【技术实现步骤摘要】
本公开涉及半导体加工，尤其涉及洁净装置、传输设备、检测装置及工艺平台。
技术介绍
1、晶圆传输设备是通过机械手将晶圆传输至反应腔室或检测装置的模块，是用于制备晶圆的工艺平台中必不可少的模块。然而，晶圆在传输过程中存在被污染的风险。
技术实现思路
1、本公开提供了一种洁净装置、传输设备、检测装置及工艺平台。
2、根据本公开的一方面，提供了一种洁净装置，包括：气体进入件，设置有第一气孔，用于与进气管路连接；气体收集件，设置有第二气孔，用于与收集管路连接；其中，在所述气体进入件处于与所述气体收集件连接的状态时，所述气体进入件与所述气体收集件围成收容空间，所述收容空间用于容纳工件；所述收容空间分别与所述第一气孔和第二气孔连通，以使从所述第一气孔进入收容空间的气体对所述工件进行吹扫后，能够从第二气孔进入气体收集件，并通过所述气体收集件排出至所述洁净装置外；所述气体收集件、所述气体进入件中的至少一个设置有安装部，所述安装部用于将所述洁净装置固定在预设安装位。
3、在一些实施例中，在所述气体进入件处于与所述气体收集件连接的状态时，沿所述工件的厚度方向，所述气体进入件与气体收集件对接。
4、在一些实施例中，所述气体收集件朝向所述收容空间的表面具有承载区域及外围区域，所述承载区域用于放置所述工件，所述外围区域位于所述承载区域远离所述洁净装置的垂向中心线的外侧；所述第二气孔位于所述外围区域；所述气体进入件朝向所述收容空间的表面具有与所述承载区域对应的第一区域，所述第
5、在一些实施例中，所述气体进入件包括：第一板体及第二板体，所述第一板体位于所述第二板体远离所述收容空间的一侧，所述第一板体与第二本体连接以围成第一空间；所述第二板体设置有所述第一气孔，且所述第一气孔与所述第一空间连通。
6、在一些实施例中，所述第一板体或所述第二板体设置有多个第一导流槽，多个所述第一导流槽以所述洁净装置的垂向中心线为中心呈放射状分布，至少一个所述第一导流槽用于引导进入所述第一空间的气体沿远离洁净装置的垂向中心线的方向流动。
7、在一些实施例中，所述第一导流槽包括：第一类槽和第二类槽，所述第一类槽的宽度小于所述第二类槽的宽度；所述气体进入件用于在驱动力作用下进行旋转，以使所述第二类槽与所述工件的预设区域对应。
8、在一些实施例中，所述气体收集件包括：第三板体及第四板体，所述第四板体位于所述第三板体远离所述收容空间的一侧，所述第四板体与第三本体连接以围成第二空间；所述第三板体设置有所述第二气孔，且所述第二气孔与所述第二空间连通。
9、在一些实施例中，所述第三板体或所述第四板体设置有多个第二导流槽，多个所述第二导流槽以所述洁净装置的垂向中心线为中心呈放射状分布，至少一个所述第二导流槽用于引导进入所述第二空间的气体沿朝向洁净装置的垂向中心线的方向流动。
10、在一些实施例中，所述气体收集件与所述安装部连接，所述气体收集件还设置有电极，所述电极用于产生与所述气体进入件的对应位置极性相反的电荷，以通过静电吸附力将所述气体进入件与所述气体收集件固定连接。
11、根据本公开的另一方面，提供了一种传输设备，包括：机械手以及如前述任一项所述的洁净装置；其中，所述机械手与所述洁净装置中的安装部连接。
12、根据本公开的另一方面，提供了一种检测设备，包括：检测装置以及如前述任一项所述的洁净装置；其中，所述检测装置与所述洁净装置中的安装部连接。
13、根据本公开的另一方面，提供了一种工艺平台，包括：腔室、机械手、检测装置以及如前述任一项所述的洁净装置；其中，所述机械手及检测装置中的至少一个与所述洁净装置中的安装部连接。
14、在一些实施例中，所述工艺平台，还包括：驱动机构，所述驱动机构与所述洁净装置中的所述气体进入件连接，以向气体进入件提供驱动力，使所述气体进入件能够在所述驱动力作用下进行旋转。
15、本实施例提供的洁净装置，确保了工件在传输过程中能够被气体吹扫，降低甚至避免了工件在传输过程中被污染的风险，且利于节省气体资源。
16、应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
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1.一种洁净装置，包括：
2.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，所述气体收集件朝向所述收容空间的表面具有承载区域及外围区域，所述承载区域用于放置所述工件，所述外围区域位于所述承载区域远离所述洁净装置的垂向中心线的外侧；所述第二气孔位于所述外围区域；
3.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，所述气体进入件包括：第一板体及第二板体，所述第一板体位于所述第二板体远离所述收容空间的一侧，所述第一板体与第二本体连接以围成第一空间；所述第二板体设置有所述第一气孔，且所述第一气孔与所述第一空间连通。
4.根据权利要求3所述的洁净装置，其中，所述第一板体或所述第二板体设置有多个第一导流槽，多个所述第一导流槽以所述洁净装置的垂向中心线为中心呈放射状分布，至少一个所述第一导流槽用于引导进入所述第一空间的气体沿远离洁净装置的垂向中心线的方向流动。
5.根据权利要求4所述的洁净装置，其中，所述第一导流槽包括：第一类槽和第二类槽，所述第一类槽的宽度小于所述第二类槽的宽度；
6.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，所述气体收集件包括：第三板体及第
7.根据权利要求6所述的洁净装置，其中，所述第三板体或所述第四板体设置有多个第二导流槽，多个所述第二导流槽以所述洁净装置的垂向中心线为中心呈放射状分布，至少一个所述第二导流槽用于引导进入所述第二空间的气体沿朝向洁净装置的垂向中心线的方向流动。
8.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，在所述气体进入件处于与所述气体收集件连接的状态时，沿所述工件的厚度方向，所述气体进入件与气体收集件对接。
9.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，所述气体收集件与所述安装部连接，所述气体收集件还设置有电极，所述电极用于产生与所述气体进入件的对应位置极性相反的电荷，以通过静电吸附力将所述气体进入件与所述气体收集件固定连接。
10.一种传输设备，包括：机械手以及如权利要求1至9任一项所述的洁净装置；其中，所述机械手与所述洁净装置中的安装部连接。
11.一种检测设备，包括：检测装置以及如权利要求1至9任一项所述的洁净装置；其中，所述检测装置与所述洁净装置中的安装部连接。
12.一种工艺平台，包括：腔室、机械手、检测装置以及如权利要求1至9任一项所述的洁净装置；其中，所述机械手及检测装置中的至少一个与所述洁净装置中的安装部连接。
13.根据权利要求12所述的工艺平台，还包括：驱动机构，所述驱动机构与所述洁净装置中的所述气体进入件连接，以向所述气体进入件提供驱动力，使所述气体进入件能够在所述驱动力作用下进行旋转。
...【技术特征摘要】
1.一种洁净装置，包括：
2.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，所述气体收集件朝向所述收容空间的表面具有承载区域及外围区域，所述承载区域用于放置所述工件，所述外围区域位于所述承载区域远离所述洁净装置的垂向中心线的外侧；所述第二气孔位于所述外围区域；
3.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，所述气体进入件包括：第一板体及第二板体，所述第一板体位于所述第二板体远离所述收容空间的一侧，所述第一板体与第二本体连接以围成第一空间；所述第二板体设置有所述第一气孔，且所述第一气孔与所述第一空间连通。
4.根据权利要求3所述的洁净装置，其中，所述第一板体或所述第二板体设置有多个第一导流槽，多个所述第一导流槽以所述洁净装置的垂向中心线为中心呈放射状分布，至少一个所述第一导流槽用于引导进入所述第一空间的气体沿远离洁净装置的垂向中心线的方向流动。
5.根据权利要求4所述的洁净装置，其中，所述第一导流槽包括：第一类槽和第二类槽，所述第一类槽的宽度小于所述第二类槽的宽度；
6.根据权利要求1所述的洁净装置，其中，所述气体收集件包括：第三板体及第四板体，所述第四板体位于所述第三板体远离所述收容空间的一侧，所述第四板体与第三本体连接以围成第二空间；所述第三板体设置有所述第二气孔，且所述第二气孔与所述第二空间连通。
7.根据权利要求6所述的洁净装置，其中，所述第三...
【专利技术属性】
技术研发人员：李海卫，李莉，冀建民，么曼实，王春雷，
申请(专利权)人：北京屹唐半导体科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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