【技术实现步骤摘要】
本公开涉及防止相邻的像素之间的电流的泄漏并且改善接触的显示装置及其制造方法。
技术介绍
1、发射式显示装置是通过将电压施加到包括正电极、负电极以及位于这两个电极之间的发射层的薄膜层而通过发射层中的电子和空穴的复合来发射光的自发光型显示装置。由于诸如宽视角、快响应速度和低功耗以及重量轻且薄的优点，发射式显示装置作为下一代显示装置正在引起关注。
2、发射式显示装置包括发光器件(led)。发射式显示装置具有其中以功能薄膜形式的发射光的发射层插置在阳极与阴极之间的结构，其中从阳极注入空穴并且从阴极注入电子，并且电子和空穴在发射层中结合以形成当它们复合时发射光的激子。
3、近来，随着使用高分辨率显示装置，一个像素的尺寸减小并且相邻的像素之间的距离变窄。
技术实现思路
1、实施方式致力于提供一种显示装置及其制造方法，其防止高分辨率显示装置中的侧电流泄漏并且改善电极接触。
2、根据本公开的实施方式，显示装置可包括：布置在衬底上的多个晶体管、布置在多个晶体管上的绝缘层、布置在绝缘层上并且电连接到多个晶体管的第一电极、布置在绝缘层上的分隔壁、布置在分隔壁和第一电极上的公共层、布置在公共层上的发射层、布置在发射层上的第二电极、以及布置在第二电极上的辅助层，其中分隔壁可包括槽，并且槽的内部宽度可大于槽的入口宽度。
3、辅助层的厚度可在大约至大约的范围内。
4、辅助层的厚度可是均匀的。
5、辅助层可是透明层。
6、辅助层可
7、槽的内部宽度可大于或等于槽的入口宽度的大约1.5倍。
8、槽的入口宽度可在大约0.5μm至大约3μm的范围内。
9、分隔壁可包括无机材料。
10、公共层可布置在槽中。
11、布置在第一电极上的公共层可被槽分开。
12、公共层可是空穴注入层。
13、发射层可阻挡槽的入口。
14、发射层可布置在槽中。
15、槽的高度可大于公共层的厚度并且小于发射层的厚度。
16、根据本公开的实施方式，显示装置的制造方法可包括：制备包括多个晶体管以及连接到多个晶体管的第一电极的衬底，在衬底上形成金属图案，在金属图案上形成分隔壁，图案化分隔壁以形成在平面图中与金属图案重叠的开口，通过蚀刻金属图案在分隔壁中形成槽，在分隔壁和第一电极上形成公共层，在公共层上形成发射层，在发射层上形成第二电极，以及在第二电极上形成辅助层。可通过原子层沉积法执行辅助层的形成。
17、辅助层的厚度可在大约至大约的范围内。
18、辅助层可包括tin、w、mo、ta、ti、al、氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化锌锡(zto)、氧化铜铟(cio)、氧化铜锌(czo)、氧化镓锌(gzo)、氧化铝锌(azo)、氧化锡(sno2)、氧化锌(zno)和氧化铟镓锌(igzo)中的至少一种。
19、公共层可布置在槽中。
20、根据实施方式，能够提供防止高分辨率显示装置中的侧电流泄漏并且改善电极接触的显示装置及其制造方法。
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1.一种显示装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅助层的厚度在至的范围内。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅助层的厚度是均匀的。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅助层是透明层。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述槽的所述内部宽度大于或等于所述槽的所述入口宽度的1.5倍。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述槽的所述入口宽度在0.5μm至3μm的范围内。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述公共层布置在所述槽中。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，布置在所述第一电极上的所述公共层被所述槽分开。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述发射层布置在所述槽中。
【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅助层的厚度在至的范围内。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅助层的厚度是均匀的。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅助层是透明层。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述槽的所述内部宽度...
【专利技术属性】
技术研发人员：申铉亿，李东敏，全祐奭，郑镕彬，丁有光，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：
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