【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃抛光材料制备，特别是一种改善tft和ito玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂。
技术介绍
1、随着电子产品的发展，对高表面质量的玻璃片需求量越来越大，这就需要提高抛光的技术要求。
2、铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一，因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高等优点，故比其他抛光粉(如fe2o3红粉)的使用效果佳，而被人们称为“抛光粉之王”。铈基抛光粉主要应用于玻璃抛光减薄，如液晶面板、手机盖板、光学玻璃等领域。
3、对于玻璃减薄领域，稀土抛光粉作为其重要原料，它的质量直接影响到玻璃的质量及效率。
4、目前，液晶面板厂家在其生产过程中，主要针对切削率、持久性、划伤、清洗、糊盘这几个方面作为主要的考核指标。
5、通常情况下，在切削率及划伤方面，主要通过粉体的灼烧温度及粉碎分级的粒度进行控制。
6、由于稀土抛光粉具有表面粘附性较强的独特性，因而，明显不同于硅溶胶等，其在后期的玻璃清洗及抛光垫清洁上，需通过助剂对其进行调整，故其助剂的配方会直接影响到切削率、持久性、清洗和糊盘等。
7、对于tft-lcd客户，糊盘问题又会体现为切削力持久性差，因而，客户端需不断的对抛光垫盘面进行刷盘、修盘，从而，影响整体抛光效率；对于ito的客户，切削力持久性变差后，平整度指标超标严重，镀膜后易出现彩虹条纹。因此，一般生产车间会在8小时左右对抛光垫及台面进行清理整洁，只要控制在8小时以内不糊盘，即可认为抛光垫改善糊盘效果较优。
8、抛光垫
9、中国专利(专利申请号为201410757848)公开的“一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液”，该专利技术抛光液包括二氧化硅溶胶、碱性化合物、去离子水余量，还包括聚阴离子纤维素、小分子无机非金属桥联剂、水溶性聚合物和胍基化合物。该专利技术的抛光液减少抛光垫表面毛囊磨损及内部孔的堵塞，显著延长硅晶片最终抛光过程中的抛光垫使用寿命；同时提高了最终抛光后硅晶片表面均匀性。但是该专利的应用范围仅为半导体衬底硅晶片，并不适用tft和ito玻璃减薄抛光。
10、另一中国专利(专利申请号为201310184331.0)公开的“一种氧化镧铈稀土抛光粉及其制备方法”，该专利技术中的助剂配方，可以使研磨颗粒能保持良好的分散、悬浮性，降低沉淀固化的硬度，稳定生产工艺，提高研磨质量和生产效率。
11、还有中国专利(专利申请号为201911356139.9)公开的“一种用于玻璃面板抛光的稀土抛光液及利用其抛光的方法”，其为了解决现有的消泡性能差的问题，提供一种用于玻璃面板抛光的稀土抛光液，包括以下成分的质量百分数：稀土磨粉：40％～45％，所述稀土磨粉含有氧化铈、氧化镧、氧化镨和氟元素，且所述氧化铈：氧化镧：氧化镨：氟元素的重量比为66～67：30～32：0.08～0.15：2.5～3.0；消泡剂：1.0％～1.5％；植物油：1.0％～1.5％；余量为水；且利用该抛光液的抛光方法是通过采用上述抛光液对玻璃面板进行抛光处理。该专利技术能够实现高化学抛光活性和高分散性，且实现有效消泡能力和使用寿命长的效果。
12、还有中国专利(专利申请号为201110228791.x)公开的“氟氧化镧铈稀土抛光液及其制备方法”，所述氟氧化镧铈稀土抛光液，以水为载体，含有氟氧化镧铈抛光粉、分散剂和ph值调节剂；分散剂的含量为抛光液总质量的0.5～1wt％，ph值调节剂的用量，以抛光液ph值达到8.5-10.0为准，所述抛光液质量固含量为25-45wt％，铈占镧铈总质量的60-80wt％，氟的质量分数为氟氧化镧铈总质量的3-5wt％。该专利技术对氧化硅玻璃具有悬浮性稳定性高、抛光速率快、划伤少和耐磨性高的性能特征，对应稀土颗粒粒度小，通过添加ph值调节剂和有机分散剂，从而延缓了液料中磨料的沉降，提高了抛光液对玻璃基片的抛光速率，并减少了划伤的发生。
13、还有中国专利(专利申请号为201410634606.0)公开的“稀土抛光液及其制备方法”，所述稀土抛光液，包括如下重量份的组分：稀土抛光粉20-50份，有机溶剂3-15份，粘土1-5份，水30～76份。该专利技术解决了抛光粉在水中的悬浮分散，克服了目前抛光液在制备、储存过程中的胶连问题及使用过程中具有良好清洗问题，具有悬浮分散性能好、抛光速率快、抛光精度高、抛光制品的清洗性能优异等特点。该专利技术适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密密器件的表面抛光加工，满足了日益严格的商业对抛光材料在精度、抛蚀量、易清洗等抛光良率的要求。
14、上述诸多专利的稀土抛光粉/液，为改善其切削率、划伤、清洗等问题，均是简单的从浆料或粉体的悬浮性和分散性入手，去解决问题，这对于小尺寸(抛光垫直径800mm以下)抛光垫的抛光机台来说，抛光垫糊盘的影响可忽略。
15、但是对于tft和ito玻璃应用大型抛光机台(抛光垫直径800mm以上，抛光垫为聚氨酯)进行减薄抛光时，其抛光垫糊盘所引起的切削率持久性差的问题尤为突出，上述诸多专利的稀土抛光粉/液并无涉及，且相关公开文献也并无报道。
16、因此，针对上述技术问题，有必要开发一种专门用于解决tft和ito玻璃大型抛光机台的抛光垫糊盘的抛光剂。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是提供一种无泡、不易糊盘、使用方便、切削率持久性好、且适合tft和ito玻璃应用大型抛光机台(即：抛光垫直径800mm以上)进行减薄抛光的稀土抛光剂。
2、为解决上述技术问题，本专利技术采取的技术方案是专利技术一种改善tft和ito玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其包括以下重量份的原料：
3、稀土抛光粉100 粘土1-4
4、磷酸盐1-3 马来酸丙烯酸共聚物钠盐1-3；
5、其中，所述粘土为高岭土、膨润土、蒙脱土的一种或几种，其粒度d50为1-3μm，d100为13.54μm以下，大颗粒800ppm以下(大颗粒为孔径15μm以上筛网的筛上物)，当为两种或三种时，各组分的配比为等重量份；优选化妆品级的膨润土；
6、粒度采用马尔文粒度仪2000测试；
7、所述磷酸盐为正磷酸钠、三聚磷酸钠的一种或两种，当为两种时，各组分的配比为等重量份；优选食品级的三聚磷酸钠；
8、所述马来酸丙烯酸共聚物钠盐的平均分子量为20000-30000；
9、所述稀土抛光粉符合《gb/t20165-2012》标准，且其粒度d50为0.8-2.0μm。
10、所述大颗粒的检测方法如下：取1l的烧杯，加水400ml，然后加入20g重量浓度10％的六偏磷酸钠溶液，开磁本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
2.根据权利要求1所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，所述大颗粒的检测方法如下：取1L的烧杯，加水400ml，然后加入20g重量浓度10％的六偏磷酸钠溶液，开磁力搅拌，边搅拌边慢慢加入10g粘土，搅拌30min，直至分散完全，最后用超声波破碎仪破碎5min，得浆料；然后，将该浆料在15μm筛网上进行过滤，直至全部完成，筛上物用纯水洗涤3次，最后将筛上物在105℃烘箱中烘干，得大颗粒。
3.根据权利要求1所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
4.根据权利要求1所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
5.根据权利要求1所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
6.根据权利要求1所述改善TFT和IT
7.根据权利要求1所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
8.根据权利要求1所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
9.根据权利要求1-8中任一项所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于：所述马来酸丙烯酸共聚物钠盐的平均分子量为22000-28000。
10.根据权利要求9所述改善TFT和ITO玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于：所述马来酸丙烯酸共聚物钠盐的平均分子量为25000。
...【技术特征摘要】
1.一种改善tft和ito玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
2.根据权利要求1所述改善tft和ito玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，所述大颗粒的检测方法如下：取1l的烧杯，加水400ml，然后加入20g重量浓度10％的六偏磷酸钠溶液，开磁力搅拌，边搅拌边慢慢加入10g粘土，搅拌30min，直至分散完全，最后用超声波破碎仪破碎5min，得浆料；然后，将该浆料在15μm筛网上进行过滤，直至全部完成，筛上物用纯水洗涤3次，最后将筛上物在105℃烘箱中烘干，得大颗粒。
3.根据权利要求1所述改善tft和ito玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
4.根据权利要求1所述改善tft和ito玻璃减薄过程中大型抛光垫易糊盘的稀土抛光剂，其特征在于，包括以下重量份的原料：
5.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：伍雅峰，李敬三，刘韦，高利鸣，彭付贵，
申请(专利权)人：湖南皓志科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。