一种转角同轴光源制造技术

本技术提供一种转角同轴光源，包括壳体、光源、分光镜及吸光层，所述壳体包括出光口及凹槽，所述吸光层设于所述凹槽内。本技术提供的所述转角同轴光源，通过在所述壳体相对靠近所述光源及所述分光镜一侧设有所述凹槽，确保所述吸光层能够将所述分光镜反射回的光线吸收，且能阻挡所述光源直接照射至所述吸光层，以此确保所述光源不会因内部反射影响成像，进而提高成像的清晰度。

【技术实现步骤摘要】

【】本技术涉及光源，尤其涉及一种转角同轴光源。

技术介绍

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技术介绍

1、同轴光源的原理主要是通过半反半透的分光镜将光源发射出的光束分成两部分，一部分直接透过分光镜到达物体表面，另一部分被分光镜反射。在实际使用过程中，透光分光镜到达物体表面的部分经物体表面反光，再经分光镜反射至镜头，从而成像。但是，现有技术中对另一部分被分光镜反射的部分，会因为反射光较强的原因，导致成像的清晰度较差。

技术实现思路

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技术实现思路

1、目前现有技术存在成像清晰度差的技术问题，本技术提供一种用于解决上述问题的一种转角同轴光源。

2、本技术提供一种转角同轴光源，包括壳体、光源、分光镜及吸光层，所述壳体包括出光口及凹槽，所述出光口设于所述壳体一侧，相对所述出光口平行设于所述壳体内，所述分光镜设于所述出光口及所述光源之间，且分别与所述出光口及所述光源呈45°角设置，所述凹槽设于所述壳体相对靠近所述光源及所述分光镜一侧，且与所述出光口相对所述分光镜间隔开，所述吸光层设于所述凹槽内。

3、与现有技术相比，本技术提供的所述转角同轴光源，通过在所述壳体相对靠近所述光源及所述分光镜一侧设有所述凹槽，可以确保所述吸光层能够将所述分光镜反射回的光线吸收，且能阻挡所述光源直接照射至所述吸光层，以此确保所述光源不会因内部反射影响成像，进而提高成像的清晰度。

【技术保护点】

1.一种转角同轴光源，包括：

2.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，还包括漫射板，所述漫射板设于所述光源及所述分光镜之间。

3.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，所述光源为LED发光板。

4.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，所述吸光层为吸光布。

5.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，还包括增透镜，所述增透镜设于所述壳体相对靠近所述出光口及所述分光镜一侧，且与所述吸光层相对设置。

6.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，所述凹槽包括：

7.根据权利要求6所述的一种转角同轴光源，其特征在于，所述凹槽的所述第一侧壁及所述第二侧壁为平面，所述第一侧壁及所述第二侧壁垂直于所述底壁设置或与所述底壁呈锐角设置。

8.根据权利要求6所述的一种转角同轴光源，其特征在于，所述凹槽的所述第一侧壁及所述第二侧壁为弧面，所述开口尺寸小于所述底壁。

【技术特征摘要】

1.一种转角同轴光源，包括：

2.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，还包括漫射板，所述漫射板设于所述光源及所述分光镜之间。

3.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，所述光源为led发光板。

4.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，所述吸光层为吸光布。

5.根据权利要求1所述的一种转角同轴光源，其特征在于，还包括增透镜，所述增透镜设于所述壳体相对靠近所述出...

【专利技术属性】
技术研发人员：辛嘉永，陈志忠，何声杰，
申请(专利权)人：深圳市玻尔智造科技有限公司，
类型：新型
国别省市：