【技术实现步骤摘要】
本公开涉及一种影像感测器与其制作方法。
技术介绍
1、影像感测装置已经广泛地应用于各种各样的影像获取设备，诸如数码摄影机、数码相机等等。一般而言，固态影像感测元件，例如电荷耦合元件(charge-coupled device，ccd)感测器或是互补金属氧化物半导体(complementary metal-oxide semiconductor，cmos)感测器，为具有光电转换器，如光电二极管的感测器，用以将光线转化为电荷输出。光电二极管为形成在半导体基板，如硅芯片上。由光电二极管所产生的对应于光子的电信号，可进一步由ccd或是cmos读取电路所处理。
技术实现思路
1、本公开的一实施方式提供了一种影像感测器，包含第一彩色滤光器、第一格栅，与第一微透镜。第一彩色滤光器设置在第一光电二极管上。第一格栅包含第一主体部分与从第一主体部分延伸的第一遮蔽部分，第一主体部分围绕第一彩色滤光器，第一遮蔽部分部分覆盖第一彩色滤光器，使得第一遮蔽部分定义出第一空腔设置在第一彩色滤光器上。第一微透镜设置在第一彩色滤光器以及第一格栅上，其中第一彩色滤光器或是第一微透镜具有第一凸块，第一凸块填充于第一空腔中，其中第一凸块的宽度与像素尺寸的比值介于0.1至0.8之间。
2、在一些实施例中，第一彩色滤光器的第一凸块的顶表面与第一格栅的第一遮蔽部分的顶表面共平面。
3、在一些实施例中，第一微透镜的第一凸块的底表面与第一格栅的第一遮蔽部分的底表面共平面。
4、在一些实施例中，影像
5、在一些实施例中，第二凸块的厚度不同于第一凸块的厚度。
6、在一些实施例中，第一凸块的厚度小于第一格栅的第一主体部分的高度，且第二凸块的厚度小于第二格栅的第二主体部分的高度。
7、在一些实施例中，第二凸块的形状不同于第一凸块的形状，第一凸块与第二凸块的形状包含矩形、圆形、多边形或是菱形。
8、在一些实施例中，第一光电二极管具有第一中线，第二光电二极管具有第二中线，第一凸块具有第三中线，第二凸块具有第四中线，且第一中线与第三中线之间的第一距离不同于第二中线与第四中线之间的第二距离。
9、在一些实施例中，第一距离与像素尺寸的比值介于0.1至0.5之间。
10、在一些实施例中，第一距离与第二距离的比值介于0.1至0.9之间。
11、在一些实施例中，第一微透镜具有第五中线，且第一距离小于第一中线与第五中线之间的第三距离。
12、在一些实施例中，第二微透镜具有第六中线，且第三距离不同于第二中线与第六中线之间的第四距离。
13、在一些实施例中，第三距离与第四距离的比值介于0.1至0.9之间。
14、根据本公开的一实施方式，提供一种影像感测器的制作方法，包含：在光电二极管上形成彩色滤光器；在彩色滤光器上形成格栅材料层；蚀刻格栅材料层以形成格栅，其中格栅包含主体部分以及延伸自主体部分的遮蔽部分，主体部分围绕彩色滤光器，而遮蔽部分覆盖彩色滤光器的一边缘；以及在彩色滤光器与格栅上形成微透镜。
15、在一些实施例中，影像感测器的制作方法还包含：蚀刻彩色滤光器，使得彩色滤光器具有凸块被遮蔽部分所围绕，其中彩色滤光器的凸块的宽度与像素尺寸的比值介于0.1至0.8之间。
16、在一些实施例中，蚀刻格栅材料层以形成格栅的步骤包含形成由遮蔽部分所定义的空腔，在彩色滤光器与格栅上形成微透镜的步骤包含使微透镜具有凸块填充空腔，其中微透镜的凸块的宽度与像素尺寸的比值介于0.1至0.8之间。
17、在一些实施例中，其中在彩色滤光器上形成格栅材料层的步骤包含：在包含光电二极管的基板上形成阻障结构；在彩色滤光器与阻障结构上形成透明材料；以及蚀刻透明材料以形成遮蔽部分。
18、在一些实施例中，其中在彩色滤光器上形成格栅材料层的步骤包含：在包含光电二极管的基板上形成阻障结构；在彩色滤光器与阻障结构上形成间隔材料；蚀刻间隔材料以形成间隔层，其中间隔层的高度小于彩色滤光器的高度；在彩色滤光器与间隔层上形成透明材料；以及蚀刻透明材料以形成遮蔽部分。
19、在一些实施例中，彩色滤光器的材料为无机材料，在光电二极管上形成彩色滤光器的步骤包含：在光电二极管上沉积彩色滤光材料；平坦化彩色滤光材料；以及蚀刻彩色滤光材料。
20、在一些实施例中，彩色滤光器的材料为有机材料，在光电二极管上形成彩色滤光器的步骤包含：在光电二极管上沉积彩色滤光材料；曝光彩色滤光材料；以及显影彩色滤光材料。
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1.一种影像感测器，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的影像感测器，其中该第一彩色滤光器的该第一凸块的一顶表面与该第一格栅的该第一遮蔽部分的一顶表面共平面，或者，该第一微透镜的该第一凸块的一底表面与该第一格栅的该第一遮蔽部分的一底表面共平面。
3.如权利要求1所述的影像感测器，还包含：
4.如权利要求3所述的影像感测器，其中该第二凸块的厚度不同于该第一凸块的厚度，该第一凸块的厚度小于该第一格栅的该第一主体部分的高度，且该第二凸块的厚度小于该第二格栅的该第二主体部分的高度。
5.如权利要求3所述的影像感测器，其中该第二凸块的形状不同于该第一凸块的形状，该第一凸块与该第二凸块的形状包含矩形、圆形、多边形或是菱形。
6.如权利要求3所述的影像感测器，其中该第一光电二极管具有一第一中线，该第二光电二极管具有一第二中线，该第一凸块具有一第三中线，该第二凸块具有一第四中线，且该第一中线与该第三中线之间的一第一距离不同于该第二中线与该第四中线之间的一第二距离，该第一距离与该像素尺寸的比值介于0.1至0.5之间，该第一距离与该第二
7.如权利要求6所述的影像感测器，其中该第一微透镜具有一第五中线，且该第一距离小于该第一中线与该第五中线之间的一第三距离，该第二微透镜具有一第六中线，且该第三距离不同于该第二中线与该第六中线之间的一第四距离，该第三距离与该第四距离的比值介于0.1至0.9之间。
8.一种影像感测器的制作方法，其特征在于，包含：
9.如权利要求8所述的影像感测器的制作方法，其中该彩色滤光器的材料为无机材料，在该光电二极管上形成该彩色滤光器的步骤包含：
10.如权利要求8所述的影像感测器的制作方法，其中蚀刻该格栅材料层以形成该格栅的步骤包含形成由该遮蔽部分所定义的一空腔，在该彩色滤光器与该格栅上形成该微透镜的步骤包含使该微透镜具有一凸块填充该空腔，其中该微透镜的该凸块的宽度与一像素尺寸的比值介于0.1至0.8之间。
11.如权利要求8所述的影像感测器的制作方法，其中在该彩色滤光器上形成该格栅材料层的步骤包含：
12.如权利要求8所述的影像感测器的制作方法，其中在该彩色滤光器上形成该格栅材料层的步骤包含：
13.如权利要求8所述的影像感测器的制作方法，其中该彩色滤光器的材料为有机材料，在该光电二极管上形成该彩色滤光器的步骤包含：
...【技术特征摘要】
1.一种影像感测器，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的影像感测器，其中该第一彩色滤光器的该第一凸块的一顶表面与该第一格栅的该第一遮蔽部分的一顶表面共平面，或者，该第一微透镜的该第一凸块的一底表面与该第一格栅的该第一遮蔽部分的一底表面共平面。
3.如权利要求1所述的影像感测器，还包含：
4.如权利要求3所述的影像感测器，其中该第二凸块的厚度不同于该第一凸块的厚度，该第一凸块的厚度小于该第一格栅的该第一主体部分的高度，且该第二凸块的厚度小于该第二格栅的该第二主体部分的高度。
5.如权利要求3所述的影像感测器，其中该第二凸块的形状不同于该第一凸块的形状，该第一凸块与该第二凸块的形状包含矩形、圆形、多边形或是菱形。
6.如权利要求3所述的影像感测器，其中该第一光电二极管具有一第一中线，该第二光电二极管具有一第二中线，该第一凸块具有一第三中线，该第二凸块具有一第四中线，且该第一中线与该第三中线之间的一第一距离不同于该第二中线与该第四中线之间的一第二距离，该第一距离与该像素尺寸的比值介于0.1至0.5之间，该第一距离与该第二距离的比值介于0.1至0.9之间。
7.如权利要求6所述的影像...
【专利技术属性】
技术研发人员：林正轩，黄光宇，涂宗儒，陈皇任，吴翰林，
申请(专利权)人：采钰科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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