，所述镜配置为反射来自所述激光源的光；以及电机，所述电机配置为使所述镜旋转，并且其中随着所述电机的角速度的增大，所述处理器可以执行控制以减小所述激光源的触发信号间隔。
13、此外，随着所述扫描仪的扫描速度减小，所述处理器可以执行控制以增大所述激光源的触发信号间隔。
14、此外，所述扫描仪可以包括：镜，所述镜配置为反射来自所述激光源的光；以及电机，所述电机配置为使所述镜旋转，并且其中随着所述电机的角速度减小，所述处理器可以执行控制以增大所述激光源的触发信号间隔。
15、此外，在所述扫描仪的扫描速度保持恒定时，所述处理器可以执行控制以保持所述激光源的触发信号间隔恒定。
16、此外，所述处理器可以控制所述激光源或所述扫描仪中的至少一个，以使沿入射在所述电极集流体上的光的轨迹的线能量密度保持恒定。
17、根据本公开内容的一方面的电极是通过根据本公开内容的蚀刻机蚀刻的电极。
18、根据本公开内容的一方面的电池单元包括通过根据本公开内容的蚀刻机蚀刻的电极。
19、根据本公开内容的一方面的电池模块包括通过根据本公开内容的蚀刻机蚀刻的电极。
20、根据本公开内容的一方面的电池组包括通过根据本公开内容的蚀刻机蚀刻的电极。
21、有益效果
22、根据本公开内容的至少一个实施方式，可以提供一种具有提高的电极集流体的电极活性材料涂覆质量的电极。
23、根据本公开内容的至少一个实施方式，可以提供一种在电极集流体的两个表面上具有相等的活性材料涂覆区域的电极。
24、根据本公开内容的至少一个实施方式，可以提供一种用于使用激光蚀刻涂覆的外周部分以使在电极集流体的两个表面上的活性材料涂覆区域相等的蚀刻机。
25、根据本公开内容的至少一个实施方式，可以提供一种用于在激光蚀刻涂覆在电极集流体上的活性材料的外周部分时最小化对电极集流体的损坏的蚀刻机。
26、本公开内容可以具有许多其他的效果，并且这些效果将在每个实施方式中进行描述，或者对于本领域技术人员可以容易地预期的效果，将省略相应的描述。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种蚀刻机，包括：
2.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中当所述扫描仪的扫描速度增大或减小时，所述处理器停止所述激光源的输出。
3.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中所述扫描仪包括：
4.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中随着所述扫描仪的扫描速度增大，所述处理器执行控制以减小所述激光源的触发信号间隔。
5.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中所述扫描仪包括：
6.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中随着所述扫描仪的扫描速度减小，所述处理器执行控制以增大所述激光源的触发信号间隔。
7.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中所述扫描仪包括：
8.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中在所述扫描仪的扫描速度保持恒定时，所述处理器执行控制以保持所述激光源的触发信号间隔恒定。
9.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中所述处理器控制所述激光源或所述扫描仪中的至少一个，以使沿入射在所述电极集流体上的光的轨迹的线能量密度保持恒定。
10.一种电极，所述电极通过根据权利要求1至9中的任意一项所述的蚀刻机蚀刻。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种蚀刻机，包括：
2.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中当所述扫描仪的扫描速度增大或减小时，所述处理器停止所述激光源的输出。
3.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中所述扫描仪包括：
4.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中随着所述扫描仪的扫描速度增大，所述处理器执行控制以减小所述激光源的触发信号间隔。
5.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中所述扫描仪包括：
6.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中随着所述扫描仪的扫描速度减小，所述处理器执行控制以增大所述激光源的触发信号间隔。
7.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中所述扫描仪包括：
8.根据权利要求1所述的蚀刻机，其中在所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：文鸿皙，李瑞埈，金台洙，李宪承，
申请(专利权)人：株式会社LG新能源，
类型：发明
国别省市：
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