【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及基板传送装置及基板传送装置异常判断方法，更具体地说，涉及用于检测多个末端执行器(end-effector)异常的基板传送装置及基板传送装置异常判断方法。
技术介绍
1、为了在半导体制造过程中执行单元工序，提供了适合每种工序特性的多个装置，并且每种不同类型的装置都配备了用于传送基板(如晶圆(wafer))的基板传送装置。
2、通常，半导体设施中的基板传送装置用于将基板从负载锁定室(load-lockchamber)传送到基板容纳部件(例如，foup、载体等)或从基板容纳部件传送到负载锁定室。
3、在批次处理型(batch type)基板处理装置中，多个基板被分多个阶段加载到负载锁定室内的基板船(substrate boat)上，然后对多个基板执行基板处理过程。在此，为了缩短基板传送时间(例如，加载时间)，基板传送装置可能具有两个或更多个末端执行器，并且可以一次从基板容纳部件卸下两个或更多个基板，然后加载到基板船上。
4、基板传送装置可能会出现异常情况，如多个末端执行器的下垂，当由于多个末端执行器的异常导致多个末端执行器之间的间隔发生变化时，基板进入基板船或基板容纳部件时可能会发生诸如划痕(scratch)等损坏，或者可能会发生诸如推倒和倾倒基板船等重大事故。
5、因此，为了解决这些问题，一种技术是检测末端执行器的下垂以确定多个末端执行器之间间隔的异常。
6、(专利文献1)韩国专利公开号10-2020-0130058
技术实现思路<
1、技术课题
2、本专利技术提供了一种基板传送装置，其检测多个末端执行器的异常，如末端执行器的下垂，以防止基板的缺陷传送，以及一种确定基板传送装置异常的方法。
3、解决问题的手段
4、根据本专利技术一个实施例的基板传送装置包括：多个末端执行器，其在第一方向上延伸并在与第一方向交叉的第二方向上多层布置以分别支撑基板；间隔调节单元，经配置以调整多个末端执行器之间的间隔；以及异常检测单元，经配置以检测多个末端执行器中每个的异常，其中多个末端执行器可包括：参考末端执行器，其位置固定；以及可变末端执行器，其相对于参考末端执行器调整与参考末端执行器的距离。
5、异常检测单元可包括发光部和受光部，其中发光部可包括多个光源，其数量与多个末端执行器的数量相对应。
6、多个光源可固定在第二方向上彼此不同的位置。
7、多个光源可包括：第一光源，对应于参考末端执行器；以及第二光源，在第二方向上提供在与第一光源不同的位置。
8、第二光源可以多个提供，并且彼此相邻的第一光源和第二光源之间的距离可能与彼此相邻的第二光源之间的距离不同。
9、彼此相邻的第一光源和第二光源之间的距离可能大于或等于多个末端执行器之间的最小间隔，并且小于彼此相邻的第二光源之间的距离。
10、异常检测单元可包括：光量测量部件，经配置以测量受光部接收的光量；以及异常判断部件，经配置以通过测量的光量确定多个末端执行器中每个的异常。
11、异常检测单元可进一步包括判断标准存储部分，经配置以根据多个末端执行器之间的间隔存储受光部接收的光量。
12、可变末端执行器可以多个提供，并且多个可变末端执行器可相对于参考末端执行器对称布置。
13、根据本专利技术另一实施例的基板传送装置异常判断方法包括：在调整包括参考末端执行器和可变末端执行器的多个末端执行器之间的间隔时，针对多个末端执行器的每个间隔存储从异常检测单元的发光部分接收到异常检测单元的受光部的光量；第一次测量在多个末端执行器之间的间隔设置为第一间隔的状态下受光部接收的光量；比较第一间隔下存储的光量与第一次测量中测量的光量；第二次测量在多个末端执行器之间的间隔设置为与第一间隔不同的第二间隔的状态下受光部接收的光量；以及比较第二间隔下存储的光量与在第二次测量中测量的光量。
14、第二间隔下存储的光量可能与第一间隔下存储的光量不同。
15、当第一间隔下存储的光量与在第一次测量中测量的光量之间的差异在允许误差范围内时，可执行第二次测量。
16、该方法可进一步包括额外测量在多个末端执行器之间的间隔设置为除第一间隔和第二间隔以外的间隔的状态下受光部接收的光量，以与存储在除第一间隔和第二间隔以外的间隔下的光量进行比较。
17、发光部可包括多个光源，其数量与多个末端执行器的数量相对应，并且第一间隔和第二间隔可根据多个光源的位置来确定。
18、在正常状态下，多个光源中对应于参考末端执行器的第一光源发出的光可能至少部分被参考末端执行器阻挡。
19、多个光源可进一步包括设置在与第一光源不同位置的第二光源，并且在相邻的第一光源和第二光源之间可能设置一个或更少的可变末端执行器。
20、多个末端执行器之间的间隔可通过驱动电机来调整，并且该方法可进一步包括存储第一间隔和第二间隔的电机编码器(motor encoder)值。
21、可变末端执行器可以多个提供，并且多个可变末端执行器可相对于参考末端执行器对称设置。
22、专利技术效果
23、根据本专利技术实施例的基板传送装置可通过异常检测单元检测多个末端执行器(end-effector)的异常，以在传送基板之前识别末端执行器的异常，从而预先防止由于末端执行器的传送缺陷而导致基板损坏和/或基板船倾倒的情况发生。
24、在此，异常检测单元可包括发光部和受光部，并且发光部可包括多个光源，其数量与多个末端执行器的数量相对应，以有效检测多个末端执行器中每个的下垂。
25、此外，多个光源可包括对应于参考末端执行器的第一光源和设置在与第一光源不同位置(在第二方向上)的第二光源，并且第一光源和第二光源可固定在彼此不同的位置(在第二方向上)。在这种情况下，第一光源可在正常状态下向参考末端执行器照射光(例如，直射光)，并通过间隔调节单元调整多个末端执行器之间的间隔，因此，即使通过间隔调节单元调整多个末端执行器之间的间隔，也可以在不移动(或调整)多个光源位置的情况下检测多个末端执行器的异常。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板传送装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于，所述异常检测单元包括发光部和受光部，
3.根据权利要求2所述的基板传送装置，其特征在于，所述多个光源在所述第二方向上固定在彼此不同的位置。
4.根据权利要求2所述的基板传送装置，其特征在于，所述多个光源包括：
5.根据权利要求4所述的基板传送装置，其特征在于，所述第二光源以多个提供，并且
6.根据权利要求5所述的基板传送装置，其特征在于，所述第一光源与相邻的所述第二光源之间的距离大于或等于所述多个末端执行器之间的最小间隔，并且小于相邻的所述第二光源之间的距离。
7.根据权利要求2所述的基板传送装置，其特征在于，所述异常检测单元包括：
8.根据权利要求7所述的基板传送装置，其特征在于，所述异常检测单元还包括判断标准存储部分，其被配置为根据所述多个末端执行器之间的间隔存储所述受光部接收的光量。
9.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于，所述可变末端执行器以多个提供，并且
10.一
11.根据权利要求10所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，所述第二间隔下存储的光量与所述第一间隔下存储的光量不同。
12.根据权利要求10所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，当所述第一间隔下存储的光量与在所述第一次测量中测量的光量之间的差异在允许的误差范围内时，执行所述第二次测量。
13.根据权利要求10所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，还包括额外测量在所述多个末端执行器之间的间隔设置为除所述第一间隔和所述第二间隔之外的间隔的状态下所述受光部接收的光量，以与存储在除所述第一间隔和所述第二间隔之外的间隔下的光量进行比较。
14.根据权利要求10所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，所述发光部包括以与所述多个末端执行器的数量相对应的数量提供的多个光源，并且
15.根据权利要求14所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，在正常状态下，从所述多个光源中对应于所述参考末端执行器的第一光源发出的光至少部分被所述参考末端执行器阻挡。
16.根据权利要求15所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，所述多个光源还包括设置在与所述第一光源不同位置的第二光源，并且
17.根据权利要求14所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，所述多个末端执行器之间的间隔通过驱动电机来调整，并且
18.根据权利要求10所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，所述可变末端执行器以多个提供，并且
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板传送装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于，所述异常检测单元包括发光部和受光部，
3.根据权利要求2所述的基板传送装置，其特征在于，所述多个光源在所述第二方向上固定在彼此不同的位置。
4.根据权利要求2所述的基板传送装置，其特征在于，所述多个光源包括：
5.根据权利要求4所述的基板传送装置，其特征在于，所述第二光源以多个提供，并且
6.根据权利要求5所述的基板传送装置，其特征在于，所述第一光源与相邻的所述第二光源之间的距离大于或等于所述多个末端执行器之间的最小间隔，并且小于相邻的所述第二光源之间的距离。
7.根据权利要求2所述的基板传送装置，其特征在于，所述异常检测单元包括：
8.根据权利要求7所述的基板传送装置，其特征在于，所述异常检测单元还包括判断标准存储部分，其被配置为根据所述多个末端执行器之间的间隔存储所述受光部接收的光量。
9.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于，所述可变末端执行器以多个提供，并且
10.一种基板传送装置异常判断方法，其特征在于，所述方法包括：
11.根据权利要求10所述的基板传送装置异常判断方法，其特征在于，所述第二间隔下存储的光量与所述第一间隔下存储的光量不同...
【专利技术属性】
技术研发人员：玄俊镇，宋炳奎，闵祯基，高炯植，裴亨焕，
申请(专利权)人：株式会社尤金科技，
类型：发明
国别省市：
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