【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于寡片石墨烯制备，具体的说，涉及一种高容量寡片石墨烯及其低温制备方法。
技术介绍
1、石墨烯是一种由单层碳原子以sp2杂化轨道组成六角形呈蜂巢晶格的二维碳纳米材料，具有极高的比表面积，当石墨烯的片层由单层、双层或几层堆叠而成时，即为一种高容量寡片石墨烯，该种高容量寡片石墨烯具有高导电性、高强度和韧性、超大比表面积、优异热传导性、良好的化学稳定性、高透光性等特点，在电子行业、新能源领域、材料学领域、生物医药领域以及其他领域具有广泛的应用场景，高容量寡片石墨烯的高比表面积意味着它可以提供更多的活性位点，从而增加与电解质的接触面积，提高储能器件的容量和性能。
2、所谓的比表面积是指单位质量石墨烯所具有的表面积，由于石墨烯是由单层碳原子组成的二维材料，其厚度仅为一个原子层，因此即使质量很小，也能拥有巨大的表面积；但是，实际制备的石墨烯可能由于缺陷、杂质、层数等因素而导致其比表面积与理论值有所偏差，需要根据具体情况对石墨烯的比表面积进行准确测量和评估。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题在于提供一种高容量寡片石墨烯及其低温制备方法，在低温条件下制得的寡片石墨烯具有高比表面积的优良性能。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：
3、一种制备上述高容量寡片石墨烯的低温制备方法，按如下步骤进行：
4、s1：将5±0.5g石墨粉和1±0.5g硝酸钠与150±10ml混合酸均匀混合，在冰水浴条件下搅拌，在搅拌的过程中缓
5、s2：将混合溶液转移至35±5℃的恒温水中进行水浴，反应时间为30±5min；在混合溶液中逐步加入92±5ml的去离子水，而后将混合溶液加热至98±2℃继续反应3±0.5h，然后将混合溶液从水浴中取出；
6、s3：继续在步骤s2处理完成的混合溶液中加入30ml去离子水稀释，并用30±2ml的h2o2溶液中和混合溶液中未反应的氧化剂，对混合溶液进行离心过滤，得到溶液中的沉淀物；
7、s4：采用盐酸在抽滤条件下洗涤步骤s3得到的沉淀物2次，然后用蒸馏水洗涤沉淀物至ph值为5-7；
8、s5：将洗涤后的沉淀物放在离心机中进行离心处理，分离出沉淀物制得寡片石墨烯生产原料;
9、s6：然后将寡片石墨烯生产原料置于真空度0.01pa-10kpa的环境中，而后以1-5℃/min的升温速率升温到-60～-80℃进行高真空冷冻处理，维持恒温48-72h冷冻干燥，得到寡片石墨烯材料。
10、以下是本专利技术对上述技术方案的进一步优化：
11、步骤s1中，混合酸的质量浓度为98％。
12、进一步优化：步骤s1中，混合酸为浓硫酸、硝酸、磷酸混合液，按容量计所述浓硫酸的用量为120ml、硝酸的用量为10-20ml、磷酸的用量为10-20ml。
13、进一步优化：步骤s1中，氧化剂采用kmno4，所述kmno4的用量为5±0.5g。
14、进一步优化：步骤s3中，h2o2溶液的质量浓度为30％。
15、进一步优化：步骤s3中，质量浓度为30％的h2o2溶液制备工序为：量取质量浓度为100％的h2o2溶液3ml，并加入27ml的水经稀释后得到质量浓度为30％的h2o2溶液。
16、进一步优化：步骤s4中，盐酸的浓度为0.1mol/l。
17、进一步优化：步骤s5中，离心机的离心转速为8000±500r/min，离心处理时间为5-10min。
18、本专利技术还提供一种采用上述低温制备方法制备的高容量寡片石墨烯，具有如下物理参数：寡片石墨烯片层厚度为0.35-20nm，比表面积为200-800m2/g，电化学比容量为140-180f/g；电导率＞104s/m。
19、本专利技术采用上述技术方案，构思巧妙，在低温条件下制备寡片石墨烯，工艺简单，操作成本较低，降低了对生产设备的要求，整个反应过程稳定可控，生产出的寡片石墨烯性质更稳定，通过该方法制得的寡片石墨烯的比表面积在200-800m2/g，该特性使寡片石墨烯在表面化学、吸附、储能材料、气体传感器以及环保和海水淡化等领域具有极大的应用潜力，是一种具有市场前景且应用广泛的材料。
20、下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。
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1.一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：按如下步骤进行：
2.根据权利要求1所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤S1中，混合酸的质量浓度为98％。
3.根据权利要求2所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤S1中，混合酸为浓硫酸、硝酸、磷酸混合液，按容量计所述浓硫酸的用量为120mL、硝酸的用量为10-20mL、磷酸的用量为10-20mL。
4.根据权利要求3所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤S1中，氧化剂采用KMnO4，所述KMnO4的用量为5±0.5g。
5.根据权利要求4所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤S3中，H2O2溶液的质量浓度为30％。
6.根据权利要求5所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤S3中，质量浓度为30％的H2O2溶液制备工序为：量取质量浓度为100％的H2O2溶液3mL，并加入27mL的水经稀释后得到质量浓度为30％的H2O2溶液。
7.根据权利要求6所述一种高容量寡片石墨
8.根据权利要求7所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤S5中，离心机的离心转速为8000±500r/min，离心处理时间为5-10min。
9.一种采用权利要求1-8任一项低温制备方法制备的高容量寡片石墨烯，其特征在于：该寡片石墨烯具有如下物理参数：寡片石墨烯片层厚度为0.35-20nm，比表面积为200-800m2/g，电化学比容量为140-180F/g；电导率＞104S/m。
...【技术特征摘要】
1.一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：按如下步骤进行：
2.根据权利要求1所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤s1中，混合酸的质量浓度为98％。
3.根据权利要求2所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤s1中，混合酸为浓硫酸、硝酸、磷酸混合液，按容量计所述浓硫酸的用量为120ml、硝酸的用量为10-20ml、磷酸的用量为10-20ml。
4.根据权利要求3所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤s1中，氧化剂采用kmno4，所述kmno4的用量为5±0.5g。
5.根据权利要求4所述一种高容量寡片石墨烯的低温制备方法，其特征在于：步骤s3中，h2o2溶液的质量浓度为30％。
6.根据权利要求5所述一种高容量寡片石...
【专利技术属性】
技术研发人员：叶欣，赵波，王存国，王杰，范鹏程，苏成翔，刘雪环，
申请(专利权)人：昌邑森汇新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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