【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及抛光领域，具体涉及一种双面平皮带抛光机。
技术介绍
1、目前对于硅片双面抛光方式，基本上全部采用的是利用两个上下设置的抛光盘去实现抛光，然而上下设置的抛光盘在需要满足转动的同时，还需要垂直方向的一个压力去保证对产品试压抛光，由于这个垂直方向的压力导致驱动抛光盘转轴转动的力受限制，进而影响了抛光盘的转速，最终影响了抛光效率。
2、其次目前的抛光盘由于上下两端中心位置设有转轴，垂直方向的压力在施加时，抛光盘中心位置的压力往往是最大的，而越远离转轴位置其来自转轴的压力就会越小，最终导致越靠近抛光盘中心位置与远离抛光盘中心位置的产品抛光效果不同，由于硅片抛光是个高精密加工，上述抛光位置的区别往往会导致同一批抛光产品抛光质量差异较大。
3、针对上述问题，本专利技术设计制造了一种双面平皮带抛光机，来克服上述缺陷。
技术实现思路
1、对于现有技术中所存在的问题，本专利技术提供的一种双面平皮带抛光机，能够实现对产品的高速抛光，此外保证了游星轮上任意位置产品抛光质量的统一性。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：一种双面平皮带抛光机，包括支架，所述支架上设有下抛光皮带，所述下抛光皮带两侧设有游星轮驱动机构，两所述游星轮驱动机构上支撑且驱动有游星轮，所述游星轮位于下抛光皮带正上方，所述游星轮上可放置待抛光产品；
3、所述下抛光皮带正上方设有上抛光皮带，所述上抛光皮带设置在可升降结构上，所述可升降结构连接在所述支架上；
...【技术保护点】
1.一种双面平皮带抛光机，其特征在于，包括支架（1），所述支架（1）上设有下抛光皮带（2），所述下抛光皮带（2）两侧设有游星轮驱动机构（4），两所述游星轮驱动机构（4）上支撑且驱动有游星轮（3），所述游星轮（3）位于下抛光皮带（2）正上方，所述游星轮（3）上可放置待抛光产品；
2.根据权利要求1所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述游星轮驱动机构（4）包括拨盘（41），所述拨盘（41）上端面圆周均布有若干拨柱（42），所述游星轮（3）外圈的齿能够与拨盘（41）上的拨柱（42）配合，所述游星轮（3）能够担设在拨盘（41）上。
3.根据权利要求2所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述拨柱（42）距离拨盘（41）外圈侧壁一段距离。
4.根据权利要求1所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述上抛光皮带（5）与下抛光皮带（2）中间的间隙位置两端设有切削液喷出机构（7），所述切削液喷出机构（7）能够向游星轮（3）位置喷射出切削液。
5.根据权利要求4所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，还包括切削液循环系统（9），所述切削液喷
6.根据权利要求1所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述上抛光皮带（5）和下抛光皮带（2）上均设有皮带张紧机构。
7.根据权利要求6所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述皮带张紧机构包括内张紧轮（14）和/或外张紧轮（15）。
8.根据权利要求6所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述上抛光皮带（5）内圈设有上支撑架（10），所述上支撑架（10）设置在可升降结构（6）上，所述上平台（11）和皮带张紧机构均连接在所述上支撑架（10）上；
9.根据权利要求1所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述上平台（11）和下平台（13）均选用大理石平台。
10.根据权利要求1所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述下平台（13）或下支撑架（12）上设有压力传感器。
...【技术特征摘要】
1.一种双面平皮带抛光机，其特征在于，包括支架（1），所述支架（1）上设有下抛光皮带（2），所述下抛光皮带（2）两侧设有游星轮驱动机构（4），两所述游星轮驱动机构（4）上支撑且驱动有游星轮（3），所述游星轮（3）位于下抛光皮带（2）正上方，所述游星轮（3）上可放置待抛光产品；
2.根据权利要求1所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述游星轮驱动机构（4）包括拨盘（41），所述拨盘（41）上端面圆周均布有若干拨柱（42），所述游星轮（3）外圈的齿能够与拨盘（41）上的拨柱（42）配合，所述游星轮（3）能够担设在拨盘（41）上。
3.根据权利要求2所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述拨柱（42）距离拨盘（41）外圈侧壁一段距离。
4.根据权利要求1所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，所述上抛光皮带（5）与下抛光皮带（2）中间的间隙位置两端设有切削液喷出机构（7），所述切削液喷出机构（7）能够向游星轮（3）位置喷射出切削液。
5.根据权利要求4所述的一种双面平皮带抛光机，其特征在于，还包括切削液循环系统（9），所述切削液喷出...
【专利技术属性】
技术研发人员：李春峰，孙元航，
申请(专利权)人：山东精卫智能装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。