【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及了电磁屏蔽玻璃的制备领域，具体涉及了一种电磁屏蔽镀膜层、电磁屏蔽玻镀膜璃及其制备方法。
技术介绍
1、随着电子、计算机技术的不断发展，多种多样的电气和电子设备已广泛应用于国民经济的各个方面，而且还在继续迅速地扩大。这导致人们身边充满了各类人造电磁辐射，电磁干扰现象也随之增大并日趋严重，它不仅在通信领域中对信号的产生、传播和接收造成了极大的影响，而且给人类社会的生产与生活带来了不容忽视的危害。为了解决电子系统与电子设备间的电磁干扰，防止电磁信息泄漏，防护电磁辐射污染；有效保障仪器设备正常工作，保障机密信息的安全，保障工作人员身体健康，电磁屏蔽产品的应用逐渐广泛。
2、当前，电磁屏蔽玻璃主要分为三类：夹金属丝网电磁屏蔽玻璃、镀膜电磁屏蔽玻璃、以及夹金属丝网和镀膜电磁屏蔽玻璃的复合产品，它们是利用屏蔽材料的导电性和磁性将电磁波反射或吸收，达到电磁屏蔽的目的。其主要作用是形成电磁隔离，对屏蔽体内的空间进行电磁防护，电磁波到达屏蔽体，但是电磁波的屏蔽效应有限，还会存在不能满足一些特殊领域的应用需求。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于：针对现有技术电磁屏蔽玻璃存在电磁屏蔽效果有限，不能满足特殊领域的应用需求的问题，本申请提供一种电磁屏蔽镀膜层、电磁屏蔽镀膜玻璃及其制备方法，电磁屏蔽镀膜层包括三层银基导电膜层，通过限定每层银基导电膜层材料以及厚度，能够控制电磁屏蔽镀膜层的面电阻降到1.0ω/sq以下，表现出突出的电磁屏蔽效能。
2、同时，现有技术电磁屏
3、本申请提供的电磁屏蔽镀膜玻璃增加了吸波材料涂层，经过吸波材料层和屏蔽材料层的组合应用，实现电磁波的反射率低和透过率低，可有效提升电磁屏蔽玻璃的电磁阻挡和吸收效果，电磁屏蔽效能相比仅使用电磁屏蔽镀膜层的玻璃可提升70％以上，最大电磁反射衰减可达到30db以上，实现了电磁屏蔽玻璃的功能全面性，提高屏蔽效能，取得了意想不到的技术效果。
4、为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案为：
5、一种电磁屏蔽镀膜层，自玻璃基片向外依次叠设三层银基导电膜层，每层银基导电膜层从内向外依次叠设有sin层、第一azo层、ag层和第二azo层；
6、其中，sin层的厚度为30～40nm；第一azo层和第二azo层的厚度分别为5～10nm；ag层的厚度为10～15nm。
7、本申请提供了一种包括三层银基导电膜层的电磁屏蔽镀膜层，每层银基导电膜层从内向外依次叠设有sin层、第一azo层、ag层和第二azo层；其中，sin层的厚度为30～40nm；第一azo层和第二azo层的厚度分别为5～10nm；ag层的厚度为10～15nm。通过限定每层银基导电膜层材料以及厚度，能够控制电磁屏蔽镀膜层的面电阻降到1.0ω/sq以下，表现出突出的电磁屏蔽效能，相比ito导电膜，电磁屏蔽效能可提高60％以上，取得了意想不到的效果。
8、进一步的，最外层银基导电膜层的第二azo层外叠设有第二sin层，所述第二sin层的厚度为30～40nm。增加第二sin层可以进一步的对镀膜形成保护，提升玻璃电磁屏蔽质量。
9、本专利技术的另一目的是为了提供一种包括上述镀膜层的玻璃。
10、一种电磁屏蔽镀膜玻璃，包括第一玻璃基片，在所述第一玻璃基片上涂设有上述的电磁屏蔽镀膜层。
11、优选地，包括依次叠设的第一玻璃基片、上述的电磁屏蔽镀膜层、第一粘结层和第二玻璃基片。增加一层玻璃基片，实为增加了保护层，提升玻璃质量。
12、一种电磁屏蔽镀膜玻璃，包括依次叠设的第一玻璃基片、吸波材料涂层、第一粘结层、第二玻璃基片、如上述的电磁屏蔽镀膜层。
13、优选地，包括依次叠设的第一玻璃基片、吸波材料涂层、第一粘结层、第二玻璃基片、如上述的电磁屏蔽镀膜层、第二粘结层和第三玻璃基片。
14、本申请提供一种电磁屏蔽镀膜玻璃，增加了吸波材料涂层，先通过吸波材料涂层对入射电磁波进行吸收，吸收后有部分电磁波透过吸波层到达屏蔽材料层后进行反射、吸收损耗，被屏蔽材料反射的电磁波，再次经过吸波材料层的吸收。经过吸波材料层和屏蔽材料层的组合应用，实现电磁波的反射率低和透过率低，可有效提升电磁屏蔽玻璃的电磁阻挡和吸收效果，从而实现电磁屏蔽玻璃的功能全面性，提高屏蔽效能，取得了意想不到的技术效果。
15、进一步的，吸波材料涂层按重量份计包括以下原料混合制备得到的，环氧树脂50～60份；乙二醇单丁醚10～15份；聚醚硅氧烷化合物5～10份；铁氧体粉末20～30份。本专利技术提供了一种吸波材料涂层的配方，按照该配方进行吸波材料的制备，可以使得电磁屏蔽玻璃的电磁波吸收功能达到较高的效果。
16、进一步的，所述吸波材料涂层的厚度为20～40μm。研究发现，吸波材料涂层的厚度是影响电池屏蔽镀膜玻璃性能的关键性因素，厚度过小或过大，都会使得玻璃的电磁屏蔽效能和最大电磁反射衰减明显降低。优选地，所述吸波材料涂层的厚度为30～40μm。
17、进一步的，所述吸波材料涂层采用丝印印刷的方式涂覆在所述第一玻璃基片上的；其中，丝印过程中烘干的温度不高于180℃。研究发现，吸波材料采用丝印印刷的方式进行涂层，性能效果体现更佳，过高的烘干温度会降低玻璃性能。
18、进一步的，丝印过程中，丝网目数：120目～200目，烘干温度：150～180℃，烘干时间：10min～20min。
19、优选地，丝印过程中，烘干温度为170～180℃。
20、进一步的，制备过程中，完成合片后，加热辊压处理时，炉温低于200℃，出炉玻璃表面温度低于70℃。研究发现，电磁屏蔽玻璃的制备过程中，加热辊压中的炉温以及出炉玻璃表面的温度与最终玻璃性能有着密切的联系，温度过高会降低玻璃的性能。优选地，加热辊压处理过程中炉温为150～200℃，出炉玻璃表面温度为60～70℃。更优选地，加热辊压处理过程中炉温为180℃～200℃，出炉玻璃表面温度为60～65℃。
21、进一步的，所述第一玻璃基片、所述第二玻璃基片和所述第三玻璃基片的厚度分别为3～19mm。
22、本专利技术的又一目的是为了提供上述玻璃的制备方法。
23、一种上述的电磁屏蔽镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：
24、s1、将吸波材料混合均匀，采用丝印印刷的方式在所述第一玻璃基片上印刷形成吸波材料涂层；通过真空磁控溅射的方式，在第二玻璃基片上镀电磁屏蔽镀膜层；
25、s2、将所有的玻璃基片通过粘结层进行夹层合片加工；
26、s3、将合片利用夹层辊压设备进行加热辊压处理；
27、s4、将辊压后的产品送入高压釜中进行高温高压处理，得到电磁屏蔽镀膜玻璃。
28、本申请提供的一种电磁屏蔽镀膜玻璃的制备方法，操作简单，便于推广应用。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种电磁屏蔽镀膜层，其特征在于，自玻璃基片向外依次叠设三层银基导电膜层，每层银基导电膜层从内向外依次叠设有SiN层、第一AZO层、Ag层和第二AZO层；
2.根据权利要求1所述的电磁屏蔽镀膜层，其特征在于，最外层银基导电膜层的第二AZO层外叠设有第二SiN层，所述第二SiN层的厚度为30～40nm。
3.一种电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，包括第一玻璃基片，在所述第一玻璃基片上涂设有如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层；优选地，包括依次叠设的第一玻璃基片、如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层、第一粘结层和第二玻璃基片。
4.一种电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，包括依次叠设的第一玻璃基片、吸波材料涂层、第一粘结层、第二玻璃基片、如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层；优选地，包括依次叠设的第一玻璃基片、吸波材料涂层、第一粘结层、第二玻璃基片、如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层、第二粘结层和第三玻璃基片。
5.根据权利要求4所述的电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，吸波材料涂层按重量份计包括以下原料混合制备得到的，环氧树脂50～60份；乙二醇
6.根据权利要求4所述的电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，所述吸波材料涂层的厚度为20～40μm。
7.根据权利要求4所述的电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，所述吸波材料涂层采用丝印印刷的方式涂覆在所述第一玻璃基片上的；其中，丝印过程中烘干的温度不高于180℃。
8.根据权利要求4-7任意一项所述的电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，制备过程中，完成合片后，加热辊压处理时，炉温低于200℃，出炉玻璃表面温度低于70℃。
9.根据权利要求4-7任意一项所述的电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，所述第一玻璃基片、所述第二玻璃基片和所述第三玻璃基片的厚度分别为3～19mm。
10.一种如权利要求4-9任意一项所述的电磁屏蔽镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种电磁屏蔽镀膜层，其特征在于，自玻璃基片向外依次叠设三层银基导电膜层，每层银基导电膜层从内向外依次叠设有sin层、第一azo层、ag层和第二azo层；
2.根据权利要求1所述的电磁屏蔽镀膜层，其特征在于，最外层银基导电膜层的第二azo层外叠设有第二sin层，所述第二sin层的厚度为30～40nm。
3.一种电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，包括第一玻璃基片，在所述第一玻璃基片上涂设有如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层；优选地，包括依次叠设的第一玻璃基片、如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层、第一粘结层和第二玻璃基片。
4.一种电磁屏蔽镀膜玻璃，其特征在于，包括依次叠设的第一玻璃基片、吸波材料涂层、第一粘结层、第二玻璃基片、如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层；优选地，包括依次叠设的第一玻璃基片、吸波材料涂层、第一粘结层、第二玻璃基片、如权利要求1或2所述的电磁屏蔽镀膜层、第二粘结层和第三玻璃基片。
5.根据权利要求4所述的电磁...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜治强，王琦，张开志，吕宜超，范太勇，谭永帅，廖传根，
申请(专利权)人：四川南玻节能玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：
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