【技术实现步骤摘要】
本公开总体涉及设备前端模块。更具体地，本公开的示例涉及设备前端模块的空气进气端口。
技术介绍
1、在半导体领域中，提供前开式晶圆传送盒(foup)来保持衬底。衬底转移机器人将foup中的衬底转移到设备前端模块(efem)。期望防止衬底被污染。通常，清洁空气可以从空气进气端口引入到efem的内部，以便将衬底保持在可接受的环境中。
2、由于空气进气端口的几何形状，可能会出现清洁气体没有扩散到efem中的情况。因此，需要一种能够有效且高效地将清洁气体扩散到efem中的系统。
3、本部分中阐述的任何讨论，包括对问题和解决方案的讨论，已经包括在本公开中，仅仅是为了提供本公开的背景，并且不应被认为是承认任何或所有的讨论在本专利技术被做出时是已知的，或者构成现有技术。
技术实现思路
1、提供本
技术实现思路
是为了以简化的形式介绍一些概念。这些概念在以下公开的示例实施例的详细描述中被进一步详细描述。本
技术实现思路
不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。
2、根据本公开的示例性实施例，提供了一种衬底处理装置。该装置可以包括：设备前端模块(efem)，其包括由前壁、后壁、前壁和后壁之间的第一和第二侧壁、顶壁和底壁界定的壳体；装载端口，其连接到前壁并且配置成接收前开式晶圆传送盒(foup)；装载锁室，其连接到后壁并且配置成装载或卸载衬底；前端机器人，其设置在壳体中并且配置成在foup和装载锁之间转移衬底；风扇过滤单元(ff
3、在各种实施例中，空气入口的表面积可以在0.24m2和0.56m2之间。
4、在各种实施例中，空气出口的表面积可以在0.1m2和0.32m2之间。
5、在各种实施例中，衬底处理装置可以还包括设置在空气进气端口中的翅片。
6、在各种实施例中，空气进气端口可以还包括顶部和底部，顶部包括用于引入空气的空气入口，底部包括用于向ffu提供空气的空气出口。
7、在各种实施例中，顶部可以具有矩形立方体形状。
8、在各种实施例中，底部可以具有四边形平截头体(截顶四棱锥体)形状。
9、在各种实施例中，底部的第一表面积可以大于底部的第二表面积。
10、在各种实施例中，顶部的表面积可以大于底部的第一表面积。
11、在各种实施例中，衬底处理装置可以还包括沿着空气进气端口设置的配电箱。
12、在各种实施例中，配电箱可以沿着底部设置。
13、在各种实施例中，衬底处理装置可以还包括：用于处理衬底的反应室；附接到反应室的衬底搬运室；该衬底搬运室附接到装载锁室。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种衬底处理装置，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述空气入口的表面积在0.24m2和0.56m2之间。
3.根据权利要求1和2中任一项所述的装置，其中，所述空气出口的表面积在0.1m2和0.32m2之间。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，还包括设置在所述空气进气端口中的翅片。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，所述空气进气端口还包括顶部和底部，所述顶部包括用于引入空气的所述空气入口，所述底部包括用于向所述FFU提供空气的所述空气出口。
6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述顶部为矩形立方体形状。
7.根据权利要求5和6中任一项所述的装置，其中，所述底部具有四边形平截头体(截顶四棱锥体)形状。
8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述底部的第一表面积大于所述底部的第二表面积。
9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述顶部的表面积大于所述底部的第一表面积。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的装置，还包括沿着所述空气进气端口设置的配电箱。
11.根据权利要求8和9中任一项所述的装置，其中，所述配电箱沿着所述底部设置。
12.根据权利要求1-11中任一项所述的装置，还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种衬底处理装置，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述空气入口的表面积在0.24m2和0.56m2之间。
3.根据权利要求1和2中任一项所述的装置，其中，所述空气出口的表面积在0.1m2和0.32m2之间。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，还包括设置在所述空气进气端口中的翅片。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，所述空气进气端口还包括顶部和底部，所述顶部包括用于引入空气的所述空气入口，所述底部包括用于向所述ffu提供空气的所述空气出口。
6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述顶...
【专利技术属性】
技术研发人员：H·T·林，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：
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