【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及部件的形成方法和等离子体处理装置。
技术介绍
1、近年来，等离子体处理装置中设置的部件，为了实现高功能化而结构变得复杂，存在由不同的材料粘接、或接合，来进行制作的情况(例如，参照专利文献1)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2018-46185号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的技术问题
2、在上述部件的制作中，有中空结构等复杂的结构，需要长时间的生产周期和开发周期，因此制作部件时耗费时间(lead time)增加，成为技术问题。要求减少部件的制造工艺中的步骤数，缩短耗费时间。
3、对于上述技术问题，其目的在于，在一侧面中，缩短制作部件时的耗费时间。
4、用于解决技术问题的方法
5、为了上述技术问题，依照一个方式，提供一种在等离子体处理装置内使用的部件的形成方法，所述部件的形成方法包括一边供给第1陶瓷的原料和与该第1陶瓷不同的第2陶瓷的原料，一边对所述第1陶瓷的原料和所述第2陶瓷的原料照射能量束的工序。
6、专利技术效果
7、根据本专利技术的一个方面，能够缩短制作部件时的耗费时间。
【技术保护点】
1.一种载置台，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：
3.如权利要求2所述的载置台，其特征在于：
4.如权利要求2所述的载置台，其特征在于：
5.如权利要求3所述的载置台，其特征在于：
6.如权利要求4所述的载置台，其特征在于：
7.如权利要求3所述的载置台，其特征在于：
8.如权利要求4所述的载置台，其特征在于：
9.如权利要求3所述的载置台，其特征在于：
10.如权利要求4所述的载置台，其特征在于：
11.一种等离子体处理装置用部件，其特征在于，包括：
12.如权利要求11所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
13.如权利要求12所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
14.如权利要求12所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
15.如权利要求13所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
16.如权利要求14所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
...【技术特征摘要】
1.一种载置台，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：
3.如权利要求2所述的载置台，其特征在于：
4.如权利要求2所述的载置台，其特征在于：
5.如权利要求3所述的载置台，其特征在于：
6.如权利要求4所述的载置台，其特征在于：
7.如权利要求3所述的载置台，其特征在于：
8.如权利要求4所述的载置台，其特征在于：
9.如权利要求3所述的载置台，其特征在于：
10.如权利要求4所述的载置台，其特征在于：
11.一种等离子体处理装置用部件，其特征在于，包括：
12.如权利要求11所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
13.如权利要求12所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
14.如权利要求12所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
15.如权利要求13所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
16.如权利要求14所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
17.如权利要求13所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
18.如权利要求14所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
19.如权利要求13所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
20.如权利要求14所述的等离子体处理装置用部件，其特征在于：
21.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
22.如权利要求21所述的等离子体处理装置，其特征在于：
23.如权利要求21或22所述的等离子体处理装置，其特征在于：
24.如权利要求21或22所述的等离子体处理装置，其特征在于：
25.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
26.如权利要求25所述的等离子体处理装置，其特征在于：
27.如权利要求26所述的等离子体处理装置，其特征在于：
28.如权利要求26或27所述的等离子体处理装置，其特征在于：
29.如权利要求26或27所述的等离子体处理装置，其特征在于：
30.如权利要求25或26所述的等离子体处理装置，其特征在于：
31.如权利要求25或26所述的等离子体处理装置，其特征在于：
32.一种等离子体处理装置用部件，其特征在于：
33.如权利要求32所述的等...
【专利技术属性】
技术研发人员：斋藤道茂，永关一也，金子彰太，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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