【技术实现步骤摘要】
本技术涉及石墨电极生产，具体是指一种石墨电极浸渍罐装置。
技术介绍
1、石墨电极主要以石油焦、针状焦为原料，煤沥青做结合剂，经煅烧、配料、混捏、压型、焙烧、石墨化、机加工而制成，是在电弧炉中以电弧形式释放电能对炉料进行加热熔化的导体，根据其质量指标高低，可分为普通功率石墨电极、高功率石墨电极和超高功率石墨电极。石墨电极的生产需要对其进行浸渍；
2、现有的石墨电极用浸渍装置包括一体式的浸渍罐本体，将需要浸渍的石墨电极放置在浸渍罐内，然后导入浸渍液，浸泡一段时间之后将浸渍液释放取出，即可完成浸渍操作，将石墨电极取出进行下一步操作，但是浸渍液不可避免具有一定的腐蚀效果，长时间粘连在浸渍罐内壁和其它组件上会造成浸渍罐的损伤，因此需要一种具有清洗功能的石墨电极浸渍罐装置。
技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题是浸渍罐内的液体残留容易产生腐蚀现象，从而影响使用，提供一种具有清洗功能的石墨电极浸渍罐装置。
2、为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：一种石墨电极浸渍罐装置，包括浸渍罐主体和稳定底座，所述浸渍罐主体位于稳定底座顶面设置，所述浸渍罐主体内设有放置网框，所述浸渍罐主体上设有浸渍液导入管，所述浸渍罐主体顶面设有凹槽，所述放置网框顶面设有配合凹槽的限位板，所述稳定底座顶面设有位于浸渍罐主体后侧的一组支撑板，所述支撑板顶端共同连接设有位于浸渍罐主体顶端的顶板，所述稳定底座顶面设有位于支撑板之间的液压伸缩杆，所述液压伸缩杆顶端输出端连接设有与浸渍罐主体配套的盖板
3、作为改进，所述支撑板靠近浸渍罐主体一侧壁体设有限位滑槽，所述限位滑槽内均配套滑动设有与盖板固定连接的限位滑块，对盖板的移动进行支撑限位。
4、作为改进，所述盖板顶面设有与电磁铁电性连接的供电块，供电块为电磁铁供电。
5、作为改进，所述盖板底面设有紧贴浸渍罐主体内壁的密封圈，密封圈可以在浸渍时对浸渍罐主体进行密封，保证浸渍效果。
6、作为改进，所述稳定底座顶面设有配合浸渍罐主体的安装槽，所述浸渍罐主体前侧壁体底端连通设有排出管，所述稳定底座上设有配合排出管的卡槽，方便对浸渍罐主体进行安装固定。
7、作为改进，述稳定底座顶面均匀设有多个位于安装槽四周的减震器，所述浸渍罐主体外壁固定设有与减震器螺接的环形板，提高浸渍罐主体的稳定性。
8、本技术与现有技术相比的优点在于：通过电磁铁与放置网框上磁吸块的配套设置可以将放置网框从浸渍罐主体内取出进行清洗，然后浸渍罐主体内部底端的一组电动推杆可以推动移动刮板对浸渍罐主体内壁进行刮动清洗，减少浸渍液等杂质的残留，保证浸渍罐主体的使用年限。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种石墨电极浸渍罐装置，包括浸渍罐主体(1)和稳定底座(2)，所述浸渍罐主体(1)位于稳定底座(2)顶面设置，所述浸渍罐主体(1)内设有放置网框(3)，所述浸渍罐主体(1)上设有浸渍液导入管(4)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种石墨电极浸渍罐装置，其特征在于：所述支撑板(7)靠近浸渍罐主体(1)一侧壁体设有限位滑槽(15)，所述限位滑槽(15)内均配套滑动设有与盖板(10)固定连接的限位滑块(16)。
3.根据权利要求1所述的一种石墨电极浸渍罐装置，其特征在于：所述盖板(10)顶面设有与电磁铁(11)电性连接的供电块(17)。
4.根据权利要求1所述的一种石墨电极浸渍罐装置，其特征在于：所述盖板(10)底面设有紧贴浸渍罐主体(1)内壁的密封圈(18)。
5.根据权利要求1所述的一种石墨电极浸渍罐装置，其特征在于：所述稳定底座(2)顶面设有配合浸渍罐主体(1)的安装槽(19)，所述浸渍罐主体(1)前侧壁体底端连通设有排出管(20)，所述稳定底座(2)上设有配合排出管(20)的卡槽(21)。
6.根据权利要求
...【技术特征摘要】
1.一种石墨电极浸渍罐装置，包括浸渍罐主体(1)和稳定底座(2)，所述浸渍罐主体(1)位于稳定底座(2)顶面设置，所述浸渍罐主体(1)内设有放置网框(3)，所述浸渍罐主体(1)上设有浸渍液导入管(4)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种石墨电极浸渍罐装置，其特征在于：所述支撑板(7)靠近浸渍罐主体(1)一侧壁体设有限位滑槽(15)，所述限位滑槽(15)内均配套滑动设有与盖板(10)固定连接的限位滑块(16)。
3.根据权利要求1所述的一种石墨电极浸渍罐装置，其特征在于：所述盖板(10)顶面设有与电磁铁(11)电性连接的供电块(17)。
4.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：王国军，栗鹏举，唐瑞仕，白利子，邱艳明，
申请(专利权)人：山西晋能集团大同能源发展有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。