【技术实现步骤摘要】
本申请涉及晶体生长，尤其是指一种晶体生长炉。
技术介绍
1、晶体生长炉是通过直拉法生产单晶硅的制造设备。主要由主机、加热电源和计算机控制系统三大部分组成。
2、主机部分主要由机架、炉体、水冷式阀座、晶体提升及旋转机构、坩埚提升及旋转机构、氩气系统、真空系统及自动炉压检测控制、水冷系统及多种安全保障装置等结构组成。为了解炉体内晶棒的生长状况，一般通过在炉体上设置ccd检测组件，并对炉体内的信息进行采样，但由于晶棒生长过程中可能存在遮挡、或者观测出现偏差的问题，亟待需要一种能够灵活调节ccd检测组件的装置。
技术实现思路
1、为了解决现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种晶体生长炉，其解决了ccd检测组件调节范围不足的问题。
2、为实现上述目的，本申请采用如下的技术方案：
3、一种晶体生长炉，其包括主炉室、炉盖、副炉室和提拉组件，主炉室围绕形成有反应室，炉盖设于反应室的上方，副炉室通过炉盖与主炉室连接，提拉组件设于副炉室的上方，用于提拉晶棒，晶体生长炉配置有至少一个用于观察反应室的ccd检测组件，炉盖上设有用于固定ccd检测组件的ccd支架，ccd支架包括：固定支架，固定支架装设于炉盖上；第一移动支架，第一移动支架装设于固定支架上，并沿第一方向延伸；旋转支架，旋转支架可转动地设置于第一移动支架上，且旋转支架具有沿第一方向相对第一移动支架移动的活动自由度，ccd检测组件通过旋转支架连接至第一移动支架。
4、进一步地，ccd支架还包括沿第二
5、进一步地，第一移动支架与第二移动支架的结构基本一致。
6、进一步地，旋转支架包括ccd固定部和ccd调节部，ccd固定部和ccd调节部之间活动连接，旋转支架通过ccd固定部连接至第一移动支架或第二移动支架，旋转支架通过ccd调节部与ccd检测组件固定连接。
7、进一步地，定义一个垂直于ccd固定部和ccd调节部的接触面的基准线，ccd调节部围绕基准线相对ccd固定部转动连接。
8、进一步地，ccd支架包括至少两个旋转支架，当相邻两个旋转支架连接时，任一旋转支架的ccd固定部连接至另一旋转支架的ccd调节部。
9、进一步地，第一移动支架包括第一导向部和第一牵引部，第一导向部沿第一方向延伸，第一牵引部与第一导向部活动连接，并具有沿第一方向相对第一导向部的移动的活动自由度，旋转支架或第二移动支架装设于第一牵引部上。
10、进一步地，第二移动支架包括第二导向部和第二牵引部，第二导向部沿第二方向延伸，第二牵引部与第二导向部活动连接，并具有沿第二方向相对第二导向部的移动的活动自由度，旋转支架装设于第二牵引部上。
11、进一步地，第一导向部包括第一方向延伸的第一丝杆结构和第一限位导轨，第一牵引部与第一丝杆结构螺纹连接，且第一牵引部的至少部分设于第一限位导轨上。
12、进一步地，ccd支架还包括避让支架，避让支架能够沿任一方向延伸，避让支架的一端连接至第一移动支架，避让支架具有沿第一方向相对第一移动支架移动的活动自由度，避让支架的另一端与旋转支架固定连接。
13、通过设置集成于固定支架上的第一移动支架和旋转支架，且ccd检测组件设于旋转支架上，以使ccd检测组件具有多个方向的活动自由度，提升ccd检测组件的检测范围。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种晶体生长炉，包括：
2.根据权利要求1所述的晶体生长炉，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的晶体生长炉，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的晶体生长炉，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的晶体生长炉，其特征在于，
6.根据权利要求4所述的晶体生长炉，其特征在于，
7.根据权利要求2所述的晶体生长炉，其特征在于，
8.根据权利要求2所述的晶体生长炉，其特征在于，
9.根据权利要求7所述的晶体生长炉，其特征在于，
10.根据权利要求1所述的晶体生长炉，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种晶体生长炉，包括：
2.根据权利要求1所述的晶体生长炉，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的晶体生长炉，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的晶体生长炉，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的晶体生长炉，其特征在于，
6.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹建伟，朱亮，倪军夫，梁晋辉，冯贤剑，阮文星，
申请(专利权)人：浙江晶盛机电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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