【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学成像，特别涉及一种紫外光刻物镜及光刻机。
技术介绍
1、由于近些年来国内对半导体行业自给自足的迫切需求，使得国内半导体行业自研飞速发展。其中，光刻技术是半导体制造中的核心工艺之一，通过将光刻掩膜上的图案精确复制到硅片表面来制造微电子器件。随着技术的发展和市场需求的变化，半导体制造领域对大面积曝光的需求越来越高。现有光刻物镜由于曝光面积有限，需要多次重复曝光，增加了工艺时间，降低了生产效率，多次重复曝光不仅增加了工艺时间，还增加了材料和设备的使用成本。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的是提出一种紫外光刻物镜及光刻机，旨在解决现有技术中光刻成本高、效率低以及大面积曝光困难的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提出一种紫外光刻物镜，具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述紫外光刻物镜包括由物侧到像侧依次布置的物面、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组、第六透镜组、第七透镜组以及像面；
3、其中，所述第一透镜组包括光焦度为负的第一透镜，所述第二透镜组包括光焦度为正的第二透镜、光焦度为正的第三透镜以及光焦度为正的第四透镜，所述第三透镜组包括光焦度为负的第五透镜以及光焦度为负的第六透镜，所述第四透镜组包括光焦度为正的第七透镜以及光焦度为正的第八透镜，所述第五透镜组包括光焦度为负的第九透镜、光焦度为正的第十透镜以及光焦度为正的第十一透镜，所述第六透镜组包括光焦度为正的第十二透镜、光焦度为正的第十三透镜以及光焦度为负的第十四
4、在一实施方式中，所述紫外光刻物镜还包括光阑，所述光阑设置在所述第十一透镜与所述第十二透镜之间。
5、在一实施方式中，所述紫外光刻物镜的光路结构为双远心结构。
6、在一实施方式中，所述第一透镜为双凹透镜；
7、所述第二透镜为平凸透镜，其像侧表面为凸面；
8、所述第三透镜为双凸透镜；
9、所述第四透镜为凹凸透镜，其物侧表面为凸面；
10、所述第五透镜为双凹透镜；
11、所述第六透镜为双凹透镜；
12、所述第七透镜为凹凸透镜，其物侧表面为凹面
13、所述第八透镜为双凸透镜；
14、所述第九透镜为双凹透镜；
15、所述第十透镜为凹凸透镜，其物侧表面为凹面；
16、所述第十一透镜为双凸透镜；
17、所述第十二透镜为双凸透镜；
18、所述第十三透镜为凹凸透镜，其物侧表面为凸面；
19、所述第十四透镜为双凹透镜；
20、所述第十五透镜为双凸透镜；
21、所述第十六透镜为凹凸透镜，其物侧表面为凸面；
22、所述第十七透镜为凹凸透镜，其物侧表面为凸面。
23、在一实施方式中，所述物方的主波长远心度为a，所述像方的主波长远心度为b，其中-0.27°≤a≤0.27°，-0.27°≤b≤0.27°。
24、在一实施方式中，所述紫外光刻物镜中各个透镜组中各个透镜的材料包括光明f4gti、光明h-fk61、光明qf50gti、光明h-k90gti以及康宁hpfs7980中的任意一种。
25、在一实施方式中，所述紫外光刻物镜的工作波长在374.5nm到380.5nm之间。
26、本专利技术还提出一种光刻机，所述光刻机包括上述的紫外光刻物镜，所述紫外光刻物镜具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述紫外光刻物镜包括由物侧到像侧依次布置的物面、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组、第六透镜组、第七透镜组以及像面；
27、其中，所述第一透镜组包括光焦度为负的第一透镜，所述第二透镜组包括光焦度为正的第二透镜、光焦度为正的第三透镜以及光焦度为正的第四透镜，所述第三透镜组包括光焦度为负的第五透镜以及光焦度为负的第六透镜，所述第四透镜组包括光焦度为正的第七透镜以及光焦度为正的第八透镜，所述第五透镜组包括光焦度为负的第九透镜、光焦度为正的第十透镜以及光焦度为正的第十一透镜，所述第六透镜组包括光焦度为正的第十二透镜、光焦度为正的第十三透镜以及光焦度为负的第十四透镜，所述第七透镜组包括光焦度为正的第十五透镜、光焦度为正的第十六透镜以及光焦度为负的第十七透镜，以使得所述紫外光刻物镜的物方数值孔径达到0.09，像方有效视场达到25mm。
28、本专利技术提供的技术方案，通过设置负光焦度的所述第一透镜，有利于光学系统光线的收集，可有效增大视场范围；通过设置正光焦度的所述第十五透镜，承担了系统较大的光焦度，改变光束的传播方向，校正轴外视场的像差，更有利于光束在像面上成像；该镜头的光线走势平缓，成像靶面大，在引入更多的光线的同时使结构更加紧凑，物方有效视场可以达到φ76mm，物方数值孔径可以达到0.09，像方有效视场可以达到φ25mm。在成像质量方面，理论光刻分辨力可达到0.7μm，基本符合清晰成像的要求。通过采用七个透镜组以及十七枚透镜，并合理设置各个透镜的光焦度以及形状配合关系，实现了低成本、高效率、曝光面积大的紫外光刻物镜。
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1.一种紫外光刻物镜，其特征在于，具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述紫外光刻物镜包括由物侧到像侧依次布置的物面、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组、第六透镜组、第七透镜组以及像面；
2.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述紫外光刻物镜还包括光阑，所述光阑设置在所述第十一透镜与所述第十二透镜之间。
3.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述紫外光刻物镜的光路结构为双远心结构。
4.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述第一透镜为双凹透镜；
5.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述物方的主波长远心度为A，所述像方的主波长远心度为B，其中-0.27°≤A≤0.27°，-0.27°≤B≤0.27°。
6.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述紫外光刻物镜中各个透镜组中各个透镜的材料包括光明F4GTI、光明H-FK61、光明QF50GTI、光明H-K90GTI以及康宁HPFS7980中的任意一种。
7.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，
8.一种光刻机，其特征在于，包括如权利要求1至7任意一项所述的紫外光刻物镜。
...【技术特征摘要】
1.一种紫外光刻物镜，其特征在于，具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述紫外光刻物镜包括由物侧到像侧依次布置的物面、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组、第六透镜组、第七透镜组以及像面；
2.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述紫外光刻物镜还包括光阑，所述光阑设置在所述第十一透镜与所述第十二透镜之间。
3.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述紫外光刻物镜的光路结构为双远心结构。
4.如权利要求1所述的紫外光刻物镜，其特征在于，所述第一透镜为双凹透镜；
5.如权利要求1所述的紫外...
【专利技术属性】
技术研发人员：樊凯，朱红伟，邱盛平，
申请(专利权)人：成都联江科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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